在使用双重隔离的过滤暗渠水道中进行反冲洗过程时用于配气和配液的装置和方法制造方法及图纸

技术编号:700794 阅读:198 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种具有过滤槽和多个暗渠支管的用于过滤的反冲洗分配装置,包括位于共用总管内的第一和第二隔离装置,其用以确定第一和第二辅助水道。第一和第二辅助水道与共用总管和暗渠支管液体连通。第一隔离装置具有至少一个水道液体计量孔,其优选位于第一隔离装置的底部附近,从而其可以低于第一辅助水道内的气液界面。第二隔离装置具有堰边或多个计量孔(或二者),用以使反冲洗液体从常规总管流入第二辅助水道内。第二隔离装置在共用总管内产生充足的液体池,用以防止气体短循环至常规总管的液体开口内,还用以在其中提供低流速的反冲洗液体,同时还提供不受限制的反冲洗气体流。第二分离器还控制反冲洗液体和/或气体在常规总管内的分配。还公开了一种在根据本发明专利技术的液体的存在下对气体进行反冲洗的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及从共用总管向用于反冲洗过滤媒质的过滤暗渠分别和同 时配气和配液的装置。
技术介绍
在用于过滤水和废水的常用的重力过滤器中,将一个或多个过滤槽 排列成相邻和相对的组。过滤暗渠的支线一个接一个地平行位于过滤槽 的底面上,用以确定处于过滤纟某质床下面的气体和液体流动管道。所述 管道的存在使在过滤过程中收集被过滤的液体和对用于反冲洗的气体和 液体进行分配成为可能。共用总管(称作"水道")紧邻过滤槽,用以在过 滤过程中从暗渠支管中收集被过滤的液体和在气体(通常为空气)或液体二些装置中,'共用总管具有比过滤器底^:一些或者:过滤器底面同样 高度的底面。顾问工程师和建筑承包人更喜欢这种布置,因为其建造方 便和便宜。在用新暗渠改造旧过滤器时,优选保留现存的水道结构以降 低成本。将Bergmann等人的、专利技术名称均为"Apparatus for Distributing Gas and Liquid During Concurrent Gas/Liquid Backwash in Filter Underdmin Flumes"的两个美国专利No. 6,306,310和6,312,611的全部内容据此结合 进来作为参考。这些专利各自涉及在反冲洗过程中通过增大气体和液体的界面而为过滤系统提供更大空间,同时在共用总管内提供空旷的管道 用以使气体流至暗渠支管。但是已发现,在一些装置中希望在气/液共存的反冲洗过程中防止或 限制空气进入敞开至总过滤水道内的反冲洗液体中。还发现在空气和水 共存的反冲洗过程中希望限制水从过滤水道中置换进入过滤槽中,这样 使过滤槽内的水的增加得到控制。还发现进一步控制主水道中的液体的 流速以确保均匀的液体反冲洗分配。本专利技术涉及由下文的描述中而显而易见的这些和其它目的。
技术实现思路
本专利技术提供一种具有带过滤槽的过滤器的反沖洗分配装置。水道被 安装在与过滤槽邻接的位置上并与过滤槽连通。所述水道具有洗涤液开 口。第一分离器装置被安装在水道内从而在所述第一隔离装置和所述过 滤槽之间确定出第 一辅助水道。所述第 一辅助水道与水道和过滤槽液体 连通。所述第 一 隔离装置具有至少 一个位于第 一 隔离装置内的水道液体 计量孔。所述水道液体计量孔的位置设置是用以在过滤器内的气/液共存的反冲洗操作过程中将液体输送至第一辅助水道内。.第二隔离装置位于水道内并与第 一 隔离装置间隔开,用以确定出第二辅助水道。所述第二隔离装置延伸到反冲洗液体开口的上面。在气/液 共存的反沖洗过程中,液体从位于第二隔离装置之上或穿过其中的水道 流至第二辅助水道内。然后液体流过所述的至少一个液体计量孔进入所 述第 一辅助水道。液体从该处流入过滤槽中。液体可以从第二隔离装置的上边缘流过而进入第二辅助水道中。可选地,液体可以流过第二隔离装置内的至少 一个液体计量孔而进入第二 辅助水道。优选地,该液体计量孔单独地位于第二隔离装置内的上部区 域。正如本领域熟练技术人员所显而易见的,过滤槽可以包括多个位于 过滤槽内的暗渠支管,且过滤媒质床位于所述暗渠支管上。所述暗渠支 管可以以暗渠区或其它适当的暗渠组形式设置。本专利技术还可以用在液体 仅仅存在于主水道中但不流动(例如,只有气体反冲洗的情况下)。所述暗 渠可以为假底和喷嘴设置,或者可以用于气体和液体反沖洗的任何其它暗渠设置。所述第一隔离装置可以包括折流板,例如不锈钢折流板,其伸展到 小于水道高度的高度上以确定出位于折流板之上的清除区域。类似地, 所述第二隔离装置可以包括伸展到小于水道高度的高度上的不锈钢折流 板。可选地,所述第二隔离装置可以伸展至水道的整个高度,从而在所 述第二隔离装置上提供非清除区域。所述第一和第二隔离装置间隔适当的距离,例如3-8英寸,从而确定出介于之间的第二辅助水道。更进一 步的替换,所述第一隔离装置可以伸展至大于所述第二隔离装置的高度, /人而防止溢出。过滤器包括分隔所述第 一辅助水道和所述过滤槽的过滤槽壁。所述 过滤槽壁具有至少一个位于其中的用于使第一辅助水道与过滤槽液体连 接的开口。该开口可称作"壁套"。第 一 隔离装置内的水道液体计量孔优选位于第 一 隔离装置的较低区 域内。第二隔离装置可以在其上部内包括两排计量孔。上排应包括气体 和/或液体计量孔,下排包括液体计量孔。此外,第二隔离装置在其较低 的边缘附近可以含有多个排水孔。第二隔离装置的更进一 步的替换应该为沿其长度上包括多个锥形计 量孔。所述锥形计量孔通常应位于第二隔离装置的上部区域内,而且沿 着第二隔离装置的长度其尺寸减小。本专利技术还包括一种在反冲洗液体存在下将反冲洗气体引入到具有过 滤槽的过滤器中的方法。所述方法包括在反冲洗液体存在下将反冲洗气 体亏1入到封闭的水道中的步骤。第 一 气/液界面建立在封闭水道内并且位 于将反冲洗液体《1入至水道内的开口之上,第二气/液界面建立在封闭水 道内。第三气/液界面建立在封闭水道内,且所述第三气/液界面位于所述 第一气/液界面之下。所述第二气/液界面在空间上位于第一和第三界面之 间。然后可以使反冲洗液体从所述第二气/液界面之下流入过滤槽内。反 冲洗气体流过位于第三气/液界面之上的开口 ,与反冲洗液体分别或同时 从封闭水道进入过滤槽。此外,所述第二气/液界面可以位于第一气/液界 面之下或与其同高,且第三气/液界面位于第二气/液界面之下。附图说明图1为根据本专利技术的第一实施方案,在气/液共存的反冲洗过程中水道和过滤槽的正^L图;图2为根据本专利技术的、常用的第一隔离装置的截面正视图; 图3为根据本专利技术的、常用的第二隔离装置的截面正视图; 图4为在气/液共存的反冲洗过程中,才艮据本专利技术的实施方案的水道和过滤槽的正浮见图;图5为根据本专利技术第二个实施方案的第二隔离装置的截面正视图; 图6为根据本专利技术的第三个实施方案,在气/液共存的反冲洗过程中水道和过滤槽的正一见图;图7为根据本专利技术的可选的第二隔离装置的截面正视图;图8为根据本专利技术的第四个实施方案,在气/液共存的反冲洗过程中水道和过滤槽的正^L图;和图9为根据本专利技术的第五个实施方案,在气/液共存的反沖洗过程中水道和过滤槽的正—见图。具体实施方式参考图1,本专利技术包括可以为折流板的第一隔离装置10,其位于共 用总管(也称作水道、水槽、沟渠、总管或室)12内用以在总管内产生第 一辅助水道14。所述总管12形成于过滤器11内并且邻接于过滤槽13 而设置。总管12是封闭的,即其不向空气敞开。总管12和过滤槽13共 享一个共用的过滤器底面15,这样总管12和过滤槽13的底面位于同一 高度。可选地,虽然未示出,但是总管12的底或底面可以比过滤槽13 的底面低一些。该后一设置称作"凹水道"设置。另一种替换(虽然不常 用)是过滤器底面可以低于水道底面。水道液体计量孔16(参见图2)优选位于在气/液共存反冲洗过程中用 于使液体从总管12流至辅助水道14的第一隔离装置10的较低部分。所 述辅助水道14在气/液共存反冲洗过程中用作气体和液体的管道。通常, 液体流过辅助水道14然后流过壁套17进入暗渠18。同样地,气体流过壁套进入暗渠18。如上所述,在共存反沖洗过程中液体通过液体计量孔 16而被引入至辅助水道14。在气/液共存的反沖洗过程中,界面20形成本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种反冲洗分配装置,包括:    具有过滤槽的过滤器;    与过滤槽相邻并与过滤槽液体连通的水道,所述水道具有用于将反冲洗液体引入水道内的液体开口;    设置在所述水道内从而在所述第一隔离装置和所述过滤槽之间确定出第一辅助水道的第一隔离装置,所述第一辅助水道与水道和过滤槽液体连通,所述第一隔离装置具有至少一个位于第一隔离装置内的水道液体计量孔,设置所述水道液体计量孔是用以在过滤槽内的气/液共存反冲洗操作过程中将液体输送至第一辅助水道;和    设置在水道内并与所述第一隔离装置间隔开从而在第一和第二隔离装置之间确定出第二辅助水道的第二隔离装置,两个隔离装置都位于液体开口的同一侧,所述第二隔离装置的伸展至高于所述液体开口的高度上;    其中在用气体进行反冲洗的过程中,当液体存在于水道中时,将水道中的气/液界面维持于高于所述液体开口。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:约翰L盖布尔
申请(专利权)人:FB利奥波特股份有限公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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