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熔铝除杂的熔剂射流装置制造方法及图纸

技术编号:6970608 阅读:280 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术提供了一种熔铝除杂的熔剂射流装置,包括下炉体、坩埚、加热元件、射流管、中隔板和管道,其特征在于:中隔板上设置有上炉体,混合室,加热元件,上炉体设置有进气阀和排气阀,混合室和坩埚之间用射流管相连接,混合室与射流管之间用陶瓷密封垫密封。其工作原理是:将铝熔体和液态熔剂置于坩埚内,液态熔剂覆盖在铝熔体之上,增加下炉体的压力,铝熔体先沿射流管平稳进入混合室,液态熔剂随后以射流方式进入混合室与铝熔体均匀混合,卸去下炉体的压力,混合液回落到坩埚中,此操作可以循环多次。该装置除杂效率高,处理时间短,工艺过程封闭,无环境污染,除杂后的铝熔体可以直接铸造,特别适用于铝基合金熔体的除杂净化。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术属于铸造领域,涉及一种熔铝除杂的熔剂射流装置
技术介绍
在冶金、熔炼和铸造过程中,铝及其合金中不可避免的存在着一些有害的夹杂物, 这些夹杂物使基体组织不连续,成为结构件内部的裂纹源,降低合金的强度、塑性和冲击性能,同时也会成为材料化学腐蚀或电化学腐蚀的根源。另一方面,夹杂物对有害元素氢有强烈的吸附作用,是导致材料针孔、疏松的重要因素。铝中氧化夹杂的产生是由于铝熔体在与外部环境接触的界面上发生物理或化学变化,或在浇注和转移过程中因液面搅动而卷入气体产生的氧化夹杂等。清除铝及其合金中的夹杂物的方法有浮游法、熔剂法,过滤法等。其除杂原理是使用各种对夹杂物有吸附作用的吸附介质,如惰性或活性气体,液体,氯盐,过滤介质等,让熔体与吸附介质充分接触,熔体中的夹杂物与吸附介质发生物理或化学或机械的作用,向吸附介质转移,达到清除夹杂物的目的。熔剂除杂最常用的做法是将熔剂铺展在铝熔体的液面上,对熔铝中的夹杂物进行吸附;或者采用搅拌的方法,强化熔剂和铝熔体的接触,使熔铝中的夹杂物更好地被熔剂吸附。这种方法处理时间较长,除杂效果较差,而且搅拌过程容易卷入空气产生二次氧化夹杂物。为了提高熔剂除杂的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种熔铝除杂的熔剂射流装置,包括下炉体(1)、坩埚(3)、加热元件(2)、射流管(6)、加料口(7)、中隔板(8)和管道(19),下炉体(1)设置有加料口(7)和管道(19),坩埚(3)安装在下炉体(1)内,下炉体(1)周边设置有加热元件(2),其特征在于:中隔板(8)上设置有上炉体(10)、混合室(13)和加热元件(14),上炉体(10)设置有进气阀(11)和排气阀(12),混合室(13)和坩埚(3)之间用射流管(6)相连接,混合室(13)与射流管(6)之间用陶瓷密封垫(15)密封。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:曾建民顾平胡治流许征兵汤陆文李洋
申请(专利权)人:广西大学
类型:实用新型
国别省市:45

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