一种光纤式薄膜沉积温度的测量装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术为一种应用于直流电弧等离子体化学气相沉积法金刚石涂层过程的沉积温度的光纤测量装置。该装置由金属圆环、模拟工件、光学透镜装置、光纤、光纤测温仪等部件所组成；均匀分布地安装在电弧弧柱周围的模拟工件将感应出电弧造成的沉积温度分布；在远离电弧弧柱、处于低温区域的光学透镜装置将模拟工件温度的光学信号传递至光纤端部，然后这些光纤送至CVD沉积室外，再经过光纤测温仪的接收器接收后转换为沉积温度的分布信息。本实用新型专利技术的优点在于：它可以避免热电偶式的测温方法容易受到直流电弧高频引燃装置干扰和损坏的问题，方便地在直流电弧等离子体化学气相沉积装置中收集温度分布的信息。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术属于金刚石涂层
，特别是提供了一种对直流电弧等离子体金刚石化学气相沉积过程中沉积温度进行实时测量的光纤式沉积温度的测量装置，利用它可在对硬质合金工具表面涂敷金刚石涂层时对被涂层的硬质合金工具的沉积温度进行实时的监测，并使得对于其沉积温度的控制成为可能。
技术介绍
以化学气相沉积法(CVD)制备的金刚石涂层具有许多独特的特性，如极高的硬度和抗磨损能力、低的摩擦系数、高的热导率和化学稳定性等。将金刚石作为保护涂层制成的硬质合金金刚石涂层工具兼备了金刚石的高硬度和硬质合金的高韧性，是加工
急需的工具品种。在对大量的硬质合金工具进行金刚石涂层时，可以采用各种各样的CVD方法，其中一种高效率的方法是直流电弧等离子体CVD法(中国专利ZL 20041 0101845. 6，授权公告日2007年9月5日)。如图1所示，在直流电弧等离子体CVD金刚石涂层设备中，阴极1、阳极8之间将产生一拉长的电弧弧柱9，它将激发由氢气、甲烷以及氩气等组成的工作气体。被涂层的硬质合金工具可顺序被安放于围绕直流电弧弧柱9的制品架10上。在电弧弧柱9的周围安装有两只电弧磁场聚焦线圈12、13，由它们提本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种光纤式薄膜沉积温度的测量装置，该装置包括在拉长的直流电弧弧柱（９）的周围设置有金属圆环（９）、模拟工件（１５）、光学透镜装置（１６）和光纤测温仪（１８）；其特征在于，所述金属圆环（９）的内孔部位均匀分布安装有多个所述模拟工件（１５），在远离所述直流电弧弧柱（９）的圆周位置处，安装有与所述模拟工件（１５）相对应的用于接收光信号的光学透镜装置（１６），所述光学透镜装置（１６）通过光纤（７）与设置在真空室（２）外的所述光纤测温仪（１８）连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：唐伟忠，黑鸿君，于盛旺，吕反修，
申请(专利权)人：北京科技大学，
类型：实用新型
国别省市：11