紫外线吸收剂组合物制造技术

本发明专利技术提供一种紫外线吸收剂组合物，其包含紫外线吸收剂Ａ和硅化合物，其中，所述紫外线吸收剂Ａ的最大吸收波长为３５０ｎｍ－４００ｎｍ，半值宽度为５５ｎｍ或更小，并且在最大吸收波长处的摩尔消光系数为２００００或更大。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种紫外线吸收剂组合物。特别地，本专利技术涉及一种组合物，其对于长波紫外线的吸收能力优异、具有较低程度的黄色色调和在固化期间较少着色，并且其能够 在长期保持吸收能力的同时形成在耐光性方面优异的涂膜。
技术介绍
紫外线吸收剂已与各种树脂等结合使用以提供给材料紫外线吸收性。作为紫外 线吸收剂，可以使用无机紫外线吸收剂和有机紫外线吸收剂。无机紫外线吸收剂(参见例 如专利文献1-3等)在耐久性方面是优异的，例如耐候性和耐热性。然而，选择该类化合 物的自由度较低，因为吸收波长由该化合物的带隙决定。因此没有获得能够在长波紫外线 (UV-A)范围320-400nm内吸光的无机吸收剂。吸收长波紫外线的化合物被着色，因为它在 可见光范围内也有吸收。相反，对于有机紫外线吸收剂，设计其吸收结构的自由度较高，因此，通过设计吸 收结构，能够获得具有各种吸收波长的吸收剂。已经研究了各种有机紫外线吸收剂。对于在长波紫外线范围内的吸收，可以使用 在长波紫外线范围具有最大吸收波长的吸收剂或者增加吸收剂的浓度。然而，例如描述于 专利文献4和5中的吸收剂在长波紫外范围具有最大吸收波长，但它们的缺点在于耐光性 较差，以及它们的吸收能力随时间而降低。相反，二苯甲酮-和苯并三唑-基紫外线吸收剂在耐光性方面相对优异，并且浓度 或膜厚的增加实现了对在长波范围内的光的相对干净的阻挡(参见，例如专利文献6和7)。 但是，当所述紫外线吸收剂与树脂等混合施用时，膜厚被限制为至多约数十μπι。为了用上 述的膜厚阻挡在长波范围的光，需要加入高浓度的紫外线吸收剂。然而，在这种情形下，产 生的问题是长期使用过程中紫外线吸收剂的的沉淀和渗出产生。另外，在二苯甲酮-和苯 并三唑-基紫外线吸收剂中，有一些吸收剂潜在地导致皮肤刺激的问题或者在生物体内蓄 积。专利文献8，9和10描述了具有两个硫原子的5-元环化合物。另一方面，作为在耐热性、耐磨性、耐腐蚀性、绝缘性等方面优异的涂膜，二氧化 硅-涂膜用于多种应用。对于形成二氧化硅-涂膜的方法，已知有溶胶凝胶法、涂布和固化 前体聚合物如聚硅氮烷的方法等(例如，参见专利文献11至14)。作为赋予二氧化硅-涂 膜紫外线吸收性能的方法，例如已知有向聚硅氮烷加入紫外线吸收剂并获得固化的涂膜的 方法(例如，参见专利文献15)。然而，存在的问题是组合物的稳定性是不足的，并且固化材 料的透明性等也是不足的。另一方面，在将有机紫外线吸收剂用作紫外线吸收剂的情形中，不会存在关于组 合物的稳定性的问题，并且在固化的材料中不会出现起雾。但是，当通过使用例如二苯甲 酮_基紫外线吸收剂或苯并三唑_基紫外线吸收剂切断在长波紫外线范围内的紫外线是理 想的时，存在的问题是需要大量的紫外线吸收剂，并且结果是在固化期间组合物的着色变 得可见。而且，尽管通过使用用于上述专利文献14中的三嗪-基紫外线吸收剂可以避免与着色相关的问题，但是对于此情形并不能说在长波范围内的紫外光吸收性能是充分的，因此，需要进行改进。专利文献1 JP-A-5-339033 (〃 JP-A“是指未审公开的日本专利申请)专利文献2 JP-A-5-345639专利文献3 JP-A-6-56466专利文献4 JP-A-6-145387专利文献5 JP-A-2003-177235专利文献6 :JP-T-2005-517787(" JP-T“是指PCT国际申请的公开的日文翻译)专利文献7 JP-A-7-285927专利文献8 JP-A-2007-304287专利文献9 JP-A-60-170842专利文献10 :JP-B-49-11155( “ JP-B”是指审查的日本专利公开)专利文献11 JP-A-6-299118专利文献12 JP-A-2004-246872专利文献13 JP-A-2008-37671专利文献14 :W001/044371小册子专利文献15 JP-A-7-25242
技术实现思路
技术问题本专利技术提供了如下材料其对于长波紫外线吸收能力优异、具有较低程度的黄色 色调和在固化期间较少着色，并且其能够在长期保持吸收能力的同时形成在耐光性方面优 异的涂膜。经过大量的研究，本专利技术人发现上述目的可以通过包含能够与具有特定结构的紫 外线吸收剂形成硅基质的材料的组合物而实现。而且，发现了通过进一步与具有特定吸收 波形或结构的紫外线吸收剂和/或特定化合物结合可以更加地改善耐光性，并且还发现在 固化期间没有着色的问题。结合所述特定化合物的想法对于本领域技术人员并不是容易想 到的，即使鉴于该化合物的特性等。本专利技术提供如下方案紫外线吸收剂组合物，其包含紫外线吸收剂A和硅化合物，所述紫外线吸收剂A的最大吸收波长为 350nm-400nm,所述最大吸收波长显示在具有半值宽度为55nm或更小的峰中，并且所述紫 外线吸收剂A在最大吸收波长处的摩尔消光系数为20000或更大；如所述的紫外线吸收剂组合物，其中所述紫外线吸收剂A的最大吸收波长 为360nm-385nm，并且所述最大吸收波长显示在具有半值宽度为40nm或更小的峰中；如或所述的紫外线吸收剂组合物，其中所述紫外线吸收剂A包含由式 (2)代表的化合物式(2)其中，A21和A22各自独立地代表除氢原子和碳原子之外的原子；Y21和Y22各自独立 地代表氢原子或一价取代基；Y21和Y22中的至少一个代表具有Hammett取代基常数σ ρ值 为0. 2或更大的取代基；Y21和Y22任选地彼此键合形成环；和(Q2)代表与A21，A22和碳原子 一起形成5-或6-元环所必需的原子团；如所述的紫外线吸收剂组合物，其中由式(2)代表的化合物是由式(3)代 表的化合物, 式(3) ^32 丫32其中，A31和A32各自独立地代表选自氧原子、氮原子和硫原子的杂原子；Y31和Y32 各自独立地代表氢原子或一价取代基；Y31和Y32中的至少一个代表具有Hammett取代基常 数σ ρ值为0. 2或更大的取代基；Y31和Y32任选地彼此键合以形成环；和(Q3)代表与碳原 子一起形成5-或6-元环所必需的原子团；如所述的紫外线吸收剂组合物，其中由式(3)代表的化合物是由式⑷代 表的化合物式(4)其中，Y41和Y42各自独立地代表一价取代基；Y41和Y42中的至少一个代表氰基，另 一个代表取代或未取代的烷基羰基、取代或未取代的芳基羰基、取代或未取代的杂环羰基、 取代或未取代的烷基磺酰基、或取代或未取代的芳基磺酰基；V41和V42各自独立地代表氢原 子或一价取代基；如或所述的紫外线吸收剂组合物，其中，所述紫外线吸收剂A包含式 (5)代表的化合物式(5) 其中，Rbi, RB2, Rb3和Rb4各自独立地代表氢原子或一价取代基；Rb5和Rb6各自独立地代表氢原子或一价取代基；XB1，XB2，XB3和XB4各自独立地代表杂原子；如所述的紫外线吸收剂组合物，其中，式(5)代表的化合物是式(5a)代表 的化合物权利要求1.紫外线吸收剂组合物，其包含紫外线吸收剂A和硅化合物，其中，所述紫外线吸收剂A的最大吸收波长为 350nm-400nm，所述最大吸收波长显示在具有半值宽度为55nm或更小的峰中，并且所述紫 外线吸收剂A在所述最大吸收波长处的摩尔消光系数为20000或更大。2.如权利要本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．紫外线吸收剂组合物，其包含：紫外线吸收剂Ａ和硅化合物，其中，所述紫外线吸收剂Ａ的最大吸收波长为３５０ｎｍ－４００ｎｍ，所述最大吸收波长显示在具有半值宽度为５５ｎｍ或更小的峰中，并且所述紫外线吸收剂Ａ在所述最大吸收波长处的摩尔消光系数为２００００或更大。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：古川和史，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP