薄膜的检查装置和检查方法制造方法及图纸

技术编号:7151063 阅读:267 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术目的在于能够降低薄膜的基板面内的膜厚变动的影响,实现计测精度的提高。包括:对在璃基板上形成有薄膜的被检查基板(W)从该玻璃基板侧照射单波长的光的光源;以受光轴相对于从光源射出的照明光的光轴以预定的倾斜角度交叉的方式配置,对透过被检查基板(W)的扩散透过光进行受光的受光元件;和基于由受光元件接受的光的强度求出薄膜的雾度率的计算机(7)。计算机(7)具有将雾度率与扩散透过光的光强度建立关联而成的雾度率特性,利用该雾度率特性和由上述受光元件接受的光强度求出雾度率。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及对在玻璃基板上形成的薄膜,例如在太阳能电池的透明玻璃基板上形成的透明导电膜的膜质进行检查的。
技术介绍
例如,太阳能电池中,在碱玻璃等透明玻璃基板上形成有透明导电膜。透明导电膜以光封闭效果为目标,积极地在表面形成有凹凸。作为凹凸的程度,例如,对于0.8μπι的膜厚形成0.3μπι程度的凹凸。作为评价这种透明导电膜的表面凹凸的特征量,在现有技术中,使用雾度率。作为对该雾度率进行测定的方法,例如已知有在专利文献1中公开的技术。在专利文献1中,公开了对透明导电膜照射光,将反射的光至少分光为2个波长,通过对这些波长的光强度进行运算而算出透明导电膜的雾度率。另外,在专利文献1中公开了能够在制造线上组入计算雾度率的装置,能够进行具有透明导电膜的太阳能电池的全数检查。专利文献1 日本特开2005-1;34324号公报
技术实现思路
但是,透明导电膜的膜厚并不均勻,在膜面内存在膜厚变化的情况下,若要以上述现有装置对透明导电膜进行评价,则有可能在反射光谱上附有干涉波纹(干涉带 (fringe)),不能满足所期望的精度。本专利技术鉴于这样的情况而研发,其目的在于提供能够降低薄膜的基板面内的膜厚变动的影响,实现计测精度的提高的。为了解决上述课题,本专利技术采用以下的手段。本专利技术的第1方式是一种薄膜的检查装置,其包括光源,该光源对在玻璃基板上形成有薄膜的被检查基板从该玻璃基板侧照射单波长的光;受光部,该受光部以受光轴相对于从上述光源射出的照明光的光轴以预定的倾斜角度交叉的方式配置,对透过上述被检查基板的扩散透过光进行受光;和处理部,该处理部基于由受光部接受的光的强度求出上述薄膜的雾度率,上述处理部具有将雾度率与扩散透过光的光强度建立关联而成的雾度率特性,利用该雾度率特性和由上述受光部接受的光强度求出上述雾度率。根据本方式,因为从被检查基板的玻璃基板侧照射单波长的光,利用受光部接受此时的扩散透过光,基于接受的光的强度求出薄膜的雾度率,所以能够不像现有技术这样受到膜厚的影响而求出雾度率。由此,能够抑制膜厚变动引起的计测误差,能够使雾度率的计测精度提高。上述“单波长的光”是指基本波长的波长宽度为半值全宽在大约IOOnm以下优选 50nm以下的光,从LED等发光元件输出的光也包括在内。在上述薄膜的检查装置中,上述光源可以按照从上述光源射出的照明光的光轴与上述被检查基板的法线方向一致的方式配置。在上述薄膜的检查装置中,上述光源可以射出350nm以上且760nm以下的任意一种的波长,优选射出350nm以上且590nm以下的任意一种的波长。通过采用这样的波长,能够确保稳定的雾度率的计测精度。在上述薄膜的检查装置中,在光源射出470nm以上且590nm以下的任意一种的波长的情况下,优选上述受光部相对于上述被检查基板的基板面的倾斜角度为以上且 65°以下。通过这样,能够进一步提高雾度率的计测精度。在上述薄膜的检查装置中,可以在上述光源上安装有第1遮光部,在上述受光部安装有第2遮光部。通过这样安装第1遮光部、第2遮光部,能够抑制来自外部的光的进入,能够获得良好的检查环境。在上述薄膜的检查装置中,优选上述受光部以如下倾斜角度配置准备在玻璃基板上形成有不同雾度率的薄膜的多个试验片,利用上述受光部对使该试验片相对于上述照明光的光轴方向上下移动预定量时的扩散透过光进行受光,作成使该光强度与雾度率建立关联的雾度率特性的情况下,在作为检查对象的薄膜的雾度率的范围中,雾度率与光强度的关系表现为单调增加或者单调减少,并且由试验片的设置位置的上下变动引起的上述雾度率特性的变化量在预定值以下。在制造线上组入计算雾度率的装置的情况下,为了不延时地实现全数检查,需要在对形成有薄膜的被检查基板进行搬运的同时对雾度率进行计测,所以针对搬运引起的被检查基板的上下变动(运转的变动),组装牢固的计测系统变得极其重要。这是因为像上述这样,由于雾度率通过对光强度进行运算而求出,所以由基板的上下变动引起的信号电平的变动会直接造成雾度率的计测误差,使测定精度降低。根据上述这种方式,考虑这种被检查基板的上下振动而决定受光部的倾斜角度, 所以即使在被组入实际的制造线上使用的情况下也能够不受基板的上下动的影响而获得可靠性高的计测结果。在上述薄膜的检查装置中,在分别以上述受光部的倾斜角度、上述第1遮光部的光射出侧的开口部的大小和从上述光源前端到光射出端为止的长度、在上述第2遮光部的与上述受光部相反一侧的开口部的大小和从受光部的受光面到该开口部前端为止的长度、 和从上述照明光的光轴所通过的被检查基板的上表面的位置到上述受光部的受光面为止的距离作为配置参数的情况下,这些配置参数优选以如下方式决定在准备在玻璃基板上形成有不同雾度率的薄膜的多个试验片,利用上述受光部对使该试验片相对于上述照明光的光轴方向上下移动预定量时的扩散透过光进行受光,作成使该光强度与雾度率建立关联的雾度率特性的情况下,在作为检查对象的薄膜的雾度率的范围中,雾度率与光强度的关系表现为单调增加或者单调减少,并且由试验片的设置位置的上下变动引起的光强度的变化量的最大值在预定值以下。根据这种方式,考虑被检查基板的上下振动而决定各配置参数的值,所以即使在被组入实际的制造线上使用的情况下也能够不受基板的上下动的影响而获得可靠性高的计测结果。5上述薄膜的检查装置被组入到薄膜的制造线上,上述光源配置在对在制造线上搬运的上述被检查基板从该玻璃基板侧照射照明光的位置也可以。本专利技术的第2方式是具备上述任意一种薄膜的检查装置的薄膜制造系统,该薄膜制造系统对该被检查基板的薄膜进行检查,上述光源被配置成对在制造线上搬运的上述被检查基板从玻璃基板侧照射光。本专利技术的第3方式是一种薄膜的检查方法,预先保存使扩散透过光的光强度与薄膜的雾度率建立关联的雾度率特性,对在玻璃基板上形成有薄膜的被检查基板从该玻璃基板侧照射单波长的光,对透过上述被检查基板的扩散透过光进行受光,使用接受的光的强度和上述雾度率特性,求出上述薄膜的雾度率。本专利技术的第4方式是一种适用于上述薄膜的检查装置的计测系统的配置决定方法,在以上述光源的波长、上述受光部的设置倾斜角度、上述第1遮光部的光射出侧的开口部的大小和从上述光源前端到光射出端为止的长度、在上述第2遮光部的与上述受光部相反一侧的开口部的大小和从受光部的受光面到该开口部前端为止的长度、和从上述照明光的光轴所通过的被检查基板的上表面的位置到上述受光部的受光面为止的距离作为配置参数的情况下,该计测系统的配置决定方法包括准备在玻璃基板上形成有不同雾度率的薄膜的多个试验片的第1工序;在使上述参数在对每个该参数决定的预定的范围内变化的计测系统中,利用上述受光部对使该试验片相对于上述照明光的光轴方向上下移动预定量时的扩散透过光进行受光的第2工序;将在第2工序得到的扩散透过光的光强度与雾度率建立关联作成雾度率特性,并使该雾度率特性与得到该雾度率特性时的该计测系统的各参数设定值建立对应的第3工序;从在第3工序中作成的多个雾度率特性中抽出在作为检查对象的薄膜的雾度率的范围中,雾度率与光强度的关系表现为单调增加或者单调减少,并且由试验片的设置位置的上下变动引起的光强度的变化量的最大值在预定值以下的雾度率特性的第4工序;和采用在获得在上述第4工序中本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种薄膜的检查装置,其特征在于,包括:光源,该光源对在玻璃基板上形成有薄膜的被检查基板从该玻璃基板侧照射单波长的光;受光部,该受光部以受光轴相对于从所述光源射出的照明光的光轴以预定的倾斜角度交叉的方式配置,接受透过所述被检查基板的扩散透过光;和处理部,该处理部基于由受光部接受的光的强度求出所述薄膜的雾度率,所述处理部具有将雾度率与扩散透过光的光强度建立关联而成的雾度率特性,利用该雾度率特性和由所述受光部接受的光强度求出所述雾度率。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:坂井智嗣
申请(专利权)人:三菱重工业株式会社
类型:发明
国别省市:JP

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