【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于电阻抗成像
,具体涉及。
技术介绍
在进行电阻抗成像时,需要对成像区域进行剖分,并使用相应的图像重构算法进行成像,得到所有剖分单元的重构值,此重构值即代表了对应位置的电阻率变化情况。在实际的应用中,必须合理控制剖分单元的数量,如果剖分单元数量较多,则将急剧增加图像重构算法的运算量,导致图像重构速度缓慢。但是,剖分单元数量较少时,如果显示过程中直接使用剖分单元重构值对应的颜色填充剖分单元区域的话,则图像显示效果较差,不利于电阻抗成像的应用。为了增强电阻抗成像结果的图像显示质量,一般需要对成像结果进行一定的图像后处理过程。但是,传统的图像后处理过程较为复杂,运算量大,显示速度慢,影响了电阻抗成像的应用。所以,需要一种能够对电阻抗成像结果进行图像后处理、提高显示效果,并且运算量不大的快速显示方法。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种能够提高成像结果的图像显示质量和效果,并且具有运算量小、速度快的电阻抗成像结果快速显示方法。为达到上述目的,本专利技术采用的技术方案是1)首先,根据各剖分单元的成像重构值计算各节点的值;2)然后,根据剖分单元各顶点所 ...
【技术保护点】
1.一种电阻抗成像结果的快速显示方法,其特征在于:1)首先,根据各剖分单元的成像重构值计算各节点的值;2)然后,根据剖分单元各顶点所对应节点的值,计算剖分单元内各像素点的值;3)最后,将各像素点的值转变为该像素点相应的颜色,并使用直接访问显示存储空间的方法快速显示。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:董秀珍,霍旭阳,尤富生,史学涛,付峰,刘锐岗,季振宇,徐灿华,杨滨,
申请(专利权)人:中国人民解放军第四军医大学,
类型:发明
国别省市:87
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。