【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于驱动半导体激光器的方法和设备。本专利技术也涉及一种用于产生校正图案的方法,所述校正图案用于驱动半导体激光器的方法中,用于校正在自动功率控制和/或光电检测器的输出中所使用的设定值。进一步地,本专利技术涉及用光对光敏材料曝光的曝光设备,所述光从半导体激光器发射并通过空间光调制元件调制。
技术介绍
半导体激光器实际中使用在很多领域。日本未审查专利出版物No. 2005-055881 公开了一种激光曝光设备,所述激光曝光设备用空间光调制元件调制从半导体激光器发射的光,并用被调制的光曝光光敏材料。此外,发射具有波长在400nm附近的激光束的GaN型半导体激光器是公知的, 这例如在日本未审查专利出版物No. 2004-096062中公开。日本未审查专利出版物 No. 2005-055881公开了 曝光设备利用该类型的半导体激光器作为曝光光源。在半导体激光器的应用中,例如当半导体激光器应用在前述的曝光设备中时, 希望驱动半导体激光器,使得它们的光输出是恒定的。以这种方式驱动半导体激光器的已知的方法包括ACC(自动电流控制)驱动方法以及APC(自动功率控制 ...
【技术保护点】
1.一种用于获得校正图案的方法,所述校正图案应用在用于驱动至少一个半导体激光器的方法中,所述用于驱动至少一个半导体激光器的方法,包括:用至少一个光电检测器检测所述至少一个半导体激光器的输出;将所述至少一个光电检测器的输出与对应于至少一个半导体激光器的目标光输出的设定值进行比较;以及基于所述比较结果、控制所述至少一个半导体激光器的驱动电流;其中预先产生根据从其启动驱动开始所经历的时间量而被限定的校正图案,所述校正图案使得能够获得大体上均匀的光输出;以及根据从至少一个半导体激光器的启动驱动起经过一预定时间段的单个校正图案变化所述至少一个光电检测器的设定值和/或输出;所述用于获得 ...
【技术特征摘要】
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