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微光纤布拉格光栅及其制备方法技术

技术编号:7123310 阅读:294 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种微光纤布拉格光栅及其制备方法,主要通过聚焦离子束纳米加工与制备系统在二氧化硅微光纤表面加工了周期性光栅阵列结构,该微光纤布拉格光栅结构具有反射率高、结构紧凑、散射损耗低的特点,应用该结构的液体折射率传感器具有很高的测量空间分辨率和折射率灵敏度,本发明专利技术制备的新型微光纤布拉格光栅结构具有很高的可重复性和可调节性,具体可以通过调节微光纤直径、加工光栅的刻蚀深度、周期长度、周期数得到特定反射波长、反射率、反射带宽的微光纤布拉格光栅。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于微光纤
,尤其涉及一种直径为微米级的微光纤布拉格光栅结构及其制备方法。
技术介绍
光纤的出现和光纤通信的发展,使得光纤作为一种传输介质,以光为载体,在通信、传感等方面实现了较好的应用。随着光纤技术的不断发展,光学器件开始向着微型化和集成化的趋势发展。微光纤能够将光限制在亚波长尺度内实现低损耗的传输,同时,它具有强倏逝场和高光功率密度等特点,能够实现高灵敏度的光传感和低阈值的非线性光学效应。另外,微光纤还具有很好的机械强度和弯曲性能,非常适用于组装微光子学器件。微光纤光栅由于结构紧凑、对环境灵敏度高,已经引起广泛关注。目前制备的微光纤布拉格光栅结构通常基于大于波长量级微光纤(2-10微米),并且依赖于光纤材料本身的光敏特性,所以具有尺寸较大等局限性。
技术实现思路
本专利技术的目的在于针对现有技术的不足,提供一种,该结构的光栅长度可以小于1毫米,而且可以达到大于90%的反射效率和很高的折射率传感灵敏度。本专利技术的目的是通过以下技术方案来实现的一种微光纤布拉格光栅,其特征在于,它为在二氧化硅微光纤表面加工的周期性光栅阵列结构,其中,所述二氧化硅微光纤的直径约为1-2微本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种微光纤布拉格光栅,其特征在于,它为在二氧化硅微光纤(2)表面加工的周期性光栅阵列结构(3),其中,所述二氧化硅微光纤(2)的直径约为1-2微米,布拉格光栅(3)的周期长度为572nm-660nm范围,槽深为50-200nm,周期数为800-1000左右。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:童利民刘艳鑫孟超肖尧
申请(专利权)人:浙江大学
类型:发明
国别省市:86

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