【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及珍珠的加工技术，具体涉及。
技术介绍
光泽是评价珍珠质量的一个重要指标.，通过增光来改善珍珠的光泽是珍珠加工工艺中的重要工序。目前的增光技术，主要采用化学药物浸泡、蒸煮等方法对珍珠表面及内部的污物进行溶解、吸附。同时采用抛光材料等对珍珠表面进行打磨，磨掉珍珠表面的部分突起和杂物，抛光过程中也结合抛光蜡一同使用，填充珍珠表面的空隙和空洞，以此来改善珍珠对光的反射及折射效果，从而提高珍珠的光泽及透明度。现有的珍珠增光技术不能完全解决所有珍珠的增光问题，增光效果不稳定，对珍珠光泽及透明度的提升有限。特别是部分死光珠、弱光珠，难以通过现有的增光技术使得光泽及透明度获得有效提升。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是克服上述技术缺陷的方法，提供了一种新型珍珠加工技术方法，它以天然珍珠、养殖珍珠为基材，通过溅射法在其表面复合一层透明膜层，其膜层与珍珠结合牢固、厚薄均勻、无色透明、耐磨、性质稳定，不仅不遮盖珍珠本身的颜色， 还能有效提高珍珠的光泽度及透明度，珍珠光泽能够达到强B以上，反射光明亮，表面映像清晰。为此，本专利技术采用如下的技术方案，，其步骤依次...
【技术保护点】
１．一种高光泽高透明度的珍珠制备方法，其步骤依次如下：１）镀膜前的珍珠清洗及干燥处理ａ对珍珠进行超声波除蜡，喷淋清洗；ｂ对珍珠进行超声波除油，喷淋清洗；ｃ对珍珠进行纯水超声波处理２次以上；ｄ对珍珠进行纯水漂洗２次以上；ｅ对珍珠进行热风干燥；２）将洗净干燥后的珍珠固定在真空多弧离子镀膜机炉膛内的转架上，采用真空机组进行抽排大气，真空度保持在１．０－５．０×１０－３；３）采用红外线将炉内温度加温至３０－１５０℃；４）在炉内通入氧气，溅射总气压范围为０．１～７Ｐａ；５）将Ｔｉ靶加负偏电压到４００－６００Ｖ，进行镀膜１－３０分钟。
【技术特征摘要】
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