【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
１．一种基板清洗装置，其特征在于，包括：将被处理基板保持为水平，并且围绕铅垂轴旋转的保持单元；能够围绕铅垂轴旋转的清洗部件；使所述清洗部件旋转的旋转机构；和使所述清洗部件沿着所述被处理基板的被清洗面移动的移动机构，其中，所述清洗部件，在基座部接合海绵状的清洗底部而构成，在所述基座部和清洗底部的中心部设置有与清洗液供给源连接的清洗液吐出口，在所述清洗底部设置有基端与所述清洗液吐出口连通，并且前端延伸至清洗部件的外周边缘部前面的多个连通槽，在所述基座部中的所述连通槽所在的部位设置有与连通槽连通的排出孔，在所述清洗底部的清洗表面的同心圆上设置有与邻接的连通槽连通的一个或多个引导槽。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：锦户修一，吉高直人，德永容一，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
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