阴离子表面活性剂粉粒制造技术

本发明专利技术涉及一种阴离子表面活性剂粉粒，其特征在于，平均粒径为０．１ｍｍ以上、小于０．５ｍｍ，疏松容积密度为４００～１０００ｋｇ／ｍ↑［３］，压缩率为３～２５％，相对于粉粒总量，含有８０～１００重量％的阴离子表面活性剂。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及阴离子表面活性剂粉粒。更具体而言，涉及可适用于例如衣料用洗涤剂、厨房用洗涤剂、牙膏用发泡剂、洗发剂用粉体、乳化聚合用乳化剂、医药品用乳化剂、化妆品用乳化剂、水泥发泡剂等的阴离子表面活性剂粉粒。
技术介绍
将阴离子表面活性剂与其它表面活性剂或增效组分(builder)混合，可用于衣料用洗涤剂、厨房用洗涤剂、牙膏用发泡剂，以及医药品用乳化剂、化妆品用乳化剂及其它洗涤剂等。已知，现有的阴离子表面活性剂粉粒有，阴离子表面活性剂水溶液、浆水或膏状物(后文将其一律简记作阴离子表面活性剂水溶液)的干燥产物、或对其进一步实施粉碎、造粒而加工成粉末状、针状、条(needle)状、片状等的制品。并且，一直以来，在制造阴离子表面活性剂粉粒时，采用以阴离子表面活性剂水溶液等为原材料，除去水分进行干燥或实施干燥后的粉碎、造粒等二次加工来制造。例如，现有的颗粒状阴离子表面活性剂的制造方法有，利用含水量60～70重量％的低浓度浆喷雾干燥的方法(JP-A55-69698、JP-A53-39037)、固态成分浓度60～80重量％的烷基硫酸盐的高浓度浆料喷雾干燥的方法(JP-A54-106428)等喷雾干燥法的方法。而在JP-A2-222498中，则揭示了用真空薄膜干燥机干燥含水量20～35重量％的高浓度洗涤剂膏状物原料的方法。另外，在JP-A5-331496中，则揭示了向处于真空状态下的圆筒状容器内供给高密度洗涤剂用膏状物原料，利用可旋转板状桨叶尖端，在容器内壁面上形成高密度洗涤剂用膏状物原料薄膜，同时，快速干燥并用板状桨叶刮取，得到片状干燥物的方法。而在US-B5646107以及JP-A(W)2002-508783中，则揭示了利用闪蒸法或闪蒸干燥机干燥膏状物，同时制成颗粒的方法。在WO-A95/01959中，则揭示了烷基硫酸颗粒物的制造方法。
技术实现思路
本专利技术涉及一种阴离子表面活性剂粉粒，其特征在于，平均粒径为0.1mm以上、小于0.5mm，疏松容积密度为400～1000kg/m3，压缩率为3～25％，含有相对于粉粒总量为80～100重量％的阴离子表面活性剂。本专利技术涉及上述阴离子表面活性剂粉粒的制造方法，其特征在于，包括在减压状态下一边向具有搅拌叶片以及破碎叶片的造粒机内添加阴离子表面活性剂水溶液，一边在干燥的同时实施造粒的工序。具体实施例方式当使用阴离子表面活性剂粉粒时，其重要的性能是该阴离子表面活性剂粉粒迅速溶解；在与其它粉体原料混合使用的情况下，该阴离子表面活性剂粉粒均匀分散。之所以如此，是因为该阴离子表面活性剂粉粒优选平均粒径较小。而已知的平均粒径较小的阴离子表面活性剂粉粒有，例如上述专利文献所述的通过喷雾干燥得到的物质、干燥后实施粉碎处理使其粒径较小的粉粒。但由于喷雾干燥而得的阴离子表面活性剂粉粒的容积密度低，在运输、储藏时需要庞大的容积，为此而花费的费用也因此增加。另外，尽管干燥后实施了粉碎处理的阴离子表面活性剂粉粒的容积密度变得相对较高，但存在着会使流动性恶化、且会导致储藏时发生结块(caking)、明显有损于可操作性的问题。本专利技术即涉及溶解性和分散性好、且流动性好、抗结块性好的阴离子表面活性剂粉粒。本专利技术的阴离子表面活性剂粉粒的流动性好、不发生结块(caking)、溶解速度快、可均匀分散。且运输效率和填充效率也很高。阴离子表面活性剂本专利技术所用的阴离子表面活性剂无特别限定，可举出烷基或链烯基硫酸盐、聚氧化烯烷基醚硫酸盐或聚氧化烯链烯基醚硫酸盐、α-烯烃磺酸盐、烷基苯磺酸盐、α-磺基脂肪酸盐或酯盐、烷基醚羧酸盐或链烯基醚羧酸盐等。其中，考虑到发泡性、洗涤性能，优选为烷基或链烯基硫酸盐、聚氧化烯烷基醚硫酸盐或聚氧化烯链烯基醚硫酸盐，特别优选为烷基或链烯基硫酸盐。作为盐类，可举出碱金属盐、碱土金属盐、铵盐、链烷醇胺盐等。在这些盐中，优选为碱金属盐，还优选为钠盐、钾盐及其盐的混合物。这些阴离子表面活性剂中，特别优选为选自下述式(I)所示的烷基或链烯基硫酸盐以及下述式(II)所示的聚氧化烯烷基醚硫酸盐或聚氧化烯链烯基醚硫酸盐中的至少一种。(R1O-SO3)pM1(I)式中，R1表示碳原子数8～24的直链或支链的烷基或链烯基，M1表示阳离子，p表示M1的价数，为1或2。(R2O-(AO)mSO3)qM2(II)式中，R2表示碳原子数8～24的直链或支链的烷基或链烯基，A表示碳原子数2～4的链烯基，m个A可相同也可不同，m表示烯化氧的平均加成摩尔数，为0.05～20的数。M2表示阳离子，q表示M2的价数，为1或2。在通式(I)和(II)中，考虑到粉粒的抗结块性和溶解性等方面，优选为R1和R2的碳原子数为8～20、更优选为10～18。A优选为碳原子2～4、特别优选为2的亚烷基。为得到优良的粉体特性，并提高粉粒的抗结块性，m优选为0.05～2，更优选为0.1～1，特别优选为0.2～0.8。M1和M2优选为Na、K等碱金属原子，Ca、Mg等碱土金属原子，或烷醇取代或无机置换的铵基，更优选为碱金属原子，特别优选为Na。上述式(I)所示的烷基或链烯基硫酸盐可通过例如硫酸化碳原子数8～24、优选为8～20的醇(下文称之为高级醇)，然后再进行中和而得到。而式(II)所示的聚氧化烯烷基醚硫酸盐或聚氧化烯链烯基醚硫酸盐可通过例如使高级醇与烯化氧加成，使平均加成摩尔数为0.05～20、优选为0.05～2，得到高级醇的烯化氧加成产物，进行硫酸化，然后再中和得到。硫酸化与中和可通过已知方法实施。用于进行硫酸化的硫酸化试剂优选为三氧化硫或氯磺酸。当使用三氧化硫气体时，通常用惰性气体、优选为干燥空气或氮气稀释，以三氧化硫气体浓度为1～8体积％、优选为1.5～5体积％的气体混合物的方式使用。中和剂可举出氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠等。阴离子表面活性剂粉粒为能有效发挥阴离子表面活性剂本身的功能，相对于粉粒总量，本专利技术的阴离子表面活性剂粉粒含有80重量％以上、优选为90重量％以上、更优选为95重量％以上的阴离子表面活性剂。并且，考虑到操作性，阴离子表面活性剂的含量上限为100重量％以下，优选为98重量％以下。本专利技术的阴离子表面活性剂粉粒除阴离子表面活性剂之外，还可含有水溶性无机盐。水溶性无机盐可以举出例如氯化钠、芒硝、碳酸钠等。本专利技术的阴离子表面活性剂粉粒对其中的水溶性无机盐含量无特别限定，但为保证阴离子表面活性剂具有高固态成分量，相对于100重量份阴离子表面活性剂，阴离子表面活性剂的固态成分含量为10重量份以下，优选为2重量份以下。本专利技术的阴离子表面活性剂粉粒还可含有阴离子表面活性剂之外的表面活性剂。阴离子表面活性剂之外的表面活性剂可以举出阳离子表面活性剂、非离子表面活性剂。根据需要，本专利技术的阴离子表面活性剂粉粒还可含有其它添加剂。该其它添加剂可以举出例如硅酸盐、碳酸盐等碱剂；柠檬酸盐、沸石等2价金属离子捕捉剂；聚乙烯吡咯烷酮、羧甲基纤维素等抗再污染剂；抗结块剂；抗氧化剂等。这些其它添加剂可在不妨碍本专利技术目的实现的范围内使用。本专利技术的阴离子表面活性剂粉粒的平均粒径为0.1mm以上、小于0.5mm，而考虑到生产率和降低热负荷，优选为0.15mm以上、更优选为0.2mm以上。而考虑到高速溶解性、均匀分散性，优选为0.4mm以下、更优选为0.3本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阴离子表面活性剂粉粒，其特征在于，平均粒径为０．１ｍｍ以上、小于０．５ｍｍ，疏松容积密度为４００～１０００ｋｇ／ｍ↑［３］，压缩率为３～２５％，相对于粉粒总量，含有８０～１００重量％的阴离子表面活性剂。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：松元树，野元秀利，三好一仁，
申请(专利权)人：花王株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]