试样分析装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种使用ＬＥＤ元件作为光源，使包括从光源至受光元件的测光单元小型化的试样分析装置。使由ＬＥＤ构成的发光部（１５）和受光元件（２１）保持在能够以一体的方式从装置中卸下的支架（３０）上，将支架设置在保持有恒温流体（１７）的恒温槽（１８）内，从而使测光单元小型化。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于分析试样中所包含的成分含量的分析装置，例如涉及用于分析血 液或尿中所包含的成分含量的自动分析装置。
技术介绍
作为用于分析试样所包含的成分含量的分析装置，广泛使用了如下的自动分析装 置对试样或由试样和试剂混合而成的反应溶液照射来自光源的光，利用受光元件来测定 通过了试样或反应溶液的单个或多个测定波长的透过光量并算出吸光度，根据吸光度与浓 度的关系计算出成分含量(例如专利文献1)。为了在自动分析装置中与多个检查项目相对 应，需要多个测定波长，而且，为了高精度地进行测定，需要能够在所有波长中稳定地测定 出一定值以上的光量。至今，作为光源，使用了可获得比较大的光量且发光光谱较宽的卤素 灯等。近年来，作为该光源，正在研究作为半导体发光元件的发光电二极管(LightEmitting Diode =LED)的应用。LED具有低价寿命长且可实现小型化的优点。但是，为了在现有的方 法中确保一定的光量而提出了如下的方案在用于将反应溶液保持至一定温度的恒温槽的 外部配置有LED，从LED处使用透镜等光学部件，利用光学系统对光进行汇聚，并对恒温槽 内的容器或受光元件照射光(例如专利文献2、。因此，使包括光源和受光元件的测光单元 变大，未必能够小型化。另外，作为LED发光部的LED元件存在随着自身发热或周围的温度 变化而其光量及发光光谱发生变化的缺点。至今，作为散热单元，提出了由铝块来散热的结 构等(例如专利文献3)，但在使用了固体块的散热中，在光源附近需要一定体积，因而在小 型化上存在一定的极限。专利文献1 美国专利第4451433号说明书专利文献2 日本特开2007-218633号公报专利文献3 日本特许第396似91号公报在现有的自动分析装置中，当应用LED作为光源时，为确保光量而需要用于汇聚 光的光学系统及调温机构，因而这实际上无法有益于包括从光源至受光元件的测光单元的 小型化特别在自动分析装置中，为了确保检查的精度，要求具有0.01%的光量稳定性和 0. Inm以下的发光光谱稳定性。由于在现有的方法中因LED自身发热而使元件的温度发生 变化，并使光量和发光光谱发生变动，因此不能够稳定地进行测定。作为典型的例子，LED元 件的温度变化1°C时，则光量变化0. 1%。因此，为了稳定确保光量变动在0.01%以下，需要 将元件的温度变化抑制在0. 1°C以下。并且，已知当LED元件的元件温度变化1°C时，则发 光中心波长大约变化0. Inm,因而发光光谱发生变化。上述光量的变化虽然能够通过定期地 将水作为反应溶液而检测出有怎样程度的变化，但发光光谱的变化因未进行分光而无法在 受光元件中检测出。因此，需要可靠地确保LED元件的温度变化在0.1°C以下。但是，并没 有公开实现上述课题的具体方法。另外，光量的变动不仅取决于LED元件的温度而且取决于光学系统的光路。当整个光学系统的温度发生变化时，则用于支承LED元件和受光器的支架发生膨胀或缩小，而 作为LED元件与受光器之间的距离的光路长度发生变化。由此使光量发生变化。由于上述LED元件的温度变化以及上述光路的变化，而使光量发生变化。如果这 样的光量变化较大，则无法进行准确的测定。因此，为了进行更准确的测定，需要将元件的 温度保持为恒定以及将整个光学系统的温度保持为恒定。
技术实现思路
将LED元件和受光元件保持在支架上，再将该整个支架设置在用于保持恒温流体 的恒温槽内。支架典型地形成为具有如下臂部的一体结构，即具有内设有发光部的第一垂 直臂、内设有受光元件的第二垂直臂、以及将第一垂直臂与第二垂直臂的下部连接起来的 连接臂。第一垂直臂与第二垂直臂相互对置的面优选为平面，其侧面的面优选为曲面。发 光部具有发光二极管和用于将自发光二极管产生的热量散热到恒温槽内的恒温流体中的 散热板。另外，支架能够做成可卸下。在自动分析装置中，恒温槽内部的恒温流体始终被高 精度地控制在37°C 士0. 1°C以内，以将反应溶液的温度保持为恒定，通过将支架浸渍于该 恒温槽内的恒温流体中而能够将发光部与受光部之间的距离保持为一定值。本专利技术的效果如下，依照本专利技术，通过将用于使光源与受光元件成一体化的支架 设置在保持有恒温流体的恒温槽内，能够使测光单元小型化。另外，使所述支架的内侧具有 彼此相对的平面，能够使光源和受光元件接近用于保持反应溶液的容器而紧凑地配置。通 过紧凑化使从光源到受光元件的距离变得更近，则容易确保一定值以上的光量。另外，由于 能利用恒温流体对支架进行调温，因此能够抑制因LED元件与受光元件的温度变化造成光 路的变化，使光量和发光光谱长时间保持稳定，在将光量稳定性维持为0. 01%的同时，使发 光光谱保持稳定，从而能够进行高精度的测定。附图说明图1是表示分析装置的整体结构例子的概略图。图2是表示测定单元的结构例子的剖视示意图。图3是表示支架的结构例子的立体图。图4是表示从上部观察到的出射面和入射面的剖视示意图。图5是表示散热板的结构例子的图。图6是表示恒温流体为空气时的测定单元的结构例子的图。图7是表示测定单元的结构例子的图。图8是表示测定单元的结构例子的图。图9是表示测定单元的结构例子的图。具体实施例方式以下，参照附图对本专利技术的实施方式进行说明。实施例1图1是表示本专利技术的分析装置的整体结构例子的概略图。在试样盘3上配置有多 个收纳有试样1的试样杯2。在试剂盘6上配置有多个收纳有试剂4的试剂瓶5。在容器盘9上配置有多个容器(cell) 8，在该容器8的内部使试样1与试剂4混合而形成反应溶 液7。试样分注机构10从试样杯2中将试样1以一定量转移到容器8中。试剂分注机构 11从试剂瓶5中将试剂4以一定量转移到容器8中。搅拌单元12在容器8内对试样1和 试剂4进行搅拌，并使两者混合起来。测定单元13具有用于对反应溶液7照射光的光源 的发光部15、和用于对透过了反应溶液7的光进行接收的受光元件21。分析结束的容器8 由清洗单元14进行清洗，由试样分注机构10分注下个试样，由试剂分注机构11分注新的 试剂。容器8被浸渍在保持于恒温槽18内的恒温流体17中，使容器8和该容器中的反应 溶液7在被保持为一定温度的状态下进行移动。分析装置还具有向发光部供给一定电流的电流控制电路；对装置各部分进行控 制的控制部；依照来自控制部的命令，分别驱动试样盘、试剂盘和容器盘独立地旋转的驱 动部；对恒温流体的温度和流量进行控制的恒温流体控制部；存储有各种数据的数据存储 部；从外部将所需的数据输入至数据存储部中的输入部；根据受光元件21所接收的光量算 出吸光度的测定部；根据吸光度数据计算出成分含量的分析部；以及能够显示数据，并将 数据输出至外部的输出部。试样1中的某一成分含量的分析按如下的步骤进行。首先，由试样分注机构10将 试样杯2内的试样1以一定量分注于容器8内。接着，由试剂分注机构11将试剂瓶5内的 试剂4以一定量分注于容器8内。在进行上述分注时，试样盘3、试剂盘6和容器盘9在控 制部的控制下由各驱动部分别驱动旋转，并将试样杯2、试剂瓶5和容器8分别移动到分注 机构能够到达的预定位置。其次，由搅拌单元12对容器8内的试样1和试剂4进行搅拌而 形成反应溶液7。在使容器盘9旋转中，每当容器8通过测本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种试样分析装置，其特征在于，具有：保持恒温流体的恒温槽；放入反应溶液的多个容器；将所述多个容器以浸渍于所述恒温槽内的恒温流体中的状态进行保持的容器盘；驱动所述容器盘旋转的驱动部；以及保持用于产生对所述容器进行照射的光的发光部和用于检测透过了所述容器的光的受光元件的支架；所述支架以浸渍于所述恒温流体中的方式配置在所述恒温槽内。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP2008-1963372008年7月30日1.一种试样分析装置，其特征在于，具有保持恒温流体的恒温槽；放入反应溶液的多个容器；将所述多个容器以浸渍于所述恒温槽内的恒温流体中的状态进行保持的容器盘；驱动所述容器盘旋转的驱动部；以及保持用于产生对所述容器进行照射的光的发光部和用于检测透过了所述容器的光的 受光元件的支架；所述支架以浸渍于所述恒温流体中的方式配置在所述恒温槽内。2.根据权利要求1所述的试样分析装置，其特征在于，所述支架具有内设有所述发光 部的第一垂直臂；内设有所述受光元件的第二垂直臂；以及用于将所述第一垂直臂与第二 垂直臂的下部连接起来的连接臂。3.根据权利要求1所述的试样分析装置，其特征在于，所述发光部具有发光二极管； 和用于使自所述发光二极管产生的热量散热到所述恒温流体中的散热板。4.根据权利要求1所述的试样分析装置，其特征在于，所述支架能够卸下。5.根据权利要求2所述的试样分析装置，其特征在于，所述第一垂直臂和第二垂直臂 的相互对置的面为平面。6.根据权利要求5所述的试样分析装置，所述第一臂具有光出射窗，所述第二臂具有 光入射窗。7.根据权利要求5所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：足立作一郎，
申请(专利权)人：株式会社日立高新技术，
类型：发明
国别省市：JP