苯氧基乙酸衍生物及其作为除草剂的应用制造技术

技术编号:70941 阅读:239 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
*** 本发明专利技术涉及通式(Ⅰ)的苯氧基乙酸衍生物及其作为除草剂的应用,式中R1、R2、Xn和A与说明书中的定义相同,A表示卤原子、羟基、OR3、S(O)kR3或通式(A-1)或(A-2)的基团,式中R3-R5和k与说明书中的定义相同。(*该技术在2018年保护过期,可自由使用*)

Phenoxy Acetic acid derivatives and their use as herbicides

* * * the invention relates to compounds of formula (I) Phenoxy Acetic acid derivatives and their use as herbicides, R1, R2 and Xn are as defined in the specification and A in the formula, A represents a halogen atom, hydroxyl, OR3, S (O) or formula kR3 (A 1) or A (- 2 the same group) and K R3 R5 defined in the specification type.

【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及新颖的苯氧基乙酸衍生物、含有它们的组合物、制备方法和中间体以及作为除草剂的应用。
技术介绍
日本专利申请昭62-48649揭示了如下通式的丙烯酸酯衍生物、其立体异构体及其金属配合物的制备方法或杀真菌或植物生长调节活性 式中V′表示氧或硫原子;X′和Y′可以相同或不同,且选自氢或卤原子、选择性取代的烷基、选择性取代的链烯基、选择性取代的芳基、选择性取代的杂环、选择性取代的链炔基、卤代烷基、烷氧基、选择性取代的卤代烷氧基、选择性取代的芳基烷氧基、选择性取代的酰氧基、选择性取代的氨基、酰氨基、硝基、腈、-CO2R3′、-CONR4R5′或-COR6′,或在苯环相邻位置的X′和Y′可形成选择性地含有一个或多个杂原子的芳族稠环或脂族稠环;Z′表示选择性取代的亚甲基、选择性取代的氨基、氧或硫,且当Z′是取代的亚甲基时,该取代基可连接到苯环的2-位形成非芳族稠环;R1′和R2′各自表示含1-4个碳原子,选择性地被一个或多个卤原子取代的烷基;R3′、R4′、R5′和R6′可相同或不同,且选自氢原子、选择性取代的烷基、环烷基、链烯基、链炔基、选择性取代的芳基、选择性取代的芳烷基和环烷基。然而,该申请没有揭示或暗示在苯环上有取代的烷基取代基(特别是卤代烷基或羟基烷基取代基)的3-烷氧基-2-苯氧基丙烯酸衍生物具有有用的除草性能。专利技术目的本专利技术的一个目的是提供用作除草剂的新颖苯氧基乙酸衍生物及其制备方法。本专利技术的第二个目的是提供使用苯氧基乙酸衍生物物除草组合物和除草方法。本专利技术的第三个目的是提供具有选择性除草活性的苯氧基乙酸衍生物。本专利技术的第四个目的提供能有效地用作低剂量除草剂的苯氧基乙酸衍生物。本专利技术的第五个目的是提供具有良好残留活性的苯氧基乙酸衍生物。本专利技术的这些和其它可以全部或部分地达到。专利技术概述本专利技术提供通式(I)的苯氧基乙酸衍生物 式中R1和R2各自表示氢原子、选择性取代的低级烷基、选择性取代的低级链烯基、选择性取代的低级链炔基、选择性取代的环烷基或CmH2m(选择性取代的苯基);X表示卤原子、氰基、低级烷氧羰基、低级烷基、低级链烯基、低级链炔基、环烷基、低级烷氧基、低级烷硫基、低级烷基亚磺酰基、低级烷基磺酰基、低级卤代烷氧羰基、低级卤代烷基、低级卤代链烯基、低级卤代链炔基、卤代环烷基、低级卤代烷氧基、低级卤代烷硫基、低级卤代烷基亚磺酰基、低级卤代烷基磺酰基、硝基、氨基、低级烷基氨基、低级二烷基氨基、选择性取代的苯氧基、低级烷基羰基氨基、氨基甲酰基、低级烷基氨基甲酰基、低级二烷基氨基甲酰基、或SF5;n和m表示0、1或2;A表示卤原子、羟基或A′,其中A′表示OR3、S(O)kR3;或表示通式II[(A-1)或(A-2)] R3表示选择性取代的低级烷基、选择性取代的低级链烯基、选择性取代的低级链炔基、选择性取代的环烷基、选择性取代的苯基、选择性取代的杂芳基、选择性取代的低级烷基羰基、选择性取代的低级链烯基羰基、选择性取代的低级链炔基羰基、选择性取代的环烷基羰基、选择性取代的苯基羰基、选择性取代的杂芳基羰基、选择性取代的环烯基、选择性取代的环烯基羰基、-CpH2p(选择性取代的苯基)、-CqH2q(选择性取代的杂芳基)、-(CrH2r)CO2烷基、-(CsH2s)环烷基、-CO(CtH2t)Y、-(CuH2u)-COCH2(选择性取代的苯基)、-(CfH2f)O(选择性取代的苯基)、-(CgH2g)S(选择性取代的苯基)、或-(CjH2j)O(CzH2z)(选择性取代的苯基);k表示0、1或2;f、g、j、z、p、q、r、s、t和u表示1或2;Y表示选择性取代的苯基、选择性取代的苯氧基、选择性取代的杂芳基、选择性取代的苯硫基、烷氧基或选择性取代的杂芳氧基;R4表示氢原子、氰基、选择性取代的低级烷基、选择性取代的低级链烯基、选择性取代的低级链炔基、选择性取代的环烷基、选择性取代的苯基或选择性取代的杂芳基;R5表示选择性取代的低级烷基、选择性取代的低级链烯基、选择性取代的低级链炔基、选择性取代的环烷基、选择性取代的苯基、选择性取代的低级烷氧基、选择性取代的低级链烯氧基、选择性取代的低级链炔氧基、选择性取代的环烷氧基、选择性取代的杂芳氧基、选择性取代的环烯氧基、选择性取代的杂芳基、-CvH2v(选择性取代的苯基)、-OCwH2w(选择性取代的苯基)、-(CxH2x)O(选择性取代的苯基)、选择性取代的低级烷硫基、选择性取代的苯硫基、-SCyH2y(选择性取代的苯基)或选择性取代的苯氧基;v、w、x和y表示1或2;它们的几何异构体;以及它们在农业上可接受的具有有效除草性的盐。在本专利技术的苯氧基乙酸衍生物中,在双键上有两种不同的立体异构体,顺式(syn)和反式(anti)(即cis(Z)和trans(E)异构体)。应当理解本专利技术既包括两种纯的异构体又包括它们的混合物。在某些情况下,取代基R1、R2、R3、R4、R5、A和X对光学异构和/或立体异构有贡献。所有这些异构体都包括在本专利技术中。术语“农业上可接受的盐”是指本领域已知和接受的用于形成农业或园艺用途的阳离子或阴离子的盐。这些盐较好是水溶性的。与碱形成的合适的盐包括碱金属(如钠和钾)盐、碱土金属(如钙或镁)盐、铵和胺(如二乙醇胺、三乙醇胺、辛胺、吗啉和二辛基甲基胺)盐。合适的酸加成盐(如由含氨基的通式I化合物)包括无机酸盐(如盐酸盐、硫酸盐、磷酸盐和硝酸盐)和有机酸盐(乙酸盐)。应当理解,在通式(I)所用的上述定义中,所有选择性取代的基团可含有一个或多个卤原子作为选择性取代基。也应当理解,对于选择性取代的环烷基、选择性取代的环烯基和其它与环烷基或环烯基部分连接的选择性取代基团,选择性取代基可选自低级烷基、低级链烯基、低级链炔基、低级卤代烷基和卤素。也应当理解,对于选择性取代的苯基、选择性取代的杂芳基、选择性取代的苯氧基、选择性取代的苯硫基、选择性取代的苯基羰基、选择性取代的杂芳基羰基、选择性取代的杂芳氧基、以及其它与苯基或杂芳基部分连接的选择性取代基,选择性取代基可选自卤素、苯氧基、低级烷基、低级卤代烷基、氰基、低级烷氧羰基、低级卤代烷氧羰基、低级烷氧基、低级卤代烷氧基、低级烷硫基、低级卤代烷硫基、低级烷基亚磺酰基、低级卤代烷基亚磺酰基、低级烷基磺酰基、低级卤代烷基磺酰基、硝基、烷基羰基、低级烷基氨基、低级二烷基氨基、氨基甲酰基、低级烷基氨基甲酰基、低级二烷基氨基甲酰基和低级烷基羰基氨基。以下对本专利技术中上述A、A′、R2、R3、R4、R5和X的某些实施方案作更详细的解释。卤素是指氟、氯、溴或碘。低级烷基是指含1-6个碳原子的直链或支链烷基,如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、新戊基、叔戊基或己基。低级链烯基是指含2-6个碳原子的直链或支链链烯基,如乙烯基、丙烯基、丁烯基或戊烯基。低级链炔基是指含2-6个碳原子的直链或支链链炔基,如乙炔基、丙炔基、丁炔基、戊炔基或己炔基。环烷基含有3-6个碳原子,如环丙基、环丁基、环戊基或环己基。环烯基含有5或6个碳原子,如环戊烯基或环己烯基。低级烷氧基含有1-6个碳原子,如甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基或戊氧基。低级链烯氧基含有2-6个碳本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种通式(Ⅰ)的苯氧基乙酸衍生物,其几何异构体,或其在农业上可接受的盐:*** (Ⅰ)(Ⅰ)式中:R1和R2各自表示氢原子、选择性取代的低级烷基、选择性取代的低级链烯基、选择性取代的低级链炔基、选择性取代的环烷基或CmH2m(选 择性取代的苯基);X表示卤原子、氰基、低级烷氧羰基、低级烷基、低级链烯基、低级链炔基、环烷基、低级烷氧基、低级烷硫基、低级烷基亚磺酰基、低级烷基磺酰基、低级卤代烷氧羰基、低级卤代烷基、低级卤代链烯基、低级卤代链炔基、卤代环烷基、低级卤代 烷氧基、低级卤代烷硫基、低级卤代烷基亚磺酰基、低级卤代烷基磺酰基、硝基、氨基、低级烷基氨基、低级二烷基氨基、选择性取代的苯氧基、低级烷基羰基氨基、氨基甲酰基、低级烷基氨基甲酰基、低级二烷基氨基甲酰基、或SF5;n和m表示0、1或2; A表示卤原子、羟基或A′,其中A′表示OR3、S(O)kR3;或表示通式Ⅱ[(A-1)或(A-2)]:***R3表示选择性取代的低级烷基、选择性取代的低级链烯基、选择性取代的低级链炔基、选择性取代的环烷基、选择性取代的苯基、选择性取 代的杂芳基、选择性取代的低级烷基羰基、选择性取代的低级链烯基羰基、选择性取代的低级链炔基羰基、选择性取代的环烷基羰基、选择性取代的苯基羰基、选择性取代的杂芳基羰基、选择性取代的环烯基、选择性取代的环烯基羰基、-CpH2p(选择性取代的苯基)、-CqH2q(选择性取代的杂芳基)、-(CrH2r)CO↓[2]烷基、-(CsH2s)环烷基、-CO(CtH2t)Y、-(CuH2u)COCH2(选择性取代的苯基)、-(CfH2f)O(选择性取代的苯基)、-(CgH2g)S(选择性取代的苯基)、或-(CjH2j)O(CzH2z)(选择性取代的苯基);k表示0、1或2;f、g、j、z、p、q、r、s、t和u表示1或2;Y表示选择性取代的苯基、选择性取代的苯氧基、选择性取代的杂芳基、选择性取代的苯硫基、烷氧基或选择 性取代的杂芳氧基;R4表示氢原子、氰基、选择性取代的低级烷基、选择性取代的低级链烯基、选择性取代的低级链炔基、选择性取代的环烷基、选择性取代的苯基或选择性取代的杂芳基;R5表示选择性取代的低级烷基、选择性取代的低级链烯基、选择性取代 的低级链炔基、选择性取代的环烷基、选择性取代的苯基、选择性取代的低级烷氧基、选择性取代的低级链烯氧基、选择性取代的低级链炔氧基...

【技术特征摘要】
JP 1997-2-6 24117/971.一种通式(I)的苯氧基乙酸衍生物,其几何异构体,或其在农业上可接受的盐(I)式中R1和R2各自表示氢原子、选择性取代的低级烷基、选择性取代的低级链烯基、选择性取代的低级链炔基、选择性取代的环烷基或CmH2m(选择性取代的苯基);X表示卤原子、氰基、低级烷氧羰基、低级烷基、低级链烯基、低级链炔基、环烷基、低级烷氧基、低级烷硫基、低级烷基亚磺酰基、低级烷基磺酰基、低级卤代烷氧羰基、低级卤代烷基、低级卤代链烯基、低级卤代链炔基、卤代环烷基、低级卤代烷氧基、低级卤代烷硫基、低级卤代烷基亚磺酰基、低级卤代烷基磺酰基、硝基、氨基、低级烷基氨基、低级二烷基氨基、选择性取代的苯氧基、低级烷基羰基氨基、氨基甲酰基、低级烷基氨基甲酰基、低级二烷基氨基甲酰基、或SF5;n和m表示0、1或2;A表示卤原子、羟基或A′,其中A′表示OR3、S(O)kR3;或表示通式II[(A-1)或(A-2)]R3表示选择性取代的低级烷基、选择性取代的低级链烯基、选择性取代的低级链炔基、选择性取代的环烷基、选择性取代的苯基、选择性取代的杂芳基、选择性取代的低级烷基羰基、选择性取代的低级链烯基羰基、选择性取代的低级链炔基羰基、选择性取代的环烷基羰基、选择性取代的苯基羰基、选择性取代的杂芳基羰基、选择性取代的环烯基、选择性取代的环烯基羰基、-CpH2p(选择性取代的苯基)、-CqH2q(选择性取代的杂芳基)、-(CrH2r)CO2烷基、-(CsH2s)环烷基、-CO(CtH2t)Y、-(CuH2u)COCH2(选择性取代的苯基)、-(CfH2f)O(选择性取代的苯基)、-(CgH2g)S(选择性取代的苯基)、或-(CjH2j)O(CzH2z)(选择性取代的苯基);k表示0、1或2;f、g、j、z、p、q、r、s、t和u表示1或2;Y表示选择性取代的苯基、选择性取代的苯氧基、选择性取代的杂芳基、选择性取代的苯硫基、烷氧基或选择性取代的杂芳氧基;R4表示氢原子、氰基、选择性取代的低级烷基、选择性取代的低级链烯基、选择性取代的低级链炔基、选择性取代的环烷基、选择性取代的苯基或选择性取代的杂芳基;R5表示选择性取代的低级烷基、选择性取代的低级链烯基、选择性取代的低级链炔基、选择性取代的环烷基、选择性取代的苯基、选择性取代的低级烷氧基、选择性取代的低级链烯氧基、选择性取代的低级链炔氧基、选择性取代的环烷氧基、选择性取代的杂芳氧基、选择性取代的环烯氧基、选择性取代的杂芳基、-CvH2v(选择性取代的苯基)、-OCwH2w(选择性取代的苯基)、-(CxH2x)O(选择性取代的苯基)、选择性取代的低级烷硫基、选择性取代的苯硫基、-SCyH2y(选择性取代的苯基)或选择性取代的苯氧基;v、w、x和y表示1或2。2.如权利要求1所述的通式(I)苯氧基乙酸衍生物,其特征在于R1和R2各自表示氢原子、选择性取代的低级烷基、选择性取代的低级链烯基、选择性取代的低级链炔基或选择性取代的环烷基;X表示卤原子、氰基、低级烷氧羰基、低级烷基、低级链烯基、低级链炔基、环烷基、低级烷氧基、低级烷硫基、低级烷基亚磺酰基、低级烷基磺酰基、低级卤代烷氧羰基、低级卤代烷基、低级卤代链烯基、低级卤代链炔基、卤代环烷基、低级卤代烷氧基、低级卤代烷硫基、低级卤代烷基亚磺酰基或低级卤代烷基磺酰基;n表示0、1或2;A表示卤原子或A′,其中A′表示OR3、SR3;或表示通式(A-1)或(A-2)R3表示选择性取代的低级烷基、选择性取代的低级链烯基、选择性取代的低级链炔基、选择性取代的低级环烷基、选择性取代的苯基、选择性取代的杂芳基、选择性取代的低级烷基羰基、选择性取代的低级链烯基羰基、选择性取代的低级链炔基羰基、选择性取代的低级环烷基羰基、选择性取代的苯基羰基或选择性取代的杂芳基羰基;R4表示氢原子、氰基、选择性取代的低级烷基、选择性取代的低级链烯基、选择性取代的低级链炔基、选择性取代的低级环烷基、选择性取代的苯基或选择性取代的杂芳基;R5表示选择性取代的低级烷基、选择性取代的低级链烯基、选择性取代的低级链炔基、选择性取代的低级环烷基、选择性取代的苯基、选择性取代的低级烷氧基、选择性取代的低级链烯氧基、选择性取代的低级链炔氧基、选择性取代的环烷氧基或选择性取代的杂芳氧基。3.如权利要求1所述的化合物,其特征在于CH2A基团位于苯环的邻位。4.如权利要求1所述的化合物,其特征在于R1和R2表示低级烷基。5.如权利要求4所述的化合物,其特征在于R1和R2表示甲基。6.如权利要求1所述的化合物,其特征在于X表示卤素。7.如权利要求6所述的化合物,其特征在于X表示氯。8.如权利要求1所述的化合物,其特征在于A表示选自卤素;羟基;A-1,其中R4表示低级烷基,且R5表示-OCwH2w(选择性取代的苯基)、选择性取...

【专利技术属性】
技术研发人员:佐佐木则雄乡敦向田秀司大江由起子
申请(专利权)人:罗纳普朗克农业公司
类型:发明
国别省市:FR[法国]

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