除草组合物制造技术

一种选择性除草组合物，除常规惰性配制助剂外包括如下组分的混合物作活性成分： ａ）一种除草活性量的除草剂，选自式Ⅰａ化合物 ＊＊＊ （Ⅰａ）， 和／或式Ⅰｂ化合物 ＊＊＊ （Ⅰｂ）， 其中Ｒ为氢或氟， 和／或式Ⅰｃ化合物 ＊＊＊ （Ⅰｃ） 或式Ⅰａ和／或Ⅰｂ和／或Ⅰｃ化合物的盐，以及 ｂ）一种除草拮抗活性量的式Ⅱａ化合物 ＊＊＊ （Ⅱａ）， 其中Ｒ↓［０１０］为氢，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷基或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷氧基或Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］链烯氧基取代的Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷基以及 Ｘ↓［２］为氢或氯， 式Ⅱｂ↓［１］的化合物 ＊＊＊ （Ⅱｂ↓［１］） 其中 Ｅ为氮或次甲基 Ｒ↓［１１］为－ＣＣｌ↓［３］或未取代或卤素取代的苯基， Ｒ↓［１２］和Ｒ↓［１３］各自独立地为氢或卤素，和 Ｒ↓［１４］为Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基， 式Ⅱｂ↓［２］的化合物 ＊＊＊ （Ⅱｂ↓［２］） 其中 Ｒ↓［１２］和Ｒ↓［１３］具有以上含意，和 Ｒ↓［６６］、Ｒ↓［６７］和Ｒ↓［６８］各自独立地为Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基， 式Ⅱｃ的化合物 ＊＊＊ （Ⅱｃ） 其中 Ａ↓［２］为基团 ＊＊＊ Ｒ↓［２５］和Ｒ↓［２６］各自独立地为氢，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［８］烷基，Ｃ↓［３］－Ｃ↓［８］环烷基，Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］链烯基，Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］炔基，＊＊＊，或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷氧基或＊＊＊取代的Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基；或Ｒ↓［２５］和Ｒ↓［２６］一起形成Ｃ↓［４］－Ｃ↓［６］亚烷基桥键，该桥键可被氧、硫、ＳＯ、ＳＯ↓［２］、ＮＨ或－Ｎ（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基）－间隔， Ｒ↓［２７］为氢或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基； Ｒ↓［ａａ］为氢，卤素，氰基，三氟甲基，硝基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷氧基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷硫基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基亚磺酰基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基磺酰基，－ＣＯＯＲ↓［ｊ］，－ＣＯＮＲ↓［ｋ］Ｒ↓［ｍ］，－ＣＯＲ↓［ｎ］，－ＳＯ↓［２］ＮＲ↓［ｋ］Ｒ↓［ｍ］或－ＯＳＯ↓［２］－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基； Ｒ↓［ｇ］为氢，卤素，氰基，硝基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］卤代烷基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷硫基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基亚磺酰基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基磺酰基，－ＣＯＯＲ↓［ｊ］，－ＣＯＮＲ↓［ｋ］Ｒ↓［ｍ］，－ＣＯＲ↓［ｎ］，－ＳＯ↓［２］ＮＲ↓［ｋ］Ｒ↓［ｍ］，…。（*该技术在2016年保护过期，可自由使用*）

Herbicidal composition

A selective herbicidal composition, in addition to the conventional inert formulation auxiliaries including mixture of the following components: a) as an active ingredient of a herbicidal activity of the herbicide, selected from the type I a compound * * * (I a), and / or type I B compound * * * (I b), where R is hydrogen or fluorine, and / or type I C compound * * * (I c) or type I a and / or B and / or C of compound salt, and b) a type II antagonist activity of herbicidal compounds a * * * (II a), where R is down 010 hydrogen, C: 1 C: 8 alkyl or C down 1 C down 6 alkoxy or C: 3 C: 6 alkene alkoxyl substituted C C: 1: 8 alkyl and X Here 2 is hydrogen or chlorine compounds, type II: B * 1 * * (the B II: 1) where E is nitrogen or methylene R: 11 to CCl down 3 or unsubstituted or halogen substituted phenyl, R: 12 and R: 13 independently hydrogen or halogen, and R: 14 C: 1 C: 4 alkyl, type II B: 2 compounds (b * * * II: 2) R: 12 and R: 13 with the above meaning, and R: 66, R: 67 and R: 68 independently C: 1 C: 4 alkyl compounds, c * * * type II (C II) A: 2 for group * * \uff0a \uff32\u2193\uff3b\uff12\uff15\uff3d\u548c\uff32\u2193\uff3b\uff12\uff16\uff3d\u5404\u81ea\u72ec\u7acb\u5730\u4e3a\u6c22\uff0c\uff23\u2193\uff3b\uff11\uff3d\uff0d\uff23\u2193\uff3b\uff18\uff3d\u70f7\u57fa\uff0c\uff23\u2193\uff3b\uff13\uff3d\uff0d\uff23\u2193\uff3b\uff18\uff3d\u73af\u70f7\u57fa\uff0c\uff23\u2193\uff3b\uff13\uff3d\uff0d\uff23\u2193\uff3b\uff16\uff3d\u94fe\u70ef\u57fa\uff0c\uff23\u2193\uff3b\uff13\uff3d\uff0d\uff23\u2193\uff3b\uff16\uff3d\u7094\u57fa\uff0c\uff0a\uff0a\uff0a\uff0c\u6216\uff23\u2193\uff3b\uff11\uff3d\uff0d\uff23\u2193\uff3b\uff14\uff3d\u70f7\u6c27\u57fa\u6216\uff0a\uff0a\uff0a\u53d6\u4ee3\u7684\uff23\u2193\uff3b\uff11\uff3d\uff0d\uff23\u2193\uff3b\uff14\uff3d\u70f7\u57fa\uff1b\u6216\uff32\u2193\uff3b\uff12\uff15\uff3d\u548c\uff32\u2193\uff3b\uff12\uff16\uff3d\u4e00\u8d77\u5f62\u6210\uff23\u2193\uff3b\uff14\uff3d\uff0d\uff23\u2193\uff3b\uff16\uff3d\u4e9a\u70f7\u57fa\u6865\u952e\uff0c\u8be5\u6865\u952e\u53ef\u88ab\u6c27\u3001\u786b\u3001\uff33\uff2f\u3001\uff33\uff2f\u2193\uff3b\uff12\uff3d\u3001\uff2e\uff28\u6216\uff0d\uff2e\uff08\uff23\u2193\uff3b\uff11\uff3d\uff0d\uff23\u2193\uff3b\uff14\uff3d\u70f7\u57fa\uff09\uff0d\u95f4\u9694\uff0c \uff32\u2193\uff3b\uff12\uff17\uff3d\u4e3a\u6c22\u6216\uff23\u2193\uff3b\uff11\uff3d\uff0d\uff23\u2193\uff3b\uff14\uff3d\u70f7\u57fa\uff1b \uff32\u2193\uff3b\uff41\uff41\uff3d\u4e3a\u6c22\uff0c\u5364\u7d20\uff0c\u6c30\u57fa\uff0c\u4e09\u6c1f\u7532\u57fa\uff0c\u785d\u57fa\uff0c\uff23 \u2193\uff3b\uff11\uff3d\uff0d\uff23\u2193\uff3b\uff14\uff3d\u70f7\u57fa\uff0c\uff23\u2193\uff3b\uff11\uff3d\uff0d\uff23\u2193\uff3b\uff14\uff3d\u70f7\u6c27\u57fa\uff0c\uff23\u2193\uff3b\uff11\uff3d\uff0d\uff23\u2193\uff3b\uff14\uff3d\u70f7\u786b\u57fa\uff0c\uff23\u2193\uff3b\uff11\uff3d\uff0d\uff23\u2193\uff3b\uff14\uff3d\u70f7\u57fa\u4e9a\u78fa\u9170\u57fa\uff0c\uff23\u2193\uff3b\uff11\uff3d\uff0d\uff23\u2193\uff3b\uff14\uff3d\u70f7\u57fa\u78fa\u9170\u57fa\uff0c\uff0d\uff23\uff2f\uff2f\uff32\u2193\uff3b\uff4a\uff3d\uff0c\uff0d\uff23\uff2f\uff2e\uff32\u2193\uff3b\uff4b\uff3d\uff32\u2193\uff3b\uff4d\uff3d\uff0c\uff0d\uff23\uff2f\uff32\u2193\uff3b\uff4e\uff3d\uff0c\uff0d\uff33\uff2f\u2193\uff3b\uff12\uff3d\uff2e\uff32\u2193\uff3b\uff4b\uff3d\uff32\u2193\uff3b\uff4d\uff3d\u6216\uff0d\uff2f\uff33\uff2f\u2193\uff3b\uff12\uff3d\uff0d\uff23\u2193\uff3b\uff11\uff3d\uff0d\uff23\u2193\uff3b\uff14\uff3d\u70f7\u57fa\uff1b \uff32\u2193\uff3b\uff47\uff3d\u4e3a\u6c22\uff0c\u5364\u7d20\uff0c\u6c30\u57fa\uff0c\u785d\u57fa\uff0c\uff23\u2193\uff3b\uff11\uff3d\uff0d\uff23\u2193\uff3b\uff14\uff3d\u70f7\u57fa\uff0c\uff23\u2193\uff3b\uff11\uff3d\uff0d\uff23\u2193\uff3b\uff14\uff3d\u5364\u4ee3\u70f7\u57fa\uff0c\uff23\u2193\uff3b\uff11\uff3d\uff0d\uff23\u2193\uff3b\uff14\uff3d\u70f7\u786b\u57fa\uff0c\uff23\u2193\uff3b\uff11\uff3d\uff0d\uff23\u2193\uff3b\uff14\uff3d\u70f7\u57fa\u4e9a\u78fa\u9170\u57fa\uff0c\uff23\u2193\uff3b\uff11\uff3d\uff0d\uff23\u2193\uff3b\uff14\uff3d\u70f7\u57fa\u78fa Acyl, COOR down J, CONR down K R: m, COR: n, SO: 2 NR: K R: m,....

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术涉及新的选择性除草组合物，用于控制有用作物中的禾本科植物和杂草，特别是禾谷类和水稻作物中的禾本科植物和杂草，该组合物包含一种除草剂和一种安全剂(解毒剂)且保护有用植物而不是杂草以抵抗除草剂的植物毒性活性，还涉及该组合物在有用作物中防治杂草的用途。使用除草剂时，作物植株可能也受到相当程度的损害，例如这取决于除草剂的剂量和应用类型，作物植株，土壤结构以及气候因素如光周期、温度和降雨量。为了处理这一问题及相似的问题，业已提出许多物质作为能抵抗除草剂对作物植株的损害作用，即保护作物植株免受除草剂影响的安全剂，同时对待防治的杂草的除草活性并未受到不利影响。已发现所提出的安全剂对作物植株和除草剂而言通常都以非常特定的方式起作用，且在某些情况下也随应用类型而变化，这意味着特定的安全剂通常只适于特定的作物和特定种类的除草物质，或特定的除草剂。现已发现EP-A-492,366；WO91/7874和WO94/987中所公开的安全剂适于保护作物植株以使其免受EP-A-679,646；EP-A-502,740；EP-A-0,477,808和US-A-5,009,699中所述磺酰脲和氨磺酰脲除草剂的植物毒性作用。根据本专利技术，提出了一种选择性除草组合物，该组合物除常规的惰性配制助剂如载体、溶剂和润湿剂外，含有如下组分的混合物作活性成分a)一种除草活性量的除草剂，选自式Ia化合物 和/或式Ib化合物 其中R为氢或氟，和/或式Ic化合物 或式Ia和/或Ib和/或Ic化合物的盐，以及b)一种除草拮抗活性量的式IIa化合物 其中R010为氢，C1-C8烷基或C1-C6烷氧基或C3-C6链烯氧基取代的C1-C8烷基以及X2为氢或氯，式IIb1的化合物 其中E为氮或次甲基R11为-CCl3或未取代或卤素取代的苯基，R12和R13各自独立地为氢或卤素，和R14为C1-C4烷基，式IIb2的化合物 其中R12和R13具有以上含意，和R66、R67和R68各自独立地为C1-C4烷基，式IIc的化合物 其中A2为基团 R25和R26各自独立地为氢，C1-C8烷基，C3-C8环烷基，C3-C6链烯基，C3-C6炔基， ，或C1-C4烷氧基或 取代的C1-C4烷基；或R25和R26一起形成C4-C6亚烷基桥键，该桥键可被氧、硫、SO、SO2、NH或-N(C1-C4烷基)-间隔，R27为氢或C1-C4烷基；Raa为氢，卤素，氰基，三氟甲基，硝基，C1-C4烷基，C1-C4烷氧基，C1-C4烷硫基，C1-C4烷基亚磺酰基，C1-C4烷基磺酰基，-COORj，-CONRkRm，-CORn，-SO2NRkRm或-OSO2-C1-C4烷基；Rg为氢，卤素，氰基，硝基，C1-C4烷基，C1-C4卤代烷基，C1-C4烷硫基，C1-C4烷基亚磺酰基，C1-C4烷基磺酰基，-COORj，-CONRkRm，-CORn，-SO2NRkRm，-OSO2-C1-C4烷基，C1-C6烷氧基或被C1-C4烷氧基或卤素取代的C1-C6烷氧基，C3-C6链烯氧基或被卤素取代的C3-C6链烯氧基，或C3-C6炔氧基，或Raa和Rbb一起形成可被卤素或C1-C4烷基取代的C3-C4亚烷基桥键，或形成可被卤素或C1-C4烷基取代的C3-C4亚烷基桥键，或形成可被卤素或C1-C4烷基取代的C4亚链二烯基，Rbb和Rh各自独立地为氢，卤素，C1-C4烷基，三氟甲基，C1-C6烷氧基，C1-C6烷硫基或-COORj；Rc为氢，卤素，硝基，C1-C4烷基或甲氧基；Rd为氢，卤素，硝基，C1-C4烷基，C1-C4烷氧基，C1-C4烷硫基，C1-C4烷基亚磺酰基，C1-C4烷基磺酰基，-COORj或-CONRkRm；Re为氢，卤素，C1-C4烷基，-COORj，三氟甲基或甲氧基，或Rd和Re一起形成C3-C4亚烷基桥键；Rf为氢，卤素或C1-C4烷基；Rx和Ry各自独立地为氢，卤素，C1-C4烷基，C1-C4烷氧基，C1-C4烷硫基，-COOR28，三氟甲基，硝基或氰基；Rj，Rk和Rm各自独立地为氢或C1-C4烷基；或Rk和Rm一起形成可被氧、NH或-N(C1-C4烷基)-间隔的C4-C6亚烷基桥键；Rn为C1-C4烷基，苯基或被卤素，C1-C4烷基，甲氧基，硝基或三氟甲基取代的苯基；R28为氢，C1-C10烷基，C1-C4烷氧基-C1-C4烷基，C1-C4烷硫基-C1-C4烷基，二C1-C4烷氨基-C1-C4烷基，卤代-C1-C8烷基，C2-C8链烯基，卤代-C2-C8链烯基，C3-C8炔基，C3-C7环烷基，卤代-C3-C7环烷基，C1-C8烷基羰基，烯丙基羰基，C3-C7环烷基羰基，未取代或被相同或不同取代基在苯环上至多三取代的苯甲酰基，所述取代基选自卤素，C1-C4烷基，卤代-C1-C4烷基，卤代-C1-C4烷氧基或C1-C4烷氧基；或呋喃甲酰基，噻吩基；或被苯基、卤代苯基、C1-C4烷基苯基、C1-C4烷氧苯基、卤代-C1-C4烷基苯基、卤代-C1-C4烷氧苯基、C1-C6烷氧羰基、C1-C4烷氧基-C1-C8烷氧羰基、C3-C8链烯氧基羰基、C3-C8炔氧基羰基、C1-C8烷硫基羰基、C3-C8链烯硫基羰基、C3-C8炔硫基羰基、氨基甲酰基、单C1-C4烷氨基羰基、二C1-C4烷氨基羰基取代的C1-C4烷基；或未取代或被相同或不同取代基在苯基上至多三取代的苯氨基羰基，所述取代基选自卤素，C1-C4烷基，卤代-C1-C4烷基，卤代-C1-C4烷氧基或C1-C4烷氧基，或被氰基或硝基单取代的苯基，或未取代或被一个或两个C1-C4烷基取代的二氧戊环-2-基，或未取代或被一个或两个C1-C4烷基取代的二噁烷-2-基，或被氰基、硝基、羧基或C1-C8烷硫基-C1-C8烷氧羰基取代的C1-C4烷基，式IIe化合物 其中R33和R34各自独立地为C1-C6烷基或C2-C6链烯基；或R33和R34一起为 R35和R36各自独立地为氢或C1-C6烷基；或R33和R34一起为 R37和R38各自独立地为C1-C4烷基，或R37和R38一起为-(CH2)5-；R39为氢，C1-C4烷基或 或R33和R34一起为 R40、R41、R42、R43、R44、R45、R46、R47、R48、R49、R050、R51、R52、R53、R54和R55各自独立地为氢或C1-C4烷基；式IIf的化合物 其中R63为氢或氯，以及R64为氰基或三氟甲基，或式IIg的化合物 其中R65为氢或甲基。本专利技术还包括式Ia、Ib和Ic化合物例如可与胺、碱金属碱和碱土金属碱或季铵碱形成的农艺上可耐受的盐。在碱金属氢氧化物和碱土金属氢氧化物中优选的盐前体为锂、钠、钾、镁或钙的氢氧化物，但特别是钠或钾的氢氧化物。适于形成铵盐的胺实例不仅有氨，还有伯、仲和叔C1-C18烷基胺，C1-C4羟烷基胺和C2-C4烷氧烷基胺，如甲胺，乙胺，正丙胺，异丙胺，四种异构的丁胺，正戊胺，异戊胺，己胺，庚胺，辛胺，壬胺，癸胺，十五烷基胺，十六烷基胺，十七烷基胺，十八烷基胺，甲基乙基胺，甲基异丙基胺，甲基己基胺，甲基壬基胺，甲基十五烷基胺，甲基十八烷基胺，乙基丁基胺，己基庚基胺，乙基辛基胺，己基庚基胺，己基辛基胺，二甲胺，二乙胺，二正丙胺，二异丙本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种选择性除草组合物，除常规惰性配制助剂外包括如下组分的混合物作活性成分a)一种除草活性量的除草剂，选自式Ia化合物和/或式Ib化合物其中R为氢或氟，和/或式Ic化合物或式Ia和/或Ib和/或Ic化合物的盐，以及b)一种除草拮抗活性量的式IIa化合物其中R010为氢，C1-C8烷基或C1-C6烷氧基或C3-C6链烯氧基取代的C1-C8烷基以及X2为氢或氯，式IIb1的化合物其中E为氮或次甲基R11为-CCl3或未取代或卤素取代的苯基，R12和R13各自独立地为氢或卤素，和R14为C1-C4烷基，式IIb2的化合物其中R12和R13具有以上含意，和R66、R67和R68各自独立地为C1-C4烷基，式IIc的化合物其中A2为基团或R25和R26各自独立地为氢，C1-C8烷基，C3-C8环烷基，C3-C6链烯基，C3-C6炔基，，或C1-C4烷氧基或取代的C1-C4烷基；或R25和R26一起形成C4-C6亚烷基桥键，该桥键可被氧、硫、SO、SO2、NH或-N(C1-C4烷基)-间隔，R27为氢或C1-C4烷基；Raa为氢，卤素，氰基，三氟甲基，硝基，C1-C4烷基，C1-C4烷氧基，C1-C4烷硫基，C1-C4烷基亚磺酰基，C1-C4烷基磺酰基，-COORj，-CONRkRm，-CORn，-SO2NRkRm或-OSO2-C1-C4烷基；Rg为氢，卤素，氰基，硝基，C1-C4烷基，C1-C4卤代烷基，C1-C4烷硫基，C1-C4烷基亚磺酰基，C1-C4烷基磺酰基，-COORj，-CONRkRm，-CORn，-SO2NRkRm，-OSO2-C1-C4烷基，C1-C6烷氧基或被C1-C4烷氧基或卤素取代的C1-C6烷氧基，C3-C6链烯氧基或被卤素取代的C3-C6链烯氧基，或C3-C6炔氧基，或Raa和Rbb一起形成可被卤素或C1-C4烷基取代的C3-C4亚烷基桥键，或形成可被卤素或C1-C4烷基取代的C3-C4亚烷基桥键，或形成可被卤素或C1-C4烷基取代的C4亚链二烯基，Rbb和Rh各自独立地为氢，卤素，C1-C4烷基，三氟甲基，C1-C6烷氧基，C1-C6烷硫基或-COORj；Rc为氢，卤素，硝基，C1-C4烷基或甲氧基；Rd为氢，卤素，硝基，C1-C4烷基，C1-C4烷氧基，C1-C4烷硫基，C1-C4烷基亚磺酰基，C1-C4烷基磺酰基，-COORj或-CONRkRm；Rc为氢，卤素，C1-C4烷基，-COORj，三氟甲基或甲氧基，或Rd和Re一起形成C3-C4亚烷基桥键；Rf为氢，卤素或C1-C4烷基；Rx和Ry各自独立地为氢，卤素，C1-C4烷基，C1-C4烷氧基，C1-C4烷硫基，-COOR28，三氟甲基，硝基或氰基；Rj，Rk和Rm各自独立地为氢或C1-C4烷基；或Rk和Rm一起形成可被氧、NH或-N(C1-C4烷基)-间隔的C4-C6亚烷基桥键；Rn为C1-C4烷基，苯基或被卤素，C1-C4烷基，甲氧基，硝基或三氟甲基取代的苯基；R28为氢，C1-C10烷基，C1-C4烷氧基-C1-C4烷基，C1-C4烷硫基-C1-C4烷基，二C1-C4烷氨基-C1-C4烷基，卤代-C1-C8烷基，C2-C8链烯基，卤代-C2-C8链烯基，C3-C8炔基，C3-C7环烷基，卤代-C3-C7环烷基，C1-C8烷基羰基，烯丙基羰基，C3-C7环烷基羰基，未取代或被相同或不同取代基在苯环上至多三取代的苯甲酰基，所述取代基选自卤素，C1-C4烷基，卤代-C1-C4烷基，卤代-C1-C4烷氧基或C1-C4烷氧基；或呋喃甲酰基，噻吩基；或被苯基、卤代苯基、C1-C4烷基苯基、C1-C4烷氧苯基、卤代-C1-C4烷基苯基、卤代-C1-C4烷氧苯基、C1-C6烷氧羰基、C1-C4烷氧基-C1-C8烷氧羰基、C3-C8链烯氧基羰基、C3-C8炔氧基羰基、C1-C8烷硫基羰基、C3-C8链烯硫基羰基、C3-C8炔硫基羰基、氨基甲酰基、单C1-C4烷氨基羰基、二C1-C4烷氨基羰基取代的C1-C4烷基；或未取代或...

【专利技术属性】
技术研发人员：J·格洛克，
申请(专利权)人：诺瓦提斯公司，
类型：发明
国别省市：