玻璃的辐射处理制造技术

制造玻璃的方法包括提供玻璃基材的步骤，此玻璃基材具有包含快速弛豫类型和慢速弛豫类型的结构。玻璃基材在低于玻璃基材的应变点(Tc)的整体温度(Tb)下提供。此方法还包括将玻璃基材暴露在一种可以部分激发玻璃结构而不会使Tb升高至高于Tc的辐射下的步骤。使玻璃基材以允许快速弛豫类型弛豫但慢速弛豫类型没有明显弛豫的方式暴露于辐射下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术总体涉及制备玻璃基材(glass substrate)的方法，更具体地，涉及包括将玻璃基材暴露在辐射下的方法。
技术实现思路
将玻璃基材用于液晶显示器(IXD)的应用是已知的。在制作(IXD)的过程中，已知热处理会引起收缩(compaction)，其中玻璃基材的体积和尺寸特征以不期望的方式改变。 玻璃收缩的驱动力可以用(尤其是)假想温度(fictive temperature) (Tf)与处理温度的差别表示，而收缩归因于由玻璃的假想温度向处理温度的演变。热处理过程之前的假想温度(Tf)取决于玻璃基材的初始形成过程。一般而言，迅速地形成的玻璃基材(例如通过融合下拉法(fusion draw))可以导致玻璃基材中“锁定(lock in)”较高的假想温度(Tf)。 为了减少(LCD)过程中的收缩驱动力，可以进行预收缩二次退火处理，试图降低在玻璃基材形成过程中初始设定的假想温度(Tf)。玻璃收缩也会受热处理过程中玻璃对尺寸改变的抵抗力影响。这种抵抗力通常用玻璃在热处理过程中的粘度表示，也经常用应变点(strain point)或退火温度(annealing point)(它们分别本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：T·J·奇科兹斯基，
申请(专利权)人：康宁股份有限公司，
类型：发明
国别省市：