杂环稠合的呋喃并吡喃环化合物及除草剂制造技术

技术编号:72806 阅读:360 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
*** (Ⅰ) 本发明专利技术的一个目的是提供一种除草剂,它对作物如稻米,大豆和棉花有完全选择性,而对杂草有优秀的除草活性。本发明专利技术涉及通式(Ⅰ)的醚化合物,其中R↓[1],R↓[2],R↓[3]和R↓[4]定义如说明书,且除草剂含有所述化合物作为活性组分。(*该技术在2016年保护过期,可自由使用*)

Heterocyclic fused furan ring compound and herbicide

One of the purposes of the present invention is to provide a herbicide that is completely selective for crops such as rice, soybeans and cotton, and has excellent herbicidal activity. The present invention relates to compounds of formula (I) ether compounds, including R: 1, R: 2, R: 3 and R: 4 as defined in the specification, and herbicide containing said compound as active ingredient.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及醚化合物和含有这些化合物作为活性组分的除草剂。本专利技术的式(I)化合物,其中R3和R4共同形成苯环时,在日本专利公开No.316579/1994和No.138260/1995中描述其具有除草活性。同时,在日本专利公开No.316579/1994中描述具有除草活性的呋喃并苯并吡喃(furobenzopyran)衍生物,具有通式(XII)的结构 其中R1是低级烷基,R2是低级烷基,低级烷氧基,卤原子或被卤原子取代的低级烷基,R3是低级烷基,低级烷氧基,卤原子,卤原子取代的低级烷基,苯氧基或苄氧基,R4是氢原子或低级烷基,m和n是0-4之任意整数,且当n为2-4时,R2和R3可相同或不同。另外,日本专利公开No.138260/1995描述了具有除草活性的通式(XIII)化合物 其中R1是低级烷基,R2是低级链烯基,低级炔基,被具有3-7个碳原子环烷基取代的甲基,或通式(II)-(XI)中任一基团 (其中R5是羟基,氰基,卤原子取代的低级烷氧基,低级烷硫基,低级链烯基或低级炔基,R6是氢原子或低级烷基,R7是低级烷基,R8是低级烷基,低级烷氧基,卤原子或被卤原子取代的低级烷基,X是亚甲基,氧原子,硫原子或氮原子(它可被低级烷基或低级酰基取代),或与相邻碳原子形成双键,Y是氧原子或硫原子,n是1-4的任意整数,且P是0-3的任意整数,当n和p为2时或大于2时,R5和R8可相同或不同,q是0或1,r是0-2的任意整数,q和r的和是0,1或2,且当r和q是0时,x是亚甲基)。R3是低级烷基,低级烷氧基,卤原子,被卤原子取代的低级烷基,苯氧基,苄氧基,氰基,硝基,苯基,-S(O)tR9-基,-OSO2R9基,-ZC(=0)R9基团,-ZR10基团,-ZCH(R12)C(=0)R11基,-ZP(=Z)(ZR9)2基团,-N(R12)R13基,-N(R12)C(=Z)R14基,-N(R12)SO2R9基团,-C(R12)2OR13基团,-CH(R12)S(O)tR9基团,-CH(R12)ZC(=0)R14基团,-CH(R12)N(R12)R13基,-CH(R12)N(R12)C(=2)R14基,-Cu(R12)ZP(=Z)(ZR9)2基团,-C(=Z)R11基团,-CH(ZR15)ZR16基团,-C(=Z)N(R17)R18基团,-CH=NR11基团,-CH=CR19R20基团或-OC(R13)2-O-基团(其中苯环上相邻碳原子形成一五员环)(其中R9是低级烷基或苯基(它可被低级烷基,低级烷氧基或卤原子取代),R10是被卤原子取代的低级烷基或烷氧烷基,R11是氢原子,羟基,低级烷基,低级烷氧基,低级烷硫基或苯氧基,R12是氢原子或低级烷基,R13是氢原子,低级烷基,被卤原子取代的低级烷基或芳烷基,R14是低级烷基,被卤原子取代的烷基,苯基(它可被低级烷基,低级烷氧基或卤原子取代)或低级烷氧基,苯氧基,低级烷氨基或苯胺基,R15和R16分别是氢原子或低级烷基或R15和R16一起为-(CH2)2-或-(CH2)3-形成一环,R17是氢原子或低级烷氧基,R18是氢原子,低级烷基,苯基(它可被低级烷基,低级烷氧基或卤原子取代)或R17和R18一起形成五或六员环(其中可含有氧原子,硫原子或氮原子),R19是氢原子,氰基或低级烷氧羰基,R20是氢原子,低级烷基,硝基,氰基或低级烷氧羰基,Z是氢原子或硫原子且t是0-2的任意整数)R4是氢原子或低级烷基,m是0-4任意整数,且当m是2或更多时,每个R3可相同或不同。至今为止,已开发了一系列除草剂用于高地田和水稻田,但在除草活性或对作物除草选择性上没有一个是令人满意的。日本专利公开No.316579/1994和日本专利公开No.138260/1995描述的呋喃并苯并吡喃衍生物在过量渗漏条件下,除草选择性不总能令人满意。因此,本专利技术的一个目的是寻找一有效的化合物,它在任何条件下都不损害耕种的作物,在用于高地田和水稻田时选择地显示除草活性。因此,本专利技术的一方面是寻找具有优秀的潜在活性的化合物,作为除草剂用于水稻田,它对水稻有足够的选择性,但对一年生杂草,如稗属(Echinochloa sp.),异型莎草(Cyperus diffornis L),鸭舌草(Monochoriavaginalis)和节节菜(Rotala indica)以及多年生的杂草如萤蔺(Scirpusjuncoides),Cyperus serotinus,Eloecharis kuroguwai和Eloecharisacicularis具有高的除草活性。另外,本专利技术的另一方面是寻找一种化合物,它通过泥土施用或叶施用不仅可在水稻田里用作除草剂,而且可在高地田或其它非农业用地中用作除草剂,因此,它对升马唐(Digitaria adscendeus),繁缕(Stellaria media),Persicaria,反枝苋(Amaranthus retroflexus),碎米莎草(Cyperus iria),Poltulaca oleracea,欧洲千里光(Senecio vulgaris),藜(Chenopodiumalbum),香附子(Cyperus rotundus),Calystegia japonica,漆姑草(Sagina japonica),猪殃殃(Galium aparine),看麦娘(Alopecurusaequalis),草熟禾(Poa anrua),荠(Capsella bursapastoris),狗尾草(Setaria viridis)等有效。为了达到上述目的,本专利技术的专利技术者合成了一系列新的醚化合物,并在不同方面研究了它们的除草活性。其结果是,本专利技术者找到一种化合物,它不仅在水稻田里,而且可在高地田以及其它非农业用地中作为有效的除草剂,因此完成了本专利技术。同时,本专利技术涉及通式(I)的醚化合物 其中R1是低级烷基,且R2选自下列通式(II)-(XI)的基团 (其中R5是低级烷基,低级烷氧基,低级酰氧基,卤原子,被卤原子取代的低级烷基,被卤原子取代的低级烷氧基或低级烷硫基,R6是氢原子或低级烷基,R7是低级烷基,R8是低级烷基,低级烷氧基,低级酰氧基,低级烷硫基,卤原子,被卤原子取代的低级烷基,或被卤原子取代的低级烷氧基,X是亚甲基,氧原子,硫原子或氮原子(它可被低级烷基或低级酰基取代)或与相邻碳原子形成双键,Y是氧原子,硫原子或氮原子(它可被低级烷基或低级酰基取代),n是0-5之间的任意整数,P是0-3之间的任意整数,当n和p是2或更多,每个R5和R8可以相同或不同,q是0或1,r是0-2之间的任意整数时,q和r的和是0,1,或2且当r和q均为0时,x是亚甲基)R3和R4一起形成含有1或2个杂原子的不饱和五员或六员环(它可被低级烷基,低级烷氧基,低级酰氧基,低级烷硫基,卤原子,被卤原取代的低级烷基或被卤原子取代的低级烷氧基取代),以及含有所述化合物作为有效组分的除草剂。在本专利技术的化合物中,低级烷基,低级烷氧基,低级酰基,低级酰氧基或低级烷硫基是指具有1-4个碳原子的烷基,具有1-4个碳原子的烷氧基,具有1-4个碳原子的酰基,具有1-4个碳原子的酰氧基或具有1-4个碳原子的烷硫基,本文档来自技高网...

【技术保护点】
通式(Ⅰ)的醚化合物*** (Ⅰ)其中R↓[1]是低级烷基,且R↓[2]是选自下列通式(Ⅱ)-(Ⅺ)的基团***(其中R↓[5]是低级烷基,低级烷氧基,低级酰氧基,卤原子,被卤原子取代的低级烷基,被卤原子取代的低级烷氧基或低 级烷硫基,R↓[6]是氢原子或低级烷基,R↓[7]是低级烷基,R↓[8]是低级烷基,低级烷氧基,低级酰氧基,低级烷硫基,卤原子,被卤原子取代的低级烷基或被卤原子取代的低级烷氧基,X是亚甲基,氧原子,硫原子或氮原子(它可被低级烷基或低级酰基取代)或与相邻碳原子形成双键,Y是氧原子,硫原子或氮原子(它可被低级烷基或低级酰基取代),n是0-5之间任意整数,p是0-3之间任意整数,当n和p为2或更多时,每个R↓[5]和R↓[8]可以相同或不同,q是0或1,r是0-2之间任意整数,q和r的和为0,1或2时,当r和q为0时x是亚甲基)R↓[3]和R↓[4]一起形成含1或2个杂原子(可被低级烷基,低级烷氧基,低级酰氧基,低级烷硫基,卤原子,被卤原子取代的低级烷基或被卤原子取代的低级烷氧基取代)的不饱和五或六员环。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:新井清司小泉文明铃木博之垣元刚江田贞文
申请(专利权)人:三井化学株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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