【技术实现步骤摘要】
一方面，本专利技术涉及新的酚类丙烯酸酯单体的合成。另一方面，本专利技术涉及包含所述酚类丙烯酸酯单体的聚合物。光刻胶是用来将图像转移到基片上的光敏膜。在基片上形成光刻胶的涂层，然后透过光掩模，用活化辐射源使得所述光刻胶层曝光。所述光掩模具有对活化辐射不透明的区域，其它区域对活化辐射透明。用活化辐射曝光使得光刻胶涂层产生光诱导的化学变化， 从而将光掩模的图案转移到所述涂敷了光刻胶的基片上。曝光之后，对光刻胶进行显影，以形成允许对基片进行选择性处理的立体图像。人们对能够用短波长的辐射光成像的光刻胶很感兴趣，所述短波长辐射包括波长等于或小于270纳米、例如波长248纳米(KrF激光器提供)的曝光辐射。通过使用这种短曝光波长使得较小的特征可以形成。因此，使用能够在248纳米曝光条件下形成具有良好分辨率图像的光刻胶，可以形成极小的(例如小于0. 25微米)特征，该特征可以符合工业上一直存在的对更小尺寸的电路图案的要求，例如以获得更大的电路密度和提高的器件性能。尽管在产生高分辨率光刻胶立体图像的时候包括各种因素，但是抗蚀剂的树脂组分会具有很大的影响。人们已经进行了许多努力以制备新的抗蚀剂聚合物和单体。例如SPIE，第1466卷，《抗蚀剂技术和工艺的进展(Advances in Resist Technology and Processing))) (1991)。
技术实现思路
我们现在发现了新的合成酚类单体的方法，以及包含该单体的聚合物。更具体来说，在一个方面，提供了合成酚类丙烯酸酯化合物的方法，所述酚类丙烯酸酯化合物是例如具有下式I的化合物
【技术保护点】
１．一种用来制备丙烯酸酐的方法，该方法包括：使得酸酐与丙烯酸反应，形成丙烯酸酐。
【技术特征摘要】
2007.03.12 US 60/906,4451.一种用来制备丙烯酸酐的方法，该...
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