【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种对具有对称齿形的构件的功能面、尤其是齿轮的齿面进行涂覆的方法及装置，包括相对所述构件回转的并且向所述构件方向发射带电粒子形式的涂覆物质的涂覆源，如权利要求1或8的前序部分所述。
技术介绍
众所周知，为了提高耐磨性能，在气相沉积法中采用下述方式对齿轮的齿面进行涂覆，即，由诸如石墨基的涂覆源产生的并且在电场或者磁场中加速的等离子体被高速发射到齿面上，并在那里接近边缘的齿面区域内积存，石墨等离子体粒子在该处转换成特别坚硬的、像金刚石似的涂层。其中，对涂覆质量起决定性作用的除了等离子体粒子的电离程度和能量以外还有其在构件表面上的撞击角。然而在回转运动期间齿面相对射束方向的定向方位在发生变化，并且，随着撞击角变得越来越小，等离子体粒子往表面中的射入深度也在变小，其结果是齿面上的涂层质量不足以保障持久优质的齿面涂覆。
技术实现思路
针对于此，本专利技术的目的是发展开头所述类型的方法和装置，通过简单的方式实现对构件的高质量的功能面涂覆，尤其是对齿轮的齿面的高质量的功能面涂覆。所述目的通过具有权利要求1特征的方法或者具有权利要求8特征的装置得以实现。根据本专利技术...
【技术保护点】
１．借助于涂覆源对具有对称齿形的构件的功能面、尤其是齿轮的齿面进行涂覆的方法，该涂覆源向构件方向发射带电粒子形式的涂覆物质并且相对所述构件回转；其特征在于：在涂覆过程期间，所述构件在功能面相对于射束方向缓斜定向的回转区域内通过在构件和涂覆源之间横向于射束方向设置的挡板被遮蔽，挡住涂覆射束。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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