本发明专利技术提供一种不需要杀菌·抗菌处理装置或用于连续添加的机构等繁琐的工序也能在电沉积涂覆系统中持续杀菌·抗菌的杀菌·抗菌剂。具体而言，本发明专利技术提供由含有１，２－苯并异噻唑啉－３－酮的药片或药块形成的阳离子电沉积涂覆系统用缓释性杀菌·抗菌剂、或者将１，２－苯并异噻唑啉－３－酮收纳在通水性容器中而形成的阳离子电沉积涂覆系统用缓释性杀菌·抗菌剂。另外，本发明专利技术提供一种阳离子电沉积涂料、电极液或清洗水的杀菌·抗菌方法，包括：将所述杀菌·抗菌剂放入阳离子电沉积涂覆系统的电沉积槽、电沉积涂料贮槽、电极液贮槽、浸渍清洗槽、清洗水贮槽等，浸到阳离子电沉积涂料、电极液或清洗水中或者置于阳离子电沉积涂料、电极液或清洗水的流通下，使１，２－苯并异噻唑啉－３－酮在阳离子电沉积涂料、电极液或清洗水中缓慢地溶解。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及对阳离子电沉积及其涂膜物性没有不良影响、补充操作容易的阳离子电沉积涂覆系统用缓释性杀菌·抗菌剂。本申请基于2008年11月4日在日本申请的特愿2008-283366号要求优先权，并将其内容援引于此。
技术介绍
阳离子电沉积涂料因为能够形成具有深镀性(在具有袋部结构的被涂物等难以镀覆涂料的位置也可以形成涂膜的性能)优异、耐久性或防腐蚀性等优异的性能的涂膜， 所以广泛用作汽车车体或电气制品等导电性金属的底涂涂料。以往，因为阳离子电沉积涂料是非水(溶剂)系，所以电沉积浴中的有机溶剂起到防腐剂的作用，不是特别需要防腐齐U。但是，近年来阳离子电沉积涂料换为水系，随之出现因电沉积浴腐败、微生物孳生而难以形成电沉积膜、或已形成的膜剥离，外观不良、防腐蚀性不良等容易发生等问题。作为阳离子电沉积涂料所使用的涂料，可使用用作为中和剂的有机酸(例如，氨基磺酸、乙酸、二羟甲基丙酸、甲酸以及乳酸)将碱性树脂(例如，胺改性环氧树脂)中和、 并水溶化或乳化而成的涂料。进行阳离子电沉积涂覆时，在阳极附近产生中和酸根离子。已知通过除去该电沉积槽内蓄积的一定浓度以上的中和酸根离子来促进电沉积。因此，例如， 介由由离子交换膜构成的隔膜选择性地将过剩中和酸根离子导入隔膜室，将含有该过剩中和酸根离子等的隔膜液(电极液)送至电极液槽，实施规定的处理，然后一部分返回电沉积槽。该电极液中容易孳生真菌类、细菌等微生物。因该细菌等的孳生，出现难以形成电沉积膜、已形成的膜剥离、外观不良、防腐蚀性不良等容易发生等问题。作为试图解决上述这样的问题的方法，在专利文献1中，公开了含有5-氯-2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮和2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮的阳离子性电沉积涂料组合物。该阳离子性电沉积涂料组合物可以防止电沉积涂料中孳生细菌、霉、酵母等微生物以及杀灭微生物。在专利文献2中，公开了含有由氯甲基异噻唑啉酮、甲基异噻唑啉酮、辛基异噻唑啉酮等异噻唑啉酮化合物构成的抗菌剂的电沉积涂料组合物。因为专利文献1和2中公开的异噻唑啉系化合物常温下是液体，所以可以直接添加到涂料中。另外，在专利文献3中，记载了含有4，5_ 二氯-2-辛基-4-异噻唑啉-3-酮与1， 4-双(溴乙酰氧基)-2_ 丁烯或1，2_苯并异噻唑啉-3-酮的工业用防菌防霉剂。在专利文献4中，记载了含有1，2-苯并异噻唑啉-3-酮与2-正辛基-4-异噻唑啉-3-酮的工业用抗菌剂。在专利文献5中，记载了含有1，2-苯并异噻唑啉-3-酮与1，4_双(溴乙酰氧基)-2_ 丁烯的工业用抗菌剂。因为这些专利文献3 5中记载的防菌防霉剂或抗菌剂常温下是固体，所以为了使该固体成分不影响涂料等的性能，使其均勻地溶解到溶剂中，以该溶液的形式添加到涂料等中。但是，专利文献3 5中没有记载适用于阳离子电沉积涂覆系统。专利文献3 5中记载的抗菌剂难溶于阳离子电沉积涂料，没有完全溶解的抗菌剂粉末有可能给涂膜带来影响，所以没有应用于阳离子电沉积涂覆系统。实施了电沉积涂覆的被涂物随后被输送机从电沉积槽中移到槽外，但被涂物表面附着有少量的电沉积涂料液。因此，为了除去该电沉积涂料液，对被涂物实施水洗处理。例如，实施了电沉积涂覆的被涂物一边被输送机输送，一边通过浸渍水洗装置、喷射水洗装置、工业用水喷射清洗装置、离子交换水喷射清洗装置等进行水洗，除去其表面附着的电沉积涂料液。对于浸渍水洗装置和喷射水洗装置，是用存积(保持)在浸渍水洗槽或清洗水贮槽中的清洗水进行清洗。这样存积的清洗水中容易孳生菌类(霉)、细菌等微生物。这些微生物主要在浸渍水洗槽或清洗水贮槽的内壁表面成群地附着为膜状生存，但是这种膜状的附着物(粘液)的一部分常常从内壁表面剥离，形成漂浮于清洗水中的絮凝物。而这种絮凝物有附着或粘合在实施了电沉积涂覆的被涂物的涂膜上的趋势，如果絮凝物附着于被涂物的涂膜，则有可能该絮凝物即使通过之后的工业用水喷射清洗装置或离子交换水喷射清洗装置的清洗也很难除去，直接带入下一步的涂覆工序，导致出现不良涂膜。 作为尝试解决这种问题的方法，在专利文献6中，记载了在电沉积涂覆的清洗水中添加异噻唑啉酮系的抗菌剂(5-氯-2-甲基-异噻唑啉-3-酮、2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮等)。因为5-氯-2-甲基-异噻唑啉-3-酮、2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮常温下是液体，所以将该化合物直接添加到补充的清洗水中进行使用。上述的电沉积涂覆系统的抗菌剂、杀菌剂或防霉剂因进行电沉积涂覆、清洗而被消耗，失去了它们的有效性。为了维持有效性，需要将均勻溶解在溶剂中的抗菌剂、杀菌剂或防霉剂连续地添加在被补充到电沉积槽、电极液贮槽或清洗水贮槽内的涂料、电极液或清洗水中。因此，需要杀菌 抗菌处理装置或用于连续添加的装置等复杂的设备、繁琐的操作。现有技术文献专利文献专利文献1 日本特开平2-29468号公报专利文献2 日本特开2003-138202号公报专利文献3 日本特开平3-34902号公报专利文献4 日本特公昭61-27365号公报专利文献5 日本特公昭62-43965号公报专利文献6 日本特开2006-299380号公报
技术实现思路
本专利技术的课题在于提供一种即使不需要杀菌·抗菌处理装置或用于连续添加的装置等复杂工序也可在电沉积涂覆系统中持续的杀菌·抗菌的方法。本专利技术人为了解决上述课题，着眼于作为杀菌 抗菌剂的一种的1，2_苯并异噻唑啉-3-酮，因为其难溶于阳离子电沉积涂料、没有完全溶解的抗菌剂粉末可能给涂膜带来影响，所以目前没有用于阳离子电沉积涂覆系统。该1，2-苯并异噻唑啉-3-酮在酸性水中的溶解度低。另一方面，阳离子电沉积涂覆所使用的涂料、电极液、清洗水等是低PH的酸性液。因此，本专利技术人创制由含有1，2_苯并异噻唑啉-3-酮的药片或药块形成的杀菌 抗菌剂以及将1，2_苯并异噻唑啉-3-酮收纳在通水性容器中而形成的杀菌 抗菌剂，发现将其放入电沉积槽、电沉积涂料贮槽、电极液贮槽、浸渍清洗槽、清洗水贮槽等中，并浸入到阳离子电沉积涂料、电极液或清洗水中或者置于阳离子电沉积涂料、电极液或清洗水的流通下， 由此1，2-苯并异噻唑啉-3-酮缓慢地溶解，并以适当的浓度持续性地供给，能够在阳离子电沉积涂覆系统中持续的杀菌·抗菌。本专利技术以这些见解为基础而完成。SP，本专利技术如下 (1) 一种阳离子电沉积涂覆系统用缓释性杀菌·抗菌剂，由含有1，2-苯并异噻唑啉-3-酮的药片或药块形成；(2) 一种阳离子电沉积涂覆系统用缓释性杀菌·抗菌剂，由含有1，2-苯并异噻唑啉-3-酮与选自苯甲酸、山梨酸、1，4-双(溴乙酰氧基)-2-丁烯(BBAB)、1，4-双(溴乙酰氧基)-2-乙烷(BBAE)、1，2-二溴-2，4-二氰基丁烷(DBDCB)、2，2-二溴-3-硝基丙酰胺 (DBNPA)、2_溴-2-硝基-1,3-丙二醇(BNP)以及1，1，2，2-四(4-羟基苯基)乙烷 氯异噻唑啉包合物(TEP-CIT包合物)中的1个以上化合物的药片或药块形成；(3)如上述(1)所述的阳离子电沉积涂覆系统用缓释性杀菌·抗菌剂，其中，所述药片或药块是压缩成形体；(4)如上述(2)所述的阳离子电沉积涂覆系统用缓释性杀菌·抗菌剂，其中，所述药片或药块是压缩成形体；(5) 一种阳离子电沉积涂覆系统用缓释性杀本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种阳离子电沉积涂覆系统用缓释性杀菌·抗菌剂，由含有１，２－苯并异噻唑啉－３－酮的药片或药块形成。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：新井重文，
申请(专利权)人：日本曹达株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
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