【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
１．一种用于重金属检测的镀铋金微阵列电极的制作方法，其特征在于包括金微阵列电极的制作和金微阵列电极上的镀铋工艺两部分，其中：（１）金微电极的制作是在ＳｉＯ２上首先制作出金属图形，然后再在金属图形上旋涂一层光敏型的聚酰亚胺，然后进行第二次光刻，进行刻蚀得到微阵列电极；（２）镀铋工艺包括电镀液配置和电镀工艺参数的选定，电镀液的配置：０．０１５ｍｏｌ／Ｌ Ｂｉ（ＮＯ３）·５Ｈ２Ｏ＋１ｍｏｌ／Ｌ ＫＮＯ３＋１％ＨＮＯ３，电镀铋的时间为２ｍｉｎ，电位为－０．３Ｖ，电镀时应加入磁力搅拌。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：金庆辉，刘德盟，金妍，赵建龙，
申请(专利权)人：中国科学院上海微系统与信息技术研究所，
类型：发明
国别省市：31
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