具有除草活性的3-(2-氟-4,5,6-取代苯基)-1,3-喹唑啉-2,4-二酮类化合物制造技术

具有除草活性的３－（２－氟－４，５，６－取代苯基）－１，３－喹唑啉－２，４－二酮类化合物，其通式为（Ⅰ）其中：Ｒ↓［１］为Ｈ，卤素，烷基，卤代烷基，烷氧基，硝基，ＣＮ；Ｒ↓［２］为Ｈ，ＣＮ，烷基，卤代烷基，烷氧烷基，氰烷基，环烷基，烯基，炔基，烷氧羰基，烷基磺酰基，烷基磺酰烷基，烷氧羰基烷基；Ｘ↓［１］为卤素，烷基，卤代烷基，烷氧基，硝基，ＣＮ；Ｘ↓［２］为Ｈ，卤素，烷基，卤代烷基，环烷基，烷氧基，环烷氧基，烯氧基，炔氧基，烷氧羰基，烷氧羰基烷氧基，烷氧羰基烷硫基；Ｘ↓［３］为Ｈ，卤素，烷基，卤代烷基，烷氧基，硝基，ＣＮ；Ｘ↓［１］和Ｘ↓［２］及Ｘ↓［２］和Ｘ↓［３］可形成苯并５－或６－元杂环。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

Herbicidal activity of 3- (2- fluoro substituted -4,5,6- phenyl) -1,3- quinazoline -2,4- two ketone compounds

\u5177\u6709\u9664\u8349\u6d3b\u6027\u7684\uff13\uff0d\uff08\uff12\uff0d\u6c1f\uff0d\uff14\uff0c\uff15\uff0c\uff16\uff0d\u53d6\u4ee3\u82ef\u57fa\uff09\uff0d\uff11\uff0c\uff13\uff0d\u55b9\u5511\u5549\uff0d\uff12\uff0c\uff14\uff0d\u4e8c\u916e\u7c7b\u5316\u5408\u7269\uff0c\u5176\u901a\u5f0f\u4e3a\uff08\u2160\uff09\u5176\u4e2d\uff1a\uff32\u2193\uff3b\uff11\uff3d\u4e3a\uff28\uff0c\u5364\u7d20\uff0c\u70f7\u57fa\uff0c\u5364\u4ee3\u70f7\u57fa\uff0c\u70f7\u6c27\u57fa\uff0c\u785d\u57fa\uff0c\uff23\uff2e\uff1b\uff32\u2193\uff3b\uff12\uff3d\u4e3a\uff28\uff0c\uff23\uff2e\uff0c\u70f7\u57fa\uff0c\u5364\u4ee3\u70f7\u57fa\uff0c\u70f7\u6c27\u70f7\u57fa\uff0c\u6c30\u70f7\u57fa\uff0c\u73af\u70f7\u57fa\uff0c\u70ef\u57fa\uff0c\u7094\u57fa\uff0c\u70f7\u6c27\u7fb0\u57fa\uff0c\u70f7\u57fa\u78fa\u9170\u57fa\uff0c\u70f7\u57fa\u78fa\u9170\u70f7\u57fa\uff0c\u70f7\u6c27\u7fb0\u57fa\u70f7\u57fa\uff1b\uff38\u2193\uff3b\uff11\uff3d\u4e3a\u5364\u7d20\uff0c\u70f7\u57fa\uff0c\u5364\u4ee3\u70f7\u57fa\uff0c\u70f7\u6c27\u57fa\uff0c\u785d\u57fa\uff0c\uff23\uff2e\uff1b\uff38\u2193\uff3b\uff12\uff3d\u4e3a\uff28\uff0c\u5364\u7d20\uff0c\u70f7\u57fa\uff0c\u5364\u4ee3\u70f7\u57fa\uff0c\u73af\u70f7\u57fa\uff0c\u70f7\u6c27\u57fa\uff0c\u73af\u70f7\u6c27\u57fa\uff0c\u70ef\u6c27\u57fa\uff0c\u7094\u6c27\u57fa\uff0c\u70f7\u6c27\u7fb0\u57fa\uff0c\u70f7\u6c27\u7fb0\u57fa\u70f7\u6c27\u57fa\uff0c\u70f7\u6c27\u7fb0\u57fa\u70f7\u786b\u57fa\uff1b\uff38\u2193\uff3b\uff13\uff3d\u4e3a\uff28\uff0c\u5364\u7d20\uff0c\u70f7\u57fa\uff0c Halogenated alkyl, alkoxy, nitro, CN; X: 1 and X: 2 and X: 2 and X: 3. The formation of benzene and 5 - or 6 - membered heterocyclic ring.

【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于除草剂领域。由于除草剂或其组合物在使用一段时间后，杂草会对其产生抗性，因此，需要不断专利技术新型的和改进的除草化合物和组合物。此外，考虑到经济及环境等方面的因素，专利技术与现有除草剂作用机制不同的除草剂亦是非常必要的。某些3-(2-氟取代苯基)-1，3-喹唑啉-2，4-二酮类化合物作为医药已有报道，见EP40793，US4405623。但在上述专利中，未见其除草活性的报道。而本专利技术所示的3-(2-氟-4，5，6-取代苯基)-1，3-喹唑啉-2，4-二酮类化合物亦未见公开。本专利技术的目的在于提供一种新的3-(2-氟-4，5，6-取代苯基)-1，3-喹唑啉-2，4-二酮类化合物；本专利技术的另一个目的在于将这类化合物及其组合物作为广谱除草剂，在苗前苗后使用、有效地控制单双子叶杂草。本专利技术亦涉及制备这些化合物、应用这些化合物及其组合物进行除草的方法。本专利技术所提供的化合物的通式如下 其中R1为H，卤素，(C1-C4)烷基，卤代(C1-C3)烷基，(C1-C3)烷氧基，卤代(C1-C3)烷氧基，硝基或CN；R2为H，CN，(C1-C4)烷基，卤代(C1-C3)烷基，(C1-C4)烷氧(C1-C2)烷基，(C2-C4)烯氧(C1-C2)烷基，(C3-C6)炔氧(C1-C2)烷基，氰(C1-C4)烷基，(C1-C6)环烷基，(C3-C6)烯基，卤代(C3-C6)烯基，(C3-C6)炔基，卤代(C3-C6)炔基，(C1-C4)烷氧羰基，(C1-C4)烷基磺酰基，(C1-C3)烷基磺酰(C1-C2)烷基基或(C1-C4)烷氧羰基(C1-C2)烷基；X1为卤素，(C1-C6)烷基，卤代(C1-C6)烷基，(C1-C6)烷氧基，硝基或CN；X2为H，卤素，(C1-C6)烷基，卤代(C1-C6)烷基，(C1-C6)环烷基，(C1-C6)烷氧基，(C3-C6)环烷氧基，(C2-C6)烯氧基，(C3-C6)炔氧基，(C1-C4)烷氧羰基，(C2-C6)烯氧羰基，(C3-C6)炔氧羰基，(C1-C6)烷基磺酰氨基，(C1-C6)烷基磺酰(C1-C2)烷基氨基，(C1-C4)烷氧羰基(C1-C2)烷氧基或(C1-C4)烷氧羰基(C1-C2)烷硫基；X3为H，卤素，(C1-C4)烷基，卤代(C1-C3)烷基，(C1-C3)烷氧基，硝基或CN；当X3为H时，X1和X2可形成如下所示的苯并5-或6-元杂环 其中L为O或S；R3为H或(C1-C4)烷基；R4为H，(C1-C6)烷基，卤代(C1-C6)烷基，(C1-C6)环烷基，(C3-C6)烯基，卤代(C3-C6)烯基，(C3-C6)炔基，卤代(C3-C6)炔基，(C1-C6)烷氧(C1-C2)烷基，(C2-C6)烯氧(C1-C2)烷基，(C3-C6)炔氧(C1-C2)烷基或氰(C1-C6)烷基；R5为H，氟或(C1-C3)烷基；当X1为CN或卤素时，X2和X3可形成如下所示的苯并5-元杂环 其中Y为O，S或-NR9；Y’为Y或-CO；R6，R7，R8为H，卤素，CN，(C1-C6)烷基，(C3-C6)环烷基，(C2-C6)烯基，(C3-C6)炔基，卤代(C1-C6)烷基，(C1-C6)烷氧基，(C1-C6)羟烷基，-CO2R10，醛基，(C1-C6)烷羰基，(C1-C6)烷硫基，(C1-C6)烷基亚磺酰基，(C1-C6)烷基磺酰基，卤代(C1-C6)烷硫基，卤代(C1-C6)烷基磺酰基或卤代(C1-C6)烷基亚磺酰基；R9，R10分别为H，(C1-C6)烷基，(C3-C6)烯基或(C3-C6)炔基；及其盐类制剂。本专利技术中较为优选的化合物为，在通式(I)所表示的化合物中R1为H；R2为H，CN，(C1-C4)烷基，卤代(C1-C3)烷基，(C1-C4)烷氧(C1-C2)烷基，氰(C1-C4)烷基，(C1-C6)环烷基，(C3-C6)烯基，(C3-C6)炔基，(C1-C3)烷基磺酰(C1-C2)烷基基或(C1-C4)烷氧羰基(C1-C2)烷基；X1为卤素，卤代(C1-C6)烷基，硝基或CN；X2为卤素，卤代(C1-C6)烷基，(C1-C6)烷氧基，(C3-C6)环烷氧基，(C2-C6)烯氧基，(C3-C6)炔氧基，(C1-C4)烷氧羰基，(C2-C6)烯氧羰基，(C3-C6)炔氧羰基，(C1-C6)烷基磺酰氨基，(C1-C6)烷基磺酰(C1-C2)烷基氨基或(C1-C4)烷氧羰基(C1-C2)烷氧基；X3为H；X1和X2还可以形成如下所示的苯并5-或6-元杂环 其中L为O；R3为H或(C1-C3)烷基；R4为(C1-C5)烷基，卤代(C1-C5)烷基，(C1-C5)环烷基，(C3-C5)烯基，卤代(C3-C5)烯基，(C3-C5)炔基，卤代(C3-C5)炔基，(C1-C4)烷氧(C1-C2)烷基，(C2-C5)烯氧(C1-C2)烷基，(C3-C5)炔氧(C1-C2)烷基或氰(C1-C5)烷基；R5为H，氟或(C1-C3)烷基；及其盐类制剂。本专利技术中更优选的化合物为下述两部分化合物，第一部分为在通式(I)所示的化合物中R1和X3为H；X1为卤素，卤代(C1-C6)烷基，硝基或CN；R2为H，CN，(C1-C4)烷基，卤代(C1-C3)烷基，(C1-C4)烷氧(C1-C2)烷基，氰(C1-C4)烷基，(C1-C6)环烷基，(C3-C6)烯基，(C3-C6)炔基或(C1-C4)烷氧羰基(C1-C2)烷基；X2为卤素，卤代(C1-C6)烷基，(C1-C6)烷氧基，(C3-C6)环烷氧基，(C2-C6)烯氧基，(C3-C6)炔氧基，(C1-C4)烷氧羰基，(C2-C6)烯氧羰基，(C3-C6)炔氧羰基或(C1-C4)烷氧羰基(C1-C2)烷氧基；及其盐类制剂。第二部分化合物为当R1、X3为H时，X1和X2可形成如下所示的苯并6-元杂环 其中R2为H，CN，(C1-C4)烷基，卤代(C1-C3)烷基，(C1-C4)烷氧(C1-C2)烷基，氰(C1-C4)烷基或(C1-C6)环烷基；R4为(C1-C5)烷基，卤代(C1-C5)烷基，(C1-C5)环烷基，(C3-C5)烯基，卤代(C3-C5)烯基，(C3-C5)炔基，卤代(C3-C5)炔基，(C1-C4)烷氧(C1-C2)烷基，(C2-C5)烯氧(C1-C2)烷基，(C3-C5)炔氧(C1-C2)烷基或氰(C1-C5)烷基；及其盐类制剂。本专利技术化合物的盐类制剂可由本专利技术化合物与有机酸如乙酸，无机酸如盐酸及其金属盐(如氯化锌或氯化铁)混合所形成。所谓的烷基是指直链或支链形式，例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、特丁基、正戊基、异戊基、正己基等基团。环烷基是指包括环状链形式，例如环丙基、环丁基、环戊基、环己基等基团。卤烷基是指烷基被一个或多个卤原子取代的基团。烷基磺酰烷基指的是烷基上有烷基磺酰基(烷基-SO2)取代基团，如甲基磺酰甲基等基团。烷基亚磺酰烷基指的是烷基上有烷基亚磺酰基(烷基-SO)取代基团，如甲基亚磺酰甲基等基团。所谓的烯基是指直链或支链形式，有1到2个碳碳双键的基团，例如乙烯基、丙烯基、烯丙基等。所谓的炔基是指直链或支链形式，有1到2个碳碳三键的基团，例如乙炔基、丙炔基、炔丙基等。所谓的烷氧基是指直链或支链形本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有除草活性的３－（２－氟－４，５，６－取代苯基）－１，３－喹唑啉－２，４－二酮类化合物，其特征在于本专利技术的标题化合物（Ⅰ）的通式为：＊＊＊ Ⅰ其中：Ｒ↓［１］为Ｈ，卤素，（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷基，卤代（Ｃ↓［１］－Ｃ ↓［３］）烷基，（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］）烷氧基，卤代（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］）烷氧基，硝基或ＣＮ；Ｒ↓［２］为Ｈ，ＣＮ，（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷基，卤代（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］）烷基，（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷氧（Ｃ↓［１］－Ｃ ↓［２］）烷基，（Ｃ↓［２］－Ｃ↓［４］）烯氧（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２］）烷基，（Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］）炔氧（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２］）烷基，氰（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷基，（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］）环烷基，（Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］）烯基，卤代（Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］）烯基，（Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］）炔基，卤代（Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］）炔基，（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷氧羰基，（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷基磺酰基，（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］）烷基磺酰（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２］）烷基基或（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷氧羰基（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２］）烷基；Ｘ↓［１］为卤素，（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］）烷基，卤代（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］）烷基，（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］）烷氧基，硝基或ＣＮ；Ｘ↓［２］为Ｈ，卤素，（Ｃ↓ ［１］－Ｃ↓［６］）烷基，卤代（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］）烷基，（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］）环烷基，（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］）烷氧基，（Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］）环烷氧基，（Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］）烯氧基，（Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］）炔氧基，（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷氧羰基，（Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］）烯氧羰基，（Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］）炔氧羰基，（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］）烷基磺酰氨基，（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］）烷基磺酰（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２］）烷基氨基，（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷氧羰基（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２］）烷氧基或（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷氧羰基（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２］）烷硫基；Ｘ↓［３］为Ｈ，卤素，（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］）烷基，卤代（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］）烷基，（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］）烷氧基，硝基 或ＣＮ；当Ｘ↓［３］为Ｈ时，Ｘ↓［１］和Ｘ↓［２］可形成如下所示的苯并５－或６－元杂环：＊＊＊其中：Ｌ为Ｏ或Ｓ；Ｒ↓［３］为Ｈ...

【技术特征摘要】
1.一种具有除草活性的3-(2-氟-4，5，6-取代苯基)-1，3-喹唑啉-2，4-二酮类化合物，其特征在于本发明的标题化合物(I)的通式为 其中R1为H，卤素，(C1-C4)烷基，卤代(C1-C3)烷基，(C1-C3)烷氧基，卤代(C1-C3)烷氧基，硝基或CN；R2为H，CN，(C1-C4)烷基，卤代(C1-C3)烷基，(C1-C4)烷氧(C1-C2)烷基，(C2-C4)烯氧(C1-C2)烷基，(C3-C6)炔氧(C1-C2)烷基，氰(C1-C4)烷基，(C1-C6)环烷基，(C3-C6)烯基，卤代(C3-C6)烯基，(C3-C6)炔基，卤代(C3-C6)炔基，(C1-C4)烷氧羰基，(C1-C4)烷基磺酰基，(C1-C3)烷基磺酰(C1-C2)烷基基或(C1-C4)烷氧羰基(C1-C2)烷基；X1为卤素，(C1-C6)烷基，卤代(C1-C6)烷基，(C1-C6)烷氧基，硝基或CN；X2为H，卤素，(C1-C6)烷基，卤代(C1-C6)烷基，(C1-C6)环烷基，(C1-C6)烷氧基，(C3-C6)环烷氧基，(C2-C6)烯氧基，(C3-C6)炔氧基，(C1-C4)烷氧羰基，(C2-C6)烯氧羰基，(C3-C6)炔氧羰基，(C1-C6)烷基磺酰氨基，(C1-C6)烷基磺酰(C1-C2)烷基氨基，(C1-C4)烷氧羰基(C1-C2)烷氧基或(C1-C4)烷氧羰基(C1-C2)烷硫基；X3为H，卤素，(C1-C4)烷基，卤代(C1-C3)烷基，(C1-C3)烷氧基，硝基或CN；当X3为H时，X1和X2可形成如下所示的苯并5-或6-元杂环 其中L为O或S；R3为H或(C1-C4)烷基；R4为H，(C1-C6)烷基，卤代(C1-C6)烷基，(C1-C6)环烷基，(C3-C6)烯基，卤代(C3-C6)烯基，(C3-C6)炔基，卤代(C3-C6)炔基，(C1-C6)烷氧(C1-C2)烷基，(C2-C6)烯氧(C1-C2)烷基，(C3-C6)炔氧(C1-C2)烷基或氰(C1-C6)烷基；R5为H，氟或(C1-C3)烷基；当X1为CN或卤素时，X2和X3可形成如下所示的苯并5-元杂环 其中Y为O，S或-NR9；Y’为Y或-CO；R6，R7，R8为H，卤素，CN，(C1-C6)烷基，(C3-C6)环烷基，(C2-C6)烯基，(C3-C6)炔基，卤代(C1-C6)烷基，(C1-C6)烷氧基，(C1-C6)羟烷基，-CO2R10，醛基，(C1-C6)烷羰基，(C1-C6)烷硫基，(C1-C6)烷基亚磺酰基，(C1-C6)烷基磺酰基，卤代(C1-C6)烷硫基，卤代(C1-C6)烷基磺酰基或卤代(C1-C6)烷基亚磺酰基；R9，R10分别为H，(C1-C6)烷基，(C3-C6)烯基或(C3-C6)炔基；及其盐类制剂。2. 如权利要求1所述的化合物，其特征在于R1为H；R2为H，CN，(C1-C4)烷基...

【专利技术属性】
技术研发人员：李斌，徐基东，
申请(专利权)人：沈阳化工研究院，
类型：发明
国别省市：89[中国|沈阳]