【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术大体来说涉及一种。
技术介绍
技术的进步已产生更小且更强大的计算装置。举例来说，当前存在多种便携式个 人计算装置，包括无线计算装置，例如体积小、重量轻且易于由用户携带的便携式无线电 话、个人数字助理(PDA)及寻呼装置。更明确地说，例如蜂窝式电话及因特网协议(IP)电 话的便携式无线电话可经由无线网络传送语音及数据包。此外，许多所述无线电话包括并 入其中的其它类型的装置。举例来说，无线电话还可包括数字静态相机、数字视频相机、数 字记录器及音频文件播放器。并且，所述无线电话可处理可执行指令，其包括可用以接入因 特网的软件应用程序，例如网页浏览器应用程序。因而，这些无线电话可包括显著的计算能 力。减小功率消耗已产生所述便携式装置内的更小的电路特征大小及操作电压。特征 大小及操作电压的减小(同时减小功率消耗)还增大对制造过程变化的敏感性。因此需要 增大具有减小的特征大小的存储器装置的可靠性的制造技术。
技术实现思路
在特定实施例中，揭示一种方法。所述方法包括在磁性隧道结(MTJ)结构上沉积 顶盖层。所述方法进一步包括在顶盖层上方沉积第一旋涂材料层；及蚀刻第一旋...
【技术保护点】
一种方法，其包含： 在磁性隧道结（ＭＴＪ）结构上沉积顶盖层； 在所述顶盖层上方沉积第一旋涂材料层；以及 蚀刻所述第一旋涂材料层及所述顶盖层的至少一部分。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】US12/164,3572008年6月30日1.一种方法，其包含在磁性隧道结(MTJ)结构上沉积顶盖层； 在所述顶盖层上方沉积第一旋涂材料层；以及 蚀刻所述第一旋涂材料层及所述顶盖层的至少一部分。2.根据权利要求1所述的方法，其进一步包含在于所述顶盖层上方沉积所述第一旋涂 材料层之前在所述顶盖层上方沉积层间电介质(ILD)层。3.根据权利要求2所述的方法，其进一步包含在沉积所述第一旋涂材料层之前在所述 ILD层的至少一部分上执行化学-机械抛光操作。4.根据权利要求1所述的方法，其中在蚀刻所述第一旋涂材料层及所述顶盖层之后， 暴露所述MTJ结构的一部分。5.根据权利要求4所述的方法，其中所述经暴露部分包括所述MTJ结构的顶部电极接 触层部分。6.根据权利要求1所述的方法，其进一步包含在沉积所述第一旋涂材料层之后及在蚀 刻所述第一旋涂材料层及所述顶盖层之后于所述顶盖层上方沉积第二旋涂材料层。7.根据权利要求6所述的方法，其进一步包含蚀刻所述第二旋涂材料层以暴露所述 MTJ结构的一部分。8.根据权利要求1所述的方法，其进一步包含在蚀刻之后，检测所述MTJ结构的顶部电极接触层被暴露。9.根据权利要求1所述的方法，其进一步包含执行多个SOM沉积及蚀刻循环以开放所 述MTJ的顶部部分。10.根据权利要求1所述的方法，其中所述旋涂材料为旋涂玻璃。11.根据权利要求1所述的方法，其中所述旋涂材料为光...
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