本发明专利技术提供一种能够对大型FPD基板在搬送室内的位置偏移和缺口等异常可靠地进行检测的基板处理装置和一种基板异常的检测方法。将基板(S)载置在搬送装置(50)的滑动拾取器(513)上，从搬送室(20)内经过闸门开口(22d)向处理腔室(10b)搬入时，由左右配置的一对传感器(70、70)向基板(S)两端部附近的虚线(A、B)表示的部位照射光线，根据其反射率或透过率，对基板(S)的位置偏移和缺陷等进行检测。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及，例如，涉及对平板显示器(FPD)用玻璃基板等进行蚀刻等处理的基板处理装置的搬送室、具有该搬送室的基板处理装置、和检测基板的位置偏移和缺口等的基板异常的检测方法。
技术介绍
在以液晶显示器(LCD)为代表的平板显示器(FPD)的制造过程中，使用包括多个在真空下对玻璃基板实施蚀刻、灰化(ashing)、成膜等规定的处理的真空处理装置的所谓多腔室型的真空处理系统。这样的真空处理系统具有配置有搬送基板的搬送装置的搬送室、和设置在其周围的多个处理腔室(process chamber)，利用搬送室内的搬送臂将被处理基板搬入各处理腔室内、并且将处理结束的基板从各真空处理装置的处理腔室搬出。负载锁定室与搬送室连接，在大气侧的基板搬入搬出时，将处理腔室和搬送室维持在真空状态，能够对多个基板进行处理。可是，最近强烈要求FPD用玻璃基板的大型化，以至出现了一边超过an的巨大的玻璃基板，与此对应，装置也要大型化，装置中使用的各种构成要素也要大型化。伴随玻璃基板的大型化，在搬送途中即使产生极小的位置偏移，在处理腔室中也会出现较大的位置偏移，所以担心对蚀刻等处理内容造成影响。关于搬送室内的位置检测，是关于半导体晶片的，已提出一种位置偏移检测装置， 该位置偏移检测装置包括检测单元，利用光学测定求出静止的圆盘状的晶片的弦长和该弦的中心位置；保持单元，预先保持晶片位于预先确定的基准位置时的检测单元的输出数据；计算单元，根据晶片位于期望的测定位置时的检测单元的输出数据和上述保持单元中保持的数据，计算晶片偏离基准位置的程度(例如专利文献1等)。专利文献1特开平10-223732号公报(图1等)专利文献1的位置偏移检测装置是以圆形的小型半导体晶片为对象，无法应用于矩形的大型FPD用玻璃基板的位置偏移检测。另外，专利文献1的位置偏移检测装置在晶片静止的状态下进行测定，所以能够对位置偏移进行正确的测定，但另一方面，难以对FPD 用玻璃基板经常发生的边缘部的缺口等基板异常进行检测。
技术实现思路
本专利技术鉴于上述情况而做出，其目的在于提供一种能够对大型FPD基板在搬送室内的位置偏移和缺口等异常可靠地进行检测的基板处理装置和一种基板异常的检测方法。为了解决上述课题，本专利技术的第一方面提供一种搬送室，该搬送室与对矩形基板进行规定处理的处理室邻接配置，具有向该处理室搬送基板的搬送装置，其特征在于，包括搬入搬出由上述搬送装置搬送的基板的开口部；与上述开口部对应，在其附近以比基板的宽度窄的间隔配置的一对光学传感器。另外，本专利技术的第二方面提供一种搬送室，该搬送室与对矩形基板进行规定处理的处理室邻接配置，具有向该处理室搬送基板的搬送装置，其特征在于，包括搬入搬出由上述搬送装置搬送的基板的开口部；在能够对由上述搬送装置向上述开口部搬送的基板进行检测的位置，以比基板的宽度窄的间隔配置的一对光学传感器。在上述第一方面和第二方面中，优选上述一对光学传感器在基板上的光照射部位，在基板的两端部附近，平行于与基板的搬送方向相同的方向，连续地或间歇地形成。另外，上述搬送装置优选具有上下两层的搬送机构部、和使该搬送机构部旋转的旋转驱动部。在这种情况下，上述搬送机构部优选具有基座、在上述基座上直进运动的臂、 和在上述臂上直进运动并支撑基板的拾取器(pick)。另外，基板优选是平板显示器用的大型基板。另外，搬送室优选是在真空状态下利用上述搬送装置进行基板搬送的真空搬送室。另外，优选与多个上述处理室邻接配置，具有将基板搬入搬出各处理室的多个开口部，与各开口部对应，配置上述一对光学传感器。另外，本专利技术的第三方面提供一种基板处理装置，其特征在于，具有上述第一方面或第二方面的搬送室。另外，本专利技术的第四方面提供一种基板异常的检测方法，其特征在于在搬送室内由搬送装置支撑、向处理室搬送的途中，利用一对光学传感器连续地或间歇地、并且以光照射部位被形成为与搬送方向平行的方式，向移动的矩形基板的两端部附近部位照射光线， 检测由上述搬送装置支撑的基板的位置偏移和破损。在上述的第四方面中，优选根据上述左右一对光学传感器对有无基板的检测结果的差异，检测基板的位置偏移和破损，或者优选根据上述左右一对光学传感器对有无基板的检测定时的差异，检测由上述搬送装置支撑的基板的位置偏移。本专利技术的搬送室，由于在对由搬送装置搬送的基板进行搬入搬出的开口部附近， 以比被支撑在搬送装置上的基板的宽度窄的间隔配置有一对光学传感器，所以能够一边使基板向开口部移动，一边用光学的方法对基板进行检测。另外，由于基板不是在静止的状态、而是在移动的状态下进行该检测，所以，不仅能够检测被支撑在搬送装置上的基板的位置偏移，而且也能够检测其破损、例如端部的缺口和裂纹等。另外，由于在搬送室内与作为基板必须通过的部位的开口部的跟前的搬送路径对应，配置有光学传感器，所以例如在利用上下具有多个基板支撑拾取器的搬送机构搬送基板的情况下，能够减少光学传感器的设置个数。附图说明图1是概略地表示本专利技术的一个实施方式的等离子体处理装置的立体图。图2是图1的等离子体处理装置的水平截面图。图3是表示搬送装置的搬送单元的立体图。图4是说明搬送室中的传感器的配置的例子的图。图5是表示控制部的概略结构的框图。图6是表示对移动中的基板进行传感的状态的图。图7是表示传感(sensing)的一个实施方式的搬送室的截面图。图8是说明显示出基板异常的检测结果的图。图9是说明基板的位置偏移的检测结果的图。图10是说明基板的局部缺口的检测结果的图。图11是表示传感的另一个实施方式的搬送室的截面图。符号说明1等离子体处理装置10a、IObUOc 处理腔室20搬送室21a、21b、21c、21d、21e 闸门(gate)开口30负载锁定室50搬送装置60控制部70传感器71 反射器(reflector)513、523 滑动拾取器(slide pick)A、B传感部位具体实施例方式下面，参照附图对本专利技术优选的实施方式进行说明。在此，作为基板处理装置，对于在用于对FPD用玻璃基板(以下简称为“基板”)S进行等离子体处理的多腔室型的等离子体处理装置中使用的搬送室中，对基板异常进行检测的例子进行说明。在此，作为FPD，例如是液晶显示器(LCD)、发光二极管(LED)显示器、电致发光(Electro Luminescence, EL) 显示器、荧光显示管(Vacuum Fluorescent Display，VFD)、等离子体显示板(PDP)等。图1是概略地表示本专利技术的基板处理装置的一个实施方式的等离子体处理装置的立体图，图2是概略地表示其内部的水平截面图。该真空处理装置1中，搬送室20和负载锁定室30在其中央部连接设置。在搬送室20的周围，配置有三个处理腔室10a、10b、10c。在搬送室20和负载锁定室30之间、搬送室20和各处理腔室10a、10b、IOc之间、 以及连通负载锁定室30和外侧的大气气氛的开口部，分别插入有将它们之间气密地密封并且构成为能够开关的闸阀22。在负载锁定室30的外侧设置有两个盒式分配器(cassette index) 41，在其上分别载置有收容基板S的盒(cassette)40。这些盒40的一个例如可以收容未处理基板，另一个可以收容处理结束的基板。这些盒本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种搬送室，与对矩形基板进行规定处理的处理室邻接配置，具有向该处理室搬送基板的搬送装置，其特征在于，包括：搬入搬出由所述搬送装置搬送的基板的开口部；和与所述开口部对应，在所述搬送室内的所述开口部附近，以与基板的相对位置关系相同的方式，以比基板的宽度窄的间隔左右配置的一对光学传感器，所述一对光学传感器，以对距经由所述开口部搬入搬出的基板的两端部分别为５～１０ｍｍ的内侧的部位照射光的方式设置。
【技术特征摘要】
2005.09.05 JP 2005-2564681.一种搬送室，与对矩形基板进行规定处理的处理室邻接配置，具有向该处理室搬送基板的搬送装置，其特征在于，包括搬入搬出由所述搬送装置搬送的基板的开口部；和与所述开口部对应，在所述搬送室内的所述开口部附近，以与基板的相对位置关系相同的方式，以比基板的宽度窄的间隔左右配置的一对光学传感器，所述一对光学传感器，以对距经由所述开口部搬入搬出的基板的两端部分别为5 IOmm的内侧的部位照射光的方式设置。2.一种搬送室，与对矩形基板进行规定处理的处理室邻接配置，具有向该处理室搬送基板的搬送装置，其特征在于，包括搬入搬出由所述搬送装置搬送的基板的开口部；和在能够对由所述搬送装置向所述开口部搬送的基板进行检测的位置，以与基板的相对位置关系相同的方式，以比基板的宽度窄的间隔左右配置的一对光学传感器，所述一对光学传感器，以对距经由所述开口部搬入搬出的基板的两端部分别为5 IOmm的内侧的部位照射光的方式设置。3.如权利要求1或2所述的搬送室，其特征在于所述一对光学传感器在基板上的光照射部位，在基板的两端部附近，平行于与基板的搬送方向相同的方向，连续地或间歇地形成。4.如权利要求1 3中任一项所述的搬送室，其特征在于所述搬送装置具有上下两层的搬送机构部、和使该搬送机构部旋转的旋转驱...
【专利技术属性】
技术研发人员：冈部星儿，末木英人，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
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