苯基磺酰脲除草剂和安全剂的组合物制造技术

本发明专利技术涉及磺酰脲除草剂（Ａ）和它们的盐，其中Ｒ↑［２］为Ｈ、ＯＨ、脂族烃基或烃氧基，Ｒ↑［１］为酰基，其它符号如权利要求１所定义，与类型（Ｂ１）和（Ｂ２）安全剂的组合物，其中符号如权利要求１所定义。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

Composition of phenyl sulfonyl urea herbicide and safety agent

The present invention relates to sulfonylurea herbicides (A) and their salts, where R = 2 for H, OH, aliphatic alkyl or alkoxy, R = 1 for acyl, other symbols are as defined in claim 1, and type (B1) and (B2) composition security agent the right to beg, symbols are as defined in 1.

【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及作物保护剂
，尤其涉及活性物质/解毒药组合物(=活性物质/安全剂组合物)，该组合物显著地适宜于用来除灭有用植物作物中的竞争性有害植物。一些较新的除草剂活性物质在使用上具有非常良好的性质，可以极低的施用比例用来除灭广谱的多草性的和阔叶的杂草。然而许多非常有效的活性物质不能完全适合于(即不具有足够的选择性)一些重要的作物植物，例如玉米，稻或谷物类，从而在它们的使用上存在很多限制。因此在一些作物中，它们根本就不能被使用或仅可以低的施用比例使用，以致不能确保对于有害植物有所需的宽的除草剂活性。特别是，在下文将定义的式(A)的许多除草剂不能被完全选择性地使用来除灭玉米，稻，谷物或其它一些作物中的有害植物。我们近来的一些实验性研究已表明，当所述除草剂与起除草剂解毒药或安全剂的某些化合物一起施用时，可使作物植物，例如玉米，稻，小麦，大麦和其它种类出人意料地免于所述除草剂带来的有害损伤。因此本专利技术涉及除草剂/安全剂组合物，例如为除草组合物的形式，它包含A)至少一种来自式(A)的、取代的苯基磺酰脲和其盐的除草活性物质 其中W为O或S，优选O，A为一个式CR’R”基团，其中R’和R”各自独立地为H或(C1-C4)烷基，Q为O,S或NR6基团，m为0或1，n为0,1,2或3，R1为H，烃基或杂环基，后面提到的两种基团的每一种未被取代或被取代，R2为H,OH或脂族烃或烃一氧基团，后面提到的两种基团的每一种未被取代或被取代，R3为酰基，R4为卤素、CN、NO2、(C1-C4)烷基、(C1-C4)-烷氧基、[(C1-C4)烷基]羰基、[(C1-C4)-烷氧基]羰基，后面提到的四种基团的每一种未被取代或被取代，R5为H、(C1-C5)烷基或(C1-C4)烷氧基，R6为H、(C1-C4)烷基、(C3-C4)链烯基，(C3-C4)炔基，后面提到的三种基团的每一种未被取代或被一个或多个选自卤素、(C1-C4)烷基、(C1-C4)烷氧基和(C1-C4)烷硫基的基团取代，或为(C1-C4)烷氧基或OH，X1,X2各自独立地为H，卤素，(C1-C6)烷基，(C2-C6)链烯基、(C2-C6)炔基、(C3-C7)环烷基、(C1-C6)烷氧基、(C2-C6)链烯氧基、(C2-C6)炔氧基、(C1-C6)烷硫基，单-或二[(C1-C4)烷基]氨基，后面提到的7种基团的每一种未被取代或被一个或多个选自卤素，(C1-C4)烷氧基，(C1-C4)卤代烷氧基和(C1-C4)烷硫基的基团取代，和Z为CH、N或一个式 基团，其中R0为卤素、氰基、(C1-C3)烷基、(C1-C3)卤代烷基、(C1-C3)烷氧基或(C1-C3)卤代烷氧基，和B)至少一种选自式(B1)和(B2)化合物的安全剂 其中X’为氢、卤素、(C1-C4)烷基、(C1-C4)烷氧基、硝基或(C1-C4)卤代烷基，Z’为OR7,SR7或NR7R8，或为饱和或不饱和3-至7元杂环，该杂环具有至少一个氮原子和至多3个杂原子，它经由氮原子与(B1)或(B2)中的羰基基团相连，它是未被取代或被选自(C1-C4)烷基、(C1-C4)烷氧基或任选取代的苯基的基团取代，它优选为式OR7,NHR8或N(CH3)2基团，尤其为式OR7，R*为(C1或C2)链烷二炔基链，它未被取代或被一个或两个(C1-C4)烷基基团取代，或被[(C1-C3)烷氧基]羰基取代，R7为氢或一个未被取代或被取代的脂族烃基，优选总共具有1至18个碳原子，R8为氢、(C1-C6)烷基、(C1-C6)烷氧基或任选取代的苯基，n’为1至5的整数，优选1至3，W’为一个二价杂环基团，选自部分未饱和的或具有N和O一类1至3个环杂原子的杂芳族5元杂环，其中环中含有至少一个氮原子和至多一个氧原子，优选为选自式(W1)至(W4)的一个基团， R9为氢、(C1-C8)烷基、(C1-C8)卤代烷基、(C3-C12)环烷基或任选取代的苯基，R10为氢、(C1-C8)烷基、(C1-C8)卤代烷基，(C1-C4)烷氧基-(C1-C4)烷基、(C1-C6)羟基烷基、(C3-C12)环烷基或三-(C1-C4)烷基甲硅烷基，和m’为0或1。除非另有特别定义，下面定义适用于式(A),(B1)和(B2)及下文式中的基团。在各种情况下，基团烷基、烷氧基、卤代烷基、卤代烷氧基、烷基氨基和烷硫基及相应的不饱和和/或被取代的基团的碳骨架可为直链或支链。除非特别指出，例如具有1至6个碳原子的低级碳骨架基团、在不饱和基团的情况下具有2至6个碳原子的低级碳骨架基团对于这些基团来说是优选的。烷基基团、包括组合基团中的烷基，例如烷氧基、卤代烷基等中的烷基为，例如甲基、乙基、正-或异丙基、正-、异-，叔-或2-丁基、戊基、己基，例如正己基、异己基和1,3-二甲基丁基、庚基，例如正庚基、1-甲基己基和1,4-二甲基戊基；链烯基和炔基基团具有对应于烷基基团的可能的不饱和基团的含义；链烯基为例如烯丙基，1-甲基-2-丙烯基、2-甲基-2-丙烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、1-甲基-3-丁烯基和1-甲基-2-丁烯基；炔基为，例如炔丙基、2-丁炔基、3-丁炔基、1-甲基-3-丁炔基。“(C1-C4)烷基”为具有1至4个碳原子的烷基的缩写；相应的叙述适用于其它具有括号中指出的可能碳原子数的基团的通常定义。卤素为，例如氟、氯、溴或碘。卤代烷基、卤代链烯基和卤代炔基分别为部分或全部被卤素取代的烷基、链烯基和炔基，优选被氟、氯和/或溴取代，尤其优选被氟或氯取代，例如CF3、CHF2、CH2F、CF3CF2、CH2FCHCl、CCl3、CHCl2、CH2CH2Cl；卤代烷氧基为，例如OCF3、OCHF2、OCH2F、CF3CF2O、OCH2CF3和OCH2CH2Cl；相应的叙述适用于卤代链烯基和被卤素取代的其它基团。烃基团为直链、支链或环的、以及饱和或不饱和，脂族或芳香族的烃基团，例如烷基、链烯基、炔基、环烷基、环烯基或芳基；在本文中，芳基为单-、二-或多环芳香体系，例如苯基、萘基、四氢化萘基、茚基、2,3-二氢化茚基，并环戊二烯基芴基等，优选苯基；烃基团优选为具有多至12个碳原子的烷基，链烯基或炔基或具有3,4,5,6，或7个环原子的环烷基或苯基；相应的叙述适用于烃氧基团中的烃基团。杂环基团或环(杂环基)可为饱和的、不饱和的或芳香族的；它优选在环中含有1个或多个杂元，优选选自N,O,S,SO,SO2；它优选为具有3至7个环原子的脂族杂环基团或具有5至6个环原子的杂芳基团，并且含有1,2或3个杂元。杂环基团可为，例如杂芳基团或环(杂芳基)，例如单-，二-或多环芳族体系，其中至少一个环含有1个或多个杂原子，例如吡啶基、嘧啶基、哒嗪基、吡嗪基、噻吩基、噻唑基、噁唑基、呋喃基、吡咯基、吡唑基和咪唑基，或为部分氢化的基团，例如环氧乙烷基、吡咯烷基、哌啶基、哌嗪基、二氧戊环基、吗啉基、四氢呋喃基。取代的杂环基上的适宜的取代基为下文提到的取代基再另外加上氧代基。氧代基还可以以多种氧化状态出现在环杂原子上，例如N和S上。被取代的基团，例如被取代的烃基例如取代的烷基、链烯基、炔基、芳基、苯基和苄基或取代的杂环基或杂芳基为，例如从未取代的母核结构衍生而来的取代了的基团，其中取代基为，例如一个或多个、优本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种除草剂／安全剂组合物，包含Ａ）至少一种选自式（Ａ）的、取代的苯基磺酰脲和其盐的除草活性物质＊＊＊ （Ａ）其中Ｗ为Ｏ或Ｓ，Ａ为一个式ＣＲ’Ｒ”基团，其中Ｒ’和Ｒ”各自独立地为Ｈ或（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷基，Ｑ为 Ｏ，Ｓ或ＮＲ↑［６］基团，ｍ为０或１，ｎ为０，１，２或３，Ｒ↑［１］为Ｈ，烃基或杂环基，后面提到的两种基团的每一种为未被取代的或被取代的，Ｒ↑［２］为Ｈ，ＯＨ或脂族烃或烃－氧基团，后面提到的两种基团的每一种为未被取代的或被取 代的，Ｒ↑［３］为酰基，Ｒ↑［４］为卤素、ＣＮ、ＮＯ↓［２］、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷基、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）－烷氧基、［（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷基］羰基、［（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）－烷氧基］羰基，后面提到的四种基团 的每一种为未被取代的或被取代的，Ｒ↑［５］为Ｈ、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［５］）烷基或（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷氧基，Ｒ↑［６］为Ｈ、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷基、（Ｃ↓［３］－Ｃ↓［４］）链烯基，（Ｃ↓［３］－Ｃ↓［４］）炔基，后面 提到的三种基团的每一种为未被取代的或被一个或多个选自卤素、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷基、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷氧基和（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷硫基的基团取代，或为（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷氧基或ＯＨ，Ｘ↑［１］，Ｘ↑［２］各 自独立地为Ｈ，卤素，（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］）烷基，（Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］）链烯基、（Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］）炔基、（Ｃ↓［３］－Ｃ↓［７］）环烷基、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］）烷氧基、（Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］）链烯氧基、（Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］）炔氧基、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］）烷硫基，单－或二［（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷基］氨基，后面提到的十种基团的每一种为未被取代的或被一个或多个选自卤素，（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷氧基，（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）卤代烷氧基和（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷硫基的基团取代，和Ｚ为ＣＨ、Ｎ或式＝＊－Ｒ↑［０］基团，其中Ｒ↑［０］为卤素、氰基、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］）烷基、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］）卤代烷基、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］）烷氧基或（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］）卤代 烷氧基，和Ｂ）至少一种选自式（Ｂ２）化合物的安全剂＊＊＊ （Ｂ２）其中Ｘ’为氢、卤素、（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷基、（Ｃ↓［...

【技术特征摘要】
DE 1994-11-11 P4440354.21．一种除草剂/安全剂组合物，包含A)至少一种选自式(A)的、取代的苯基磺酰脲和其盐的除草活性物质 其中W为O或S，A为一个式CR’R”基团，其中R’和R”各自独立地为H或(C1-C4)烷基，Q为O,S或NR6基团，m为0或1，n为0,1,2或3，R1为H，烃基或杂环基，后面提到的两种基团的每一种为未被取代的或被取代的，R2为H,OH或脂族烃或烃-氧基团，后面提到的两种基团的每一种为未被取代的或被取代的，R3为酰基，R4为卤素、CN、NO2、(C1-C4)烷基、(C1-C4)-烷氧基、[(C1-C4)烷基]羰基、[(C1-C4)-烷氧基]羰基，后面提到的四种基团的每一种为未被取代的或被取代的，R5为H、(C1-C5)烷基或(C1-C4)烷氧基，R6为H、(C1-C4)烷基、(C3-C4)链烯基，(C3-C4)炔基，后面提到的三种基团的每一种为未被取代的或被一个或多个选自卤素、(C1-C4)烷基、(C1-C4)烷氧基和(C1-C4)烷硫基的基团取代，或为(C1-C4)烷氧基或OH，X1,X2各自独立地为H，卤素，(C1-C6)烷基，(C2-C6)链烯基、(C2-C6)炔基、(C3-C7)环烷基、(C1-C6)烷氧基、(C2-C6)链烯氧基、(C2-C6)炔氧基、(C1-C6)烷硫基，单-或二[(C1-C4)烷基]氨基，后面提到的十种基团的每一种为未被取代的或被一个或多个选自卤素，(C1-C4)烷氧基，(C1-C4)卤代烷氧基和(C1-C4)烷硫基的基团取代，和Z为CH、N或式 基团，其中R0为卤素、氰基、(C1-C3)烷基、(C1-C3)卤代烷基、(C1-C3)烷氧基或(C1-C3)卤代烷氧基，和B)至少一种选自式(B2)化合物的安全剂 其中X’为氢、卤素、(C1-C4)烷基、(C1-C4)烷氧基、硝基或(C1-C4)卤代烷基，Z，为OR7,SR7或NR7R8，或为饱和或不饱和3至7元杂环，该杂环具有至少一个氮原子和至多3个杂原子，通过氮原子与(B1)或(B2)中的羰基相连，它是未被取代的或被选自(C1-C4)烷基、(C1-C4)烷氧基或任选取代的苯基的基团取代，R*为(C1或C2)链烷二基链，它为未被取代或被一个或两个(C1-C4)烷基或被[(C1-C3)烷氧基]羰基取代，R7为氢或未被取代的或被取代的脂族烃基，R8为氢、(C1-C6)烷基、(C1-C6)烷氧基或任选取代的苯基，n’为1至5的整数。2．如权利要求1所述的除草剂/安全剂组合物，其中在式(B2)中，R7为氢、(C1-C18)烷基、(C3-C12)环烷基、(C2-C8)链烯基或(C2-C8)炔基，其中上面含碳基团为未被取代或被选自下列的相同或不同基团取代一次或多次，优选至多3次卤素、羟基、(C1-C8)烷氧基、(C1-C8)烷基巯基、(C2-C8)链烯基巯基、(C2-C8)炔基巯基、(C2-C8)链烯基氧基、(C2-C8)炔氧基、(C3-C7)环烷基、(C3-C7)环烷氧基、氰基、单-和二(C1-C4烷基)氨基、羰基、(C1-C8)烷氧基羰基、(C2-C8)链烯基氧基羰基、(C1-C8)烷基巯基羰基、(C2-C8)炔氧基羰基、(C1-C8)烷基羰基、(C2-C8)链烯基羰基、(C2-C8)炔基羰基、1-(羟基亚氨基)-(C1-C6)烷基、1-[(C1-C4)烷基亚氨基]-(C1-C4)烷基、1-[(C1-C4)烷氧基亚氨基]-(C1-C6)烷基、(C1-C8)烷基羰基氨基、(C2-C8)链烯基羰基氨基、(C2-C8)炔基羰基氨基、氨基羰基、(C1-C8)烷基氨基羰基、二-(C1-C6)烷基氨基羰基、(C2-C6)链烯基氨基羰基、(C2-C6)炔基氨基羰基、(C1-C8)烷氧基羰基氨基、(C1-C8)烷基氨基羰基氨基、(C1-C6)烷基羰基氧基，它是未被取代的或被卤素、硝基、(C1-C4)烷氧基或任选取代的苯基取代，或为(C2-C6)链烯基羰基氧基、(C2-C6)炔基羰基氧基、(C1-C8)烷基磺酰基、苯基、苯基-(C1-C6)烷氧基、苯基-(C1-C6)烷氧基羰基、苯氧基、苯氧基-(C1-C6)烷氧基、苯氧基-(C1-C6)烷氧基羰基、苯基羰基氧基、苯基羰基氨基、苯基-(C1-C6)烷基羰基氨基，其中后面提到的九种基团为未被取代的或在苯环上被选自下述的相同或不同基团取代一次或多次，最好至多三次卤素、(C1-C4)烷基、(C1-C4)烷氧基、(C1-C4)卤代烷基、(C1-C4)卤代烷氧基和硝基，以及为式-SiR’3、-O-SiR’3、R’3Si-(C1-C8)烷氧基、-CO-O-NR’2、-O-N=CR’2、-N=CR’2、-NR’2、-O-NR’2、CH(OR’)2、-O-(CH2)m-CH(OR’)2、-CR(OR’2)2和-O-(CH2)mCR(OR’2)2所示基团，其中在所述式中，R’各自独立地为氢、(C1-C4)烷基、未取代的苯基或被选自下述的相同或不同基团取代一次或多次，最好至多三次卤素、(C1-C4)烷基、(C1-C4)烷氧基、(C1-C4)卤代烷基、(C1-C4)卤代烷氧基和硝基，或成对地为(C2-C6)链烷二基链，且m=0至6,R为氢或(C1-C4)烷基，和一个式R”O-CHRCH(OR”)-(C1-C6)烷氧基的被取代的烷氧基，其中R”各自独立地为(C1-C4)烷基或一起为(C1-C6)链烷二基且R为氢或(C1-C4)烷基。3．如权利要求1或2所述的除草剂/安全剂组合物，其中在式(A)中R1为(C1-C6)烷基、(C2-C6)链烯基，(C2-C6)炔基、(C3-C6)环烷基，后面提到的四种基团中的每一种为未被取代的或被一个或多个选自卤素、CN、(C1-C4)烷氧基、(C1-C4)烷硫基、(C1-C4)卤代烷氧基、单-(C1-C4烷基)氨基，二-(C1-C4烷基)氨基、(C1-C4)烷基磺酰基、(C1-C4烷基)氨基羰基、二-(C1-C4烷基)氨基羰基、苯基和取代的苯基的基团取代，或为一个杂环基或选自式A-1至A-13基团的、具有3至7个环原子的杂环-(C1-C4)烷基类的基团 X为O、S、S(O)或SO2，R2为H、OH、(C1-C6)烷基，(C3-C7)环烷基、(C2-C6)链烯基、(C2-C6)炔基、(C1-C6)烷氧基、(C3-C7)环烷氧基、(C2-C6)链烯氧基、(C2-C6)炔氧基，后面提到的八个基团为未被取代的或被一个或多个选自(C1-C4)烷氧基、(C1-C4)卤代烷氧基、(C2-C4)...

【专利技术属性】
技术研发人员：L威勒姆斯，H比林格，E哈克，G施纳贝尔，K洛兰茨，
申请(专利权)人：赫彻斯特舍林农业发展有限公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]