【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种容器，该容器能够抑制在物体间滑动的时候摩擦粉末的产生。特别是本专利技术涉及一种在半导体制造中的光刻工程中作为中间掩模以及光掩模的灰尘防止器而使用的具有角部夹的防尘薄膜组件的收纳容器。
技术介绍
最近几年里，对半导体仪器高密度和高度集成的要求推动了光刻技术的图案的微细化的进展。伴随着这一趋势，即使是一个极微小的外来的微粒依附在光掩模表面也会造成图案转印出现瑕疵，所以为了避免这种微粒附着在光掩模上，通常在光掩模上使用防尘薄膜组件。这种防尘薄膜组件包括一个金属框和一个叫做防尘薄膜的透明薄膜，防尘薄膜被拉紧粘贴在框架的两个环状端面的其中一个上。当防尘薄膜组件通过另一个环状面连接到光掩模上的时，被设置为聚焦于光掩模表面的曝光光就不能聚焦在透明防尘薄膜上，这是因为防尘薄膜与光掩模表面有一定的距离缘故。这样，就有可能允许相对大一些的外来微粒附着于在透明防尘薄膜上，因为这样的微粒无法在光掩模表面产生阴影。但是，如果在制造或运输中，外来物质粘在面对防尘薄膜组件框架之空洞的防尘薄膜的内面，或者粘附于金属的内壁上，在使用时，外来物质就有可能落到光掩模上，这就可能造成...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
2010.08.30 JP 2010-1923101.一种防尘薄膜组件收纳容器，包括盘、盖以及多个树脂角部夹，当所述盘与所述盖结合在一起时，形成具有角部的防尘薄膜组件收纳容器，所述角部夹用于防尘薄膜组件收纳容器的各角部，从而将所述结合锁定...
【专利技术属性】
技术研发人员：野崎聪，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：
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