涂敷装置以及涂敷方法制造方法及图纸

提供能够防止在向基材涂敷了涂敷剂时产生气泡痕迹的涂敷装置。在对至少外表面为凹凸形状的基材（２）涂敷液状的涂敷剂（Ｐ２）之前，在基材中的要涂敷涂敷剂的区域内涂敷粘度比涂敷剂低的低粘度液体（溶剂、Ｐ１）。在这里，低粘度液体（Ｐ１）优选为相对于涂敷剂（Ｐ２）具有相溶性的液体。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及对至少外表面为凹凸形状的基材涂敷涂敷剂时所使用的涂敷装置以 及涂敷方法。
技术介绍
以往，具有使用凹版辊子、喷涂装置等向基材涂敷液状的涂敷剂的技术(例如，参 照专利文献1、2)。该涂敷处理在例如制造二次电池的电极时使用。即，对作为基材的集电 体，作为涂敷剂涂敷形成电极层的材料(活性物质等)。专利文献1 日本特开2007-273126号公报专利文献2 日本特开2007-112140号公报
技术实现思路
然而，在基材由多孔质体构成时，如果对基材涂敷涂敷剂，则气泡痕迹会残留于涂 敷剂的层的内部或者外表面。而且，在产生了气泡痕迹时，有时不能将涂敷有涂敷剂的基材 作为产品而使用。特别是，在将涂敷有涂敷剂的基材作为二次电池的电极而使用的情况下， 会给二次电池的特性带来不良影响。下面，对于气泡痕迹产生的原理，使用图8进行说明。在这里，图8 (A) (C)表示 使用辊子200向多孔质的基材100涂敷液状的涂敷剂P3的工序。图8 (A)是表示在涂敷涂敷剂P3之前的状态下多孔质的基材100的内部构造的概 略图。如图8㈧所示，基材100由多个颗粒IOOa构成，在颗粒IOOa之间形成有空间。在 该空间内，存在着空气。当对基材100如图8(B)所示那样使用辊子200涂敷涂敷剂P3时， 涂敷剂P3从基材100的外表面向内部浸入。在这里，当涂敷剂P3从基材100的外表面向内部浸入时，存在于基材100的内部 的空气就会如图8(C)的箭头所示那样，通过基材100的颗粒IOOa之间而向涂敷剂P3之外 排出(逸出)。即，存在于基材100的内部的空气向与涂敷剂的进入的方向相反的方向移动。此时，存在于基材100的内部的空气不一定全都排出到外部。即，有时气泡G残留 于涂敷剂P3的层的内部、外表面。由此，产生气泡痕迹。在这里，有时对涂敷有涂敷剂P3 的基材100进行由干燥炉进行的干燥处理，在使基材100干燥时，气泡G会作为气泡痕迹残&3 甶ο因此，本专利技术的目的在于提供能够防止气泡痕迹的产生的涂敷装置以及涂敷方 法。作为本申请第一专利技术的涂敷装置，其特征在于在对至少外表面为凹凸形状的基 材涂敷液状的涂敷剂之前，在基材中的要涂敷涂敷剂的区域内涂敷粘度比涂敷剂低的低粘 度液体。作为本申请第二专利技术的涂敷方法，其特征在于，具有对至少外表面为凹凸形状的3基材涂敷涂敷剂的第一工序；和在第一工序之前、在基材中的要涂敷涂敷剂的区域内涂敷 粘度比涂敷剂低的低粘度液体的第二工序。在这里，作为用于向基材涂敷低粘度液体的结构，可以使用收纳低粘度液体的收 纳构件；和通过旋转动作将收纳构件内的低粘度液体涂敷于基材的辊子构件。另外，也可以 使用对基材喷射低粘度液体的喷射单元。进而，作为用于向基材涂敷涂敷剂的结构，可以使 用收纳涂敷剂的收纳构件；和通过旋转动作将收纳构件内的涂敷剂涂敷于基材的辊子构 件。低粘度液体优选为相对于涂敷剂具有相溶性的液体。由此，即使向涂敷有低粘度 液体的区域涂敷涂敷剂，也能够防止低粘度液体以及涂敷剂互相分离。另外，涂敷于基材的 低粘度液体的量优选为将基材所包含的空间部充满的量以上。由此，能够防止空气等残留 于基材的内部，即使涂敷涂敷剂也能够防止产生气泡痕迹。作为基材，能够使用多孔质体。在使用多孔质体的基材的情况下，容易产生气泡痕 迹，所以能够合适地使用本专利技术。上述的本专利技术的，被使用于例如制造二次电池(锂离子电 池等)的电极。更具体地说，在对于作为基材的集电体，作为涂敷剂而涂敷形成电极层的材 料(活性物质等)时，可以应用本专利技术。根据本专利技术，通过在向基材涂敷涂敷剂之前，向基材涂敷粘度比涂敷剂低的低粘 度液体，能够在将从基材产生的气泡除去的情况下涂敷涂敷剂，能够防止气泡痕迹的产生。 即，通过将粘度比涂敷剂低的低粘度液体涂敷于基材，容易将气泡从低粘度液体的层、基材 排出。而且，如果在气泡排出了的状态下涂敷涂敷剂，则不会从基材产生新的气泡，能够防 止气泡痕迹的产生。附图说明 图1是表示作为本专利技术的实施例1的涂敷装置的结构的概略图。图2A是凹版辊子的侧视图。图2B是凹版辊子的剖视图。图3是使用于凹版涂敷装置的罩构件的外观立体图。图4是表示凹版涂敷装置的内部结构的概略图。图5是表示在实施例1中溶剂以及涂敷剂的涂敷工序的图。图6是是表示作为本专利技术的实施例2的涂敷装置的结构的概略图。图7是表示在实施例2中溶剂以及涂敷剂的涂敷工序的图。图8是说明气泡痕迹产生的现象的图(A C)。附图标记说明10 凹版涂敷装置13 凹版辊子(gravure roll)13a 涂敷区域13b 非涂敷区域2:基材30 喷涂装置31喷嘴32供给管41凹版涂敷装置Pl溶剂P2涂敷剂具体实施例方式下面，对本专利技术的实施例进行说明。实施例1对作为本专利技术的实施例1的涂敷装置，使用图1进行说明。在这里，图1是表示涂 敷装置的结构的概略图。基材2从原料辊子(原反口一>)(未图示)卷出，通过张紧辊子20、11、12给予 张力。张紧辊子20、11、12向图1的箭头Bl所示的方向(逆时针方向)旋转，由此向箭头 A所示的方向输送基材2。从张紧辊子12送出的基材2被实施干燥炉中的干燥处理，然后 通过卷取(收卷)辊子(未图示)卷取。相对于基材2在与张紧辊子11、12侧相反侧，配置有凹版涂敷(照相凹版式涂敷) 装置10。首先，对于凹版涂敷装置10的结构进行说明。凹版辊子(辊子构件)13接触于基材2中的位于张紧辊子11、12之间的区域。凹 版辊子13由支撑机构14能够旋转地支撑。张紧辊子11、12能够在图1的上下方向上移动， 通过调节该移动量，能够调节凹版辊子13对基材2的接触压力。另外，凹版辊子13经由动力传递机构(未图示)连接于致动器，接受来自致动器 的驱动力而旋转。凹版辊子13如图1的箭头B2所示那样，向与基材2的输送方向相反的 方向(换而言之，为图1的逆时针方向)旋转。另外，也可以使凹版辊子13向与基材2的 输送方向相同的方向旋转。从涂敷剂供给机15向凹版辊子13供给涂敷剂P2。涂敷剂P2是包含溶质以及溶 剂的溶液。涂敷剂供给机15具有用于收纳涂敷剂P2的凹状的收纳部15a。收纳部1 被形 成为沿着凹版辊子13的外周的形状(具有曲率的形状)，凹版辊子13的一部分位于收纳部 15a的内部。具体地说，凹版辊子13的大致一半位于收纳部15a的内侧。收纳部1 经由设置于涂敷剂供给机15的供给路1 与涂敷剂P2的供给源(未 图示)相连接。由此，从供给源供给的涂敷剂P2经由供给路1 导入收纳部15a。在这里， 从供给源一直供给涂敷剂P2，供给到收纳部15a的涂敷剂P2如图1的虚线所示的箭头那 样，从收纳部1 漏出而向涂敷剂供给机15的外部排出。从收纳部1 溢出的涂敷剂P2由配置于涂敷剂供给机15的下方的回收容器(未 图示)回收，返回到上述供给源。这样，涂敷剂P2经由供给源、涂敷剂供给机15而循环。另外，作为向凹版辊子13供给涂敷剂P2的结构，并不限定于在本实施例中说明的 涂敷剂供给机15的结构。即，只要是设置收纳涂敷剂P2的收纳构件、使凹版辊子13接触 于该收纳构件内的涂敷剂P2的结构即可，可以是任意的结构。刮墨刀16与凹版辊子13的外表面接触。该刮墨刀16具有擦掉附着于凹版辊子13的外表面的多本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂敷装置，其特征在于：在对至少外表面为凹凸形状的基材涂敷液状的涂敷剂之前，在所述基材中的要涂敷所述涂敷剂的区域内涂敷粘度比所述涂敷剂低的低粘度液体。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：梅原将一，
申请(专利权)人：丰田自动车株式会社，
类型：发明
国别省市：JP