基板清洗装置、涂覆显影装置以及基板清洗方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板清洗装置、涂覆显影装置以及基板清洗方法。基板清洗装置能够简便且有效地清洗基板的倒角部，还有利于节省空间。本发明专利技术的实施方式的基板清洗装置包括：基板保持旋转部，其保持基板的背面中心部并使该基板旋转；清洗构件，其包括第1清洗部、配置在上述第1清洗部的周围的第2清洗部、用于安装上述第1清洗部和上述第2清洗部的底座；升降部，其使上述基板保持旋转部和上述清洗构件相对地升降，以使上述第1清洗部和上述第2清洗部能够与被保持在上述基板保持旋转部的上述基板的背面接触；驱动部，其在沿着上述基板的背面的方向上相对地驱动上述基板和上述清洗构件，以使上述第2清洗部的一部分能够露出到上述基板的外侧。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及对半导体晶圆、平板显示器用的玻璃基板(FPD用基板)等基板进行清洗的基板清洗装置、具有该基板清洗装置的涂覆显影装置以及基板清洗方法。
技术介绍
在半导体集成电路、FPD的制造工艺中，将用作蚀刻掩膜的光致抗蚀剂图案形成在基板上的光刻法不可或缺。在光刻法中，具体而言，通过在例如半导体晶圆、FPD用基板等基板上涂覆光致抗蚀剂液而形成光致抗蚀剂膜，采用规定的图案的光掩模(掩模)来对光致抗蚀剂膜进行曝光，对曝光后的光致抗蚀剂膜进行显影，从而形成光致抗蚀剂图案。对于这样的处理，一般使用将曝光装置与进行光致抗蚀剂液的涂覆和显影的涂覆显影装置连接而构成的光致抗蚀剂图案形成系统。可是，例如，在半导体晶圆(下面称为晶圆)的周缘部形成有从晶圆表面(以及背面)朝向侧面倾斜的倾斜面。具有这样的形状的周缘部被称为倒角部(bevel)。由于倒角部，涂覆到晶圆表面的光致抗蚀剂液不会在周缘部附近隆起，因而，能够在晶圆的表面上形成具有大致均勻的膜厚的光致抗蚀剂膜。然而，在光致抗蚀剂液蔓延到倒角部时，有时在倒角部也残留有抗蚀剂膜。这样的抗蚀剂膜往往利用在蚀刻之后进行的灰化也不能除去，从而作为污染源而成为问本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种基板清洗装置，其包括：基板保持旋转部，其用于保持基板的背面中心部并使该基板旋转；清洗构件，其包括第１清洗部、配置在上述第１清洗部的周围的第２清洗部、以及用于安装上述第１清洗部和上述第２清洗部的底座；升降部，其用于使上述基板保持旋转部和上述清洗构件相对地升降，以便上述第１清洗部和上述第２清洗部能够与被保持在上述基板保持旋转部的上述基板的背面接触；驱动部，其用于在沿着上述基板的背面的方向上相对地驱动上述基板和上述清洗构件，以便上述第２清洗部的一部分能够露出到上述基板的外侧。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：大河内厚，久米纯次，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP