光断层图像形成方法技术

本发明专利技术提供一种能够得到更接近实际情况的断层图像的光断层图像形成方法。经由输入单元（ＩＤ）输入第一层（Ｓ１～Ｓ３）的折射率ｎ１～ｎ３，在个人计算机（ＰＣ）内对根据断层信号得到的光断层图像进行如下校正：使通过第一层（Ｓ１）的测定光（Ｌ１）的光路长度成为（ｎ０／ｎ１）倍，另外，使通过第二层（Ｓ２）的测定光（Ｌ１）的光路长度成为（ｎ０／ｎ２）倍，使通过第三层（Ｓ３）的测定光（Ｌ１）的光路长度成为（ｎ０／ｎ３）倍。关于第一层（Ｓ１～Ｓ３）的折射率ｎ１～ｎ３，能够使用在通过手术取出的组织等中实际测定得到的折射率，或者能够使用成分等类似的物质的折射率。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
１．一种光断层图像形成方法，将从光源射出的低相干光分割为测定光和参照光，通过检测对如下反射光进行合波而得到的干涉光来形成测定对象的光断层图像：经由会聚透镜将上述测定光照射到上述测定对象时来自该测定对象的反射光；以及将上述参照光照射到与分割位置相距规定的光路长度的参照镜时来自该参照镜的反射光，该光断层图像形成方法的特征在于，输入上述测定对象的折射率，根据所输入的上述测定对象的折射率对上述光断层图像进行图像校正并进行输出。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：长井史生，
申请(专利权)人：柯尼卡美能达精密光学株式会社，
类型：发明
国别省市：JP