【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
１．一种用于在基材表面上电沉积铜层的电解液组合物，该电解液组合物包含：铜（ＩＩ）离子源；含有乙内酰脲、乙内酰脲衍生物或它们的组合的第一络合剂；含有二羧酸、二羧酸的盐、三羧酸、三羧酸的盐，或它们的任意组合的第二络合剂；以及含有选自钼、钨、钒、铈和它们的组合的元素的金属酸盐。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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