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一种旁流水处理设备倒置腔体制造技术

技术编号:6960840 阅读:192 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种旁流水处理设备倒置腔体,包含有:流体入口管道,流体出口管道,流体处理设备待处理腔室,流体处理设备已处理腔室,流体处理材料,隔板,排气阀,其特征在于:流体处理设备待处理腔室在流体处理设备已处理腔室下方。本发明专利技术由于将流体处理设备腔体待处理腔室安装在流体处理设备已处理腔室的下方,这样充分利用了流体的自然特性,当待处理腔室随着工作时间的推移,各种黏泥、菌、藻类含量不断上升,分子之间发生碰撞形成大分子团概率上升,各种大分子团会因为重力的作用而自然沉淀,本发明专利技术就是利用重力的自然特点,给大分子团提供一个自然的沉淀室,避免各种黏泥、菌、藻类等杂质沉积在各种流体处理材料上,从而提高了流体处理设备的净化效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种流体处理设备腔体,特指一种旁流水处理设备倒置腔体,可广泛用于工业循环水,民用循环水、制药、化工、食品加工、环境工程、冶金、中央空调、电力等领域的流体处理设备上。
技术介绍
在现代化工业循环水系统中,所有流体处理设备都是从安装流体处理材料方便来考虑,从而没有充分的利用流体的各种特点和重力的作用,人为的方法太多,而很少从自然科学的角度来设计流体处理设备,采用倒置式的腔体,虽然从材料安装上比现有技术复杂, 但从流体处理的角度及净化的效果来看,现有技术就比不上倒置式的腔体,特别从发展的现代流体处理材料来看,倒置腔体中水处理材料的安装也不存在技术上的难题。
技术实现思路
专利技术的目的本专利技术的目的是提供一种旁流水处理设备倒置腔体,该腔体主要是因采用倒置式的安装方法,将流体处理设备腔体待处理腔室部份设计安装在流体处理设备腔体已处理腔室的下方,从而在流体处理设备在运行时,随着时间的延长各种黏泥、菌、藻类分子团的百分比含量上升,因单位体积内各种杂质含量的增加,集合成更大的分子团而自然沉淀,倒置式腔体的流体处理材料都安装在待处理腔室的顶部,因此,在待处理腔室下方形成了一个给各种分子团沉淀的自然沉积室,充分利用了重力的作用,避免了现有技术安装流体处理材料后,各种分子团的沉淀落在流体处理材料上,造成流体净化效果及效率都快速下降的现象,同时减少了设备排污的次数,节约了水资源。技术方案根据本专利技术结构图1做成一台旁流双泵反冲负压倒置式水处理设备腔体,产生结构图2,如图2所示在流体处理设备W腔体中有隔板G,在隔板G的下方为待处理腔室,上方为已处理腔室,流体入口管道A安装在流体处理设备腔体W待处理腔室上,流体出口管道 B安装在流体处理设备腔体W已处理腔室上;在流体处理设备腔体W待处理腔室内的上方安装有流体处理材料S ;在流体处理设备腔体W待处理腔室上开口安装反冲出口管道D,在流体处理设备腔体W已处理腔室上开口安装反冲入口管道C。一台旁流双泵反冲负压倒置式水处理设备腔体组装完毕。(在结构图2中,流体入口管道A与反冲出口管道D都安装在流体处理设备腔体W 待处理腔室上,根据流体的特点,流体入口管道A与反冲出口管道D可在流体处理设备腔体 W待处理腔室上共同拥有一个开口 ;同理流体出口管道B与反冲入口管道C也都在流体处理设备腔体W已处理腔室上,管道B与管道C也可在流体处理设备腔体W处理腔室上共同拥有一个开口,其产生的变化结构图与结构图2在工作原理上完全一致,以下描述只按结构图2,其它变化不再描述)。将结构图2组装成一台旁流式双泵反冲负压倒置式流体处理设备产生结构图3, 其结构由五大部分构成,如图3所示1、在流体处理设备腔体W待处理腔室上安装流体运行入口部份=流体入口管道A+流体入口控制阀A1+流体入口管道A2+运行泵A3+流体入口管道A42、在流体处理设备腔体W已处理腔室上安装流体运行出口部份=流体出口管道B+流体出口控制阀B1+流体出口管道化3、在流体处理设备腔体W已处理腔室上安装反冲流体入口部份=反冲入口管道C+反冲入口控制阀C1+反冲入口管道C24、在流体处理设备腔体W待处理腔室上安装反冲流体出口部份=反冲出口管道D+反冲出口控制阀D1+反冲出口管道D2+反冲泵D3+排污管道D45、在流体处理设备腔体W本体上安装流体处理设备腔体=流体处理设备W待处理腔室(并将流体处理材料S安装在待处理腔室内的上方)+流体处理设备已处理腔室+隔板+排气阀X (在安装时应将已处理腔室安装在待处理腔室上方)。一台旁流式双泵倒置腔体反冲负压水处理设备装配完毕,如结构图3所示,现将结构图3并联到工业循环水系统管道H上,产生结构图4,本专利技术一种旁流水处理设备倒置式腔体可在食品加工,环境工程、冶金、化工、中央空调、工业循环水、民用循环水、电力、轻工等流体净化设备上广泛应用,并制造成各种单泵、双泵;正压运行、负压运行;旁流、直流等多种形式的流体处理设备。本专利技术在流体处理设备腔体上有一大创新1、流体处理设备待处理腔室在流体处理设备已处理腔室的下方,从而各种杂质被流体处理材料截留在流体处理设备腔体待处理腔室内,随着工作时间的推移,各种杂质在流体处理设备腔体待处理腔室内的浑浊度增大,浓度上升,分子间相互碰撞次数增多,形成更大分子团概率增大,在重力的作用下,较大、较重的一些分子团向下沉淀,因这时流体处理材料在待处理腔室内的上方,故在待处理腔室内的下方形成一个自然的沉积室,这些杂质自然沉积后对流体处理材料的影响比现有技术将流体处理设备待处理腔室放在已处理腔室的上方要小,从流体处理净化的效果角度来看,流体处理材料安装虽然复杂一点,但本专利技术更加注重流体的自然特性,有效的提高了流体的净化效果,延长了流体处理材料的工作时间,并减少了排污的次数,节约了水资源。附图说明下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步说明图1是本专利技术的结构图。图2是根据本专利技术图1制成一台旁流式双泵反冲负压水处理设备倒置腔体的一种结构图。图3是根据图2制成一台旁流式双泵反冲负压倒置腔体水处理设备的总装结构图。图4是根据图3组装成一台旁流式双泵反冲负压倒置腔体水处理设备并联到工业循环水系统中作为旁流水处理设备的安装结构图。图5是根据本专利技术图1制成图3后一台双泵反冲负压倒置式流体处理设备串联在环境工程中处理气体(空气)时的结构图。具体实施例方式图1中,流体入口管道A,流体出口管道B,流体处理设备腔体W,流体处理材料S, 隔板G,排气阀X。在图1中,流体入口管道A接流体处理设备腔体W待处理腔室,流体处理管道B接流体处理设备腔体W已处理腔室;在流体处理设备腔体W待处理腔室与已处理腔室之间有隔板G ;在待处理腔室内上方安装流体处理材料S ;在已处理腔室最高处安装排气阀X,一种旁流水处理设备倒置式腔体组装完毕,产生结构图1。在本专利技术结构图1中流体处理设备腔体W待处理腔室上开口安装反冲流体出口管道D ;在流体处理设备腔体W已处理腔室上开口安装反冲入口管道C,产生结构图2。将结构图2组装成一台双泵倒置式腔体反冲负压水处理设备,产生结构图3,该设备由五大部分组成,如图3所示1、在流体处理设备腔体W待处理腔室上安装流体运行入口部份=流体入口管道A+流体入口控制阀A1+流体入口管道A2+运行泵A3+流体入口管道A42、在流体处理设备腔体W已处理腔室上安装流体运行出口部份=流体出口管道B+流体出口控制阀B1+流体出口管道化3、在流体处理设备腔体W已处理腔室上安装反冲流体出口部份=反冲入口管道C+反冲入口控制阀C1+反冲入口管道C24、在流体处理设备腔体W待处理腔室上安装反冲流体出口部份=反冲出口管道D+反冲出口控制阀D1+反冲出口管道D2+反冲泵D3+排污管道D45、在流体处理设备腔体W本体上组装 流体处理设备腔体W =流体处理设备W待处理腔室(并将流体处理材料S安装在待处理腔室内的上方)+流体处理设备已处理腔室+隔板G+排气阀X(在安装时应将已处理腔室安装在待处理腔室上方)。一台旁流式双泵倒置腔体反冲负压水处理设备装配完毕,如结构图3所示,现将结构图3并联到工业循环水系统中,将流体入口管道A4与流体出口管道化分别接在循环系统管道H上,产生结构图4。本专利技术结构图1 一种旁流水处理设备倒置式腔体被制成一台旁流水处理设备(一台本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种旁流水处理设备倒置腔体,包含有:流体入口管道,流体出口管道,流体处理设备腔体待处理腔室,流体处理设备腔体已处理腔室,隔板,流体处理材料、排气阀,其特征在于:流体处理设备腔体已处理腔室在流体处理设备腔体待处理腔室上方。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:冯军李光荣
申请(专利权)人:冯军
类型:发明
国别省市:43

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