微波等离子体处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种微波等离子体处理装置，其中，对用于形成等离子体的微波进行放射的平面天线（３１），在其表面以同心状被分为中央区域（３１ａ）、外周区域（３１ｃ）、中央区域和外周区域的中间区域（３１ｂ）的情况下，朝向各异的微波放射孔（３２）的对以同心圆状在中央区域（３１ａ）以及所述外周区域（３１ｃ）配列多个，在中间区域（３１ｂ）上不形成微波放射孔，微波透过板（２８）在其微波放射面上形成有凹部（２８ａ）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及进行氧化处理或氮化处理等的等离子体处理的微波等离子体处理装置。
技术介绍
等离子体处理是半导体设备的制造中不可缺少的技术，近来，由于要求LSI的高 集成、高速化，构成LSI的半导体元件的设计规则日渐微细化，另外，半导体晶片也变得大 型化，随之，即使在等离子体处理装置中也要求其能够应对这种微细化以及大型化。不过，在以往多用的平行平板型以及电感耦合型等离子体处理装置中，由于电子 温度较高，因此，在微细元件中会生成等离子体损坏，另外，由于被限定了等离子体密度较 高的区域，因此，对大型的半导体晶片进行均勻且高速的等离子体处理比较困难。因此，一种能以高密度均勻地形成低电子温度的等离子体的RLSA(Radial Line Slot Antenna(径向线缝隙天线))微波等离子体处理装置受到关注(例如，国际公开第 2004/008519 号手册)。RLSA微波等离子体处理装置是如下的装置，在腔室的上部以规定的图案设有形成 有多条狭缝(缝隙)的平面天线(Radial LineSlot Antenna)，使从微波产生源导出的微波 从平面天线的狭缝(放射孔)放射，并且经由设在其下的由电本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种微波等离子体处理装置，通过微波形成处理气体的等离子体，通过该等离子体对被处理体实施等离子体处理，其特征在于，包括：收容有被处理体的腔室；在所述腔室内载置被处理体的载置台；产生微波的微波产生源；将由微波产生源产生的微波向所述腔室进行引导的导波管；将被导入到所述导波管的微波向所述腔室进行放射的、由导体构成的平面天线；构成所述腔室的顶壁，使通过所述平面天线的微波放射孔的微波透过的、由电介质构成的微波透过板；和向所述腔室内供给处理气体的处理气体供给部，所述平面天线具有一方向上长的多个微波放射孔，在使所述平面天线的表面呈同心状地分为中央区域、外周区域和中央区域与外周区域的中间区域的情况下，朝向各异的...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：太田欣也，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP