【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及磁盘基板用研磨液组合物以及使用了该研磨液组合物的磁盘基板的制造方法。
技术介绍
近年来，磁盘驱动器向着小型化和大容量化发展，要求高记录密度化。为了实现高记录密度化，需要缩小单位记录面积，提高变弱的磁信号的检测灵敏度，为此，用于进一步降低磁头的浮起高度的技术开发正在进展。为了应对磁头的低浮起化和确保记录面积，对于磁盘基板在平滑性和平坦性的提高(表面粗糙度、波纹、端面下垂的减少)和缺陷减少 (划痕、突起、凹坑等的减少)方面的要求变得严格。针对这样的要求，提出了含有具有羧基或磺酸基等官能团的共聚物的研磨液组合物(参照例如专利文献1 3)。在专利文献1中，公开了一种适合于半导体部件的化学机械研磨(CMP)的研磨液组合物，其中，通过含有具有磺酸基的聚合物，可以使被研磨物的表面变得平坦，并且可以提高研磨速度。在专利文献2中，公开了一种适合于化学机械研磨(CMP)的半导体部件用研磨液组合物，其中，通过含有具有羧酸基的聚合物、具有磺酸基的聚合物以及具有膦酸基的聚合物中的至少2种聚合物，可以降低被研磨物的表面粗糙度，并且可以提高研磨速度。在专利文献3中，公开了一种含...
【技术保护点】
１．一种磁盘基板用研磨液组合物，其含有共聚物或其盐、研磨材料和水，所述共聚物具有由在２０℃的１００ｇ水中的溶解度为２ｇ以下的单体衍生的结构单元和具有磺酸基的结构单元，并且主链是饱和烃链。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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