除草组合物制造技术

技术编号:7156620 阅读:177 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及除草组合物,含有作为活性成分的螺杂环式吡咯烷二酮类化合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】除草组合物本专利技术涉及含有作为活性成分的螺杂环式吡咯烷二酮类或其衍生物的新除草组合物,还涉及这些化合物防治尤其在有用植物作物中的禾本科草和杂草的用途,或者抑制不希望的植物生长的用途。具有除草作用的螺杂环式吡咯烷二酮类化合物描述于例如W09501358。目前发现,其它经烷氧基取代的螺杂环式吡咯烷二酮类或其衍生物也能被用于除草组合物和生长抑制组合物中。本专利技术相应地涉及新的除草组合物,其除了包含配制助剂之外还含有除草有效量的式I化合物权利要求1.除草组合物,其除了包含配制助剂之外还包含除草有效量的式I化合物2.根据权利要求1的除草组合物,其中在式I化合物中R1是甲基,乙基,正丙基,乙烯基,乙炔基,^f素,甲氧基,乙氧基,^f代甲氧基,^f代乙氧基,R2是甲基,^f素,C1-C2烷氧基, C1-C2卤代烷氧基,苯基或被C1-C4烷基,C1-C3卤代烷基,C1-C3烷氧基,C1-C3卤代烷氧基,氰基,硝基,卤素,C1-C3烷硫基,C1-C3烷基亚磺酰基或C1-C3烷基磺酰基取代的苯基,R3是氢, R4是甲基乙基,正丙基,乙烯基或乙炔基,R5、R6、R7和R8是氢,而R9是氢,C1-C6烷基,C「C4 烷氧基(C1-C4)烷基,C1-C4烷氧基(C1-C4)烷氧基(C1-C4)烷基或选自G的基团。3.根据权利要求2的除草组合物,其中在式I化合物中R1是甲基而R2是甲基。4.根据权利要求1的除草组合物,其中在式I化合物中G是氢,碱金属或碱土金属。5.根据权利要求1的除草组合物,其除了包含配制助剂之外还包含除草有效量的式I 化合物,任选地其它除草剂和任选地安全剂。6.防治有用植物作物中的禾本科草和杂草的方法,其包括将包含除草有效量的式I化合物的组合物施用至植物或至其处所。全文摘要本专利技术涉及除草组合物,含有作为活性成分的螺杂环式吡咯烷二酮类化合物。文档编号A01N47/18GK102209469SQ200980144197 公开日2011年10月5日 申请日期2009年10月28日 优先权日2008年11月6日专利技术者J·文格尔, M·乔格霍瓦, M·米尔巴赫, O·F·许特尔, P·迈恩费什, S·A·M·让马特, T·皮特纳, W·赞巴赫 申请人:先正达参股股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.除草组合物,其除了包含配制助剂之外还包含除草有效量的式I化合物其中G是氢或农业上可接受的金属,锍,铵或潜伏基团,R1是氢,甲基,乙基,正丙基,异丙基,卤代甲基,卤代乙基,卤素,乙烯基,乙炔基,甲氧基,乙氧基,卤代甲氧基或卤代乙氧基,环丙基或卤代环丙基,R2和R3独立地是氢,卤素,C1-C6烷基,C1-C6卤代烷基,C1-C6烷氧基,C1-C6卤代烷氧基,C2-C6烯基,C2-C6卤代烯基,C2-C6炔基,C2-C6卤代炔基,C3-C6烯氧基,C3-C6卤代烯氧基,C3-C6炔氧基,C3-C6环烷基,C1-C6烷硫基,C1-C6烷基亚磺酰基,C1-C6烷基磺酰基,C1-C6烷氧基磺酰基,C1-C6卤代烷氧基磺酰基,氰基,硝基,苯基,被C1-C4烷基、C1-C3卤代烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、氰基、硝基、卤素、C1-C3烷硫基、C1-C3烷基亚磺酰基或C1-C3烷基磺酰基取代的苯基,或者杂芳基或被C1-C4烷基、C1-C3卤代烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、氰基、硝基、卤素、C1-C3烷硫基、C1-C3烷基亚磺酰基或C1-C3烷基磺酰基取代的杂芳基,R4是氢,甲基,乙基,正丙基,异丙基,卤代甲基,卤代乙基,卤素,乙烯基,丙烯基,乙炔基,丙炔基,甲氧基,乙氧基,卤代甲氧基或卤代乙氧基,R5、R6、R7和R8相互独立地是氢或甲基,R9是氢,C1-C6烷基,C1-C6卤代烷基,C1-C6氰基烷基,苄基,C1-C4烷氧基(C1-C4)烷基,C1-C4烷氧基(C1-C4)烷氧基(C1-C4)烷基或选自G的基团,或者农业化学上可接受的盐或其N-氧化物。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:W·赞巴赫
申请(专利权)人:先正达参股股份有限公司
类型:发明
国别省市:CH

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