【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种在硅表面可控生长微纳孔结构的方法，其特征在于包括以下步骤： １）准备硅衬底； ２）在硅衬底表面形成金属纳米颗粒或岛状金属薄膜的分布； ３）将样品浸入电解质溶液进行电化学腐蚀； ４）将进行电化学腐蚀后的样品浸入所用金属的化学腐蚀溶液，在硅衬底表面形成微纳孔，去除微纳孔底部的金属，即在硅表面可控生长微纳孔结构。
【技术特征摘要】
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