一种彩色滤光片及其制造方法技术

本发明专利技术提供一种彩色滤光片及其制造方法。所述彩色滤光片包括第一光阻单元和第二光阻单元，所述第一光阻单元和第二光阻单元构成一像素层；其中，所述制造方法包括以下步骤：形成第一光阻单元之后，在制作第二光阻单元时一并形成一个用于控制阵列基板和彩膜基板之间的间隙的色阻凸块。本发明专利技术可减少制造工艺，有效降低液晶显示器的制造成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种彩色滤光片的制造方法，尤其涉及一种液晶显示器中设置有色阻凸块的彩色滤光片及其制造方法。
技术介绍
传统的彩色滤光片制造过程中，在设置间隙子时，一般是在光阻单元区中选择一个色阻区域上，设置单一高度的间隙子层，以形成液晶灌注间隙。但由于间隙子层的高度单一，而与彩色滤光片贴合的TFTCThin FilmTransistor，薄膜场效应晶体管)层的表面高度通常又是不均勻的，因此导致彩色滤光片在与TFT层贴合时，在高度有差异的贴合区域中， 液晶的旋转及恢复时间均会不相同，引发显示问题。有鉴于此，目前改良的间隙子制程中，在原有间隙子层的基础上，多制作一个具有不同高度的辅助间隙子层，如此便可改善因高度差异所产生液晶的旋转及恢复时间不同的缺点。另外由于增加了间隙子，可减少面板贴和时所需灌注之液晶量。但该彩色滤光片的制程，工艺复杂，制程步骤较多，需使用的设备也较多，导致成本偏高，效率偏低。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供，旨在减少制造工艺， 提升生产效率。为了实现上述目的，本专利技术提供一种彩色滤光片的制造方法，所述彩色滤光片包括第一光阻单元和第二光阻单元，所述第一光阻单元和第二光阻单元构成一像素层；所述制造方法包括以下步骤形成第一光阻单元之后，在制作第二光阻单元时，一并形成一个用于控制阵列基板和彩膜基板之间的间隙的色阻凸块。优选地，所述在制作第二光阻单元时一并形成一个用于控制阵列基板和彩膜基板之间的间隙的色阻凸块的步骤具体包括在第一光阻单元与黑色光阻单元交叠的区域上堆叠形成所述色阻凸块。本专利技术另提出一种彩色滤光片的制造方法，所述彩色滤光片包括第一光阻单元、 第二光阻单元和第三光阻单元，所述第一光阻单元、第二光阻单元和第三光阻单元构成一彩色像素层；其中，所述彩色滤光片的制造方法包括以下步骤提供一透明基板；在透明基板上形成黑色光阻单元；形成第一光阻单元；形成第二光阻单元，在制作第二光阻单元时，在第一光阻单元上一并形成第一色阻凸块；形成第三光阻单元，在制作第三光阻单元时，在第二光阻单元上一并形成第二色阻凸块。4优选地，所述形成第二光阻单元，在制作第二光阻单元时，在第一光阻单元上一并形成第一色阻凸块的步骤具体包括以下步骤在第一光阻单元、黑色光阻单元和透明基板的表面涂布一层第二光阻材料；进行真空干燥；进行预烘烤和冷却；在第二光阻材料的上方设置光罩进行曝光，所述光罩设置有用于成型所述第二光阻单元和第一色阻凸块的开孔；进行显影及烘烤，形成所述第二光阻单元和第一色阻凸块。优选地，所述形成第三光阻单元，在制作第三光阻单元时，在第二光阻单元上一并形成第二色阻凸块的步骤具体包括以下步骤在第一光阻单元、第二光阻单元、第一色阻凸块、黑色光阻单元和透明基板的表面涂布一层第三光阻材料；进行真空干燥；进行预烘烤和冷却；在第三光阻材料的上方设置光罩进行曝光，所述光罩设置有用于成型所述第三光阻单元和第二色阻凸块的开孔；进行显影，形成所述第三光阻单元和第二色阻凸块。优选地，在设置光罩进行曝光时，通过调节光罩的开孔率或者开孔透光率控制第一色阻凸块或者第二色阻凸块的高度。优选地，在第一光阻单元与黑色光阻单元交叠的区域上堆叠形成所述第一色阻凸块；在第二光阻单元与黑色光阻单元交叠的区域上堆叠形成所述第二色阻凸块。优选地，上述方法还包括以下步骤在第一光阻单元、第二光阻单元、第三光阻单元及第一色阻凸块、第二色阻凸块表面形成透明导电层； 在透明导电层上形成透明绝缘层。本专利技术还提供一种彩色滤光片，包括基板；多个黑色光阻单元，呈阵列式设置于所述基板上，各黑色光阻单元之间具有间隙；多个第一光阻单元、多个第二光阻单元和多个第三光阻单元，位于所述黑色光阻单元的间隙内，且依序相邻设置，构成一像素层；第一色阻凸块，其在制作所述第二光阻单元时被堆叠形成在所述第一光阻单元的表面，并且位于所述第一光阻单元与所述黑色光阻单元交叠的区域内；第二色阻凸块，其在制作所述第三光阻单元时被堆叠形成在所述第二光阻单元的表面，并且位于所述第二光阻单元与所述黑色光阻单元交叠的区域内；透明导电层，覆盖于所述第一光阻单元、第二光阻单元、第三光阻单元及第一色阻凸块和第二色阻凸块的表面；透明绝缘层，覆盖于所述透明导电层上。优选地，所述第一色阻凸块和所述第一光阻单元的叠加高度不同于所述第二色阻凸块和所述第二光阻单元的叠加高度。本专利技术彩色滤光片的制造方法中，在制作第二光阻单元时，在第一光阻单元上一并形成一个用于控制阵列基板和彩膜基板之间的间隙的色阻凸块，可取代原间隙子的功能。若彩色滤光片具有三个光阻单元，则依前述步骤在三个光阻上形成两高度不同的色阻凸块，高度较高者，可取代原主间隙子层的功能；高度较低者可取代辅助间隙子层的功能。 该方法除了可以减少一道原间隙子制作之黄光微影制程以外，还可改善液晶旋转回复时间差异，减少液晶灌注量。附图说明图1为本专利技术彩色滤光片的制造方法中制作光阻凸块的工艺示意图；图2为本专利技术彩色滤光片的制造方法的第一实施例的流程图；图3a至图3g为图2所示制造方法的工艺示意图；图4为本专利技术彩色滤光片的制造方法的第二实施例的流程图；图5为本专利技术彩色滤光片的制造方法的第三实施例的流程图；图6a至图他为图5所示制造方法的工艺示意图。本专利技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。 具体实施例方式应当理解，此处所描述的具体实施方式仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。本专利技术提出一种彩色滤光片的制造方法，该彩色滤光片包括第一光阻单元和第二光阻单元，第一光阻单元和第二光阻单元为色彩光阻，它们分别作为一个子像素构成一个像素单元，若干呈阵列式布置的像素单元构成用在液晶显示器彩色滤光片上的像素层。该彩色滤光片的制造方法主要包括以下步骤形成第一光阻单元之后，在制作第二光阻单元时，一并形成一个用于控制阵列基板和彩膜基板之间的间隙的色阻凸块(Photo Spacer) 0本实施例的彩色滤光片中，除包括第一光阻单元和第二光阻单元外，还包括基板和黑色光阻单元(Black Matrix) 0黑色光阻单元覆盖在基板上，呈阵列式排列，作为遮光层，用于防止光线泄漏，各黑色光阻单元之间具有间隙，第一光阻单元和第二光阻单元分别设置于相应的黑色光阻单元的间隙中。在本实施例中，第一光阻单元和第二光阻单元的形成，可采用颜料分散法成型，具体如下先在黑色光阻单元与基板上涂布一层色阻层，即涂布一层第一光阻材料；进行真空干燥，并去掉边缘部分多余的第一光阻材料；进行预烘烤与冷却，之后在色阻层上方设置一个光罩，该光罩在需要保留第一光阻单元的位置设置开孔(例如两黑色光阻单元之间)；然后利用紫外线透过光罩对色阻材料进行曝光；进行显影，去除不需要的色阻材料；经过烘烤后，即可在对应开孔位置的地方形成第一光阻单元。当然，本专利技术也可采用现有技术中的微影法、转印法等方法来形成第一光阻单元，并不限于前述颜料分散法。第二光阻单元的形成过程与第一光阻单元类似先在第一光阻单元、黑色光阻单元和玻璃基板表面涂布一层色阻；即涂布一层第二光阻材料；进行真空干燥，并去掉边缘部分多余的第二光阻材料；进行预烘烤与冷却，之后在色阻层上方设置一个光罩进行曝光，该光罩在需要保留第二光阻单元的位置设置开孔(例如紧邻第一光阻单元一侧的两黑色光阻单元之间)本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种彩色滤光片的制造方法，所述彩色滤光片包括第一光阻单元和第二光阻单元，所述第一光阻单元和第二光阻单元构成一像素层；其特征在于，所述制造方法包括以下步骤：形成第一光阻单元之后，在制作第二光阻单元时一并形成一个用于控制阵列基板和彩膜基板之间的间隙的色阻凸块。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：伍浚铭，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：94