除草组合物制造技术

本发明专利技术涉及一种用于防除有用植物中禾草和杂草的组合物，它包括：ａ）除草有效量的式Ｉ化合物，其中各取代基如权利要求１中定义；ｂ）拮抗除草剂作用有效量的安全剂，所述安全剂选自喹氧乙酸，喹氧乙酸的碱金属、碱土金属、锍或铵阳离子盐，或喹氧乙酸异庚酯，吡咯二酸，吡咯二酸的碱金属、碱土金属、锍或铵阳离子盐，以及吡咯二酸二乙酯；和ｃ）一种添加剂，包括植物或动物油、矿物油、它们的烷基酯或这些油和油衍生物的混合物。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

Herbicidal composition

The invention relates to a composition for grasses and weeds useful in plants includes: a) a herbicidally effective amount of a compound of formula I, wherein the substituents are as defined in claim 1; b) safe antagonists effective amount of herbicides, the safety of oxygen agent selected from the group consisting of acetic acid, acetic acid of oxygen alkali metal, alkaline earth metal, matte or ammonium cation salt or of Phenoxy Acetic Acid Isoamyl Ester pyrrole, pyrrole acid, acid alkali metal, alkaline earth metal, matte or ammonium cation salt and two pyrrole acid ethyl ester; and C) a kind of additives, including plant or animal oil, mineral oil, alkyl ester they or the mixture of oil and oil derivatives.

【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于防治有用作物，尤其是玉米和谷类作物中的禾草与杂草的新型选择性除草组合物，该组合物包括3-羟基-4-(4-甲基苯基)-5-氧代-吡唑啉除草剂、安全剂(反作用剂，解毒剂)以及油添加剂，并且能保护有用植物免受除草剂的植物毒性作用，但不保护杂草。本专利技术还涉及此类组合物在防除有用作物中杂草方面的用途。在施用除草剂时，由于受例如除草剂的使用量及其施用方式、栽培植物种类、土壤的性质以及气候条件(例如光照时间、温度和降雨量)等因素影响，栽培植物也可能会受到严重的损害。为了解决此类问题，已经有多种物质被建议用作安全剂，它们能拮抗除草剂对栽培植物的有害作用，也就是说它们能保护栽培植物，但不会明显减损除草剂对欲防治杂草的作用。业已发现，这些所推荐的安全剂对栽培植物与杂草的作用通常非常专一，而且在某些情况下还与施用方法有关，也就是说，特定的安全剂通常只适用于特定的栽培植物和特殊种类除草物质或特定除草剂。例如，业已发现，虽然安全剂喹氧乙酸和喹氧乙酸异庚酯以及吡咯二酸和吡咯二酸二乙酯(见EP-A-0191736(化合物1.316)和WO91/07874(实施例3)及《杀虫剂手册》(The Pesticide Manual)，第11版，BritishCrop Protection Council，Entry No.154和462)能够保护栽培植物免受特定的3-羟基-4-(4-甲基苯基)-5-氧代-吡唑啉衍生物的植物毒性作用，但它们却在某些情形下会降低对杂草的除草作用。US-A-4834908中公开了某些油添加剂混剂可以增强环己烷二酮类化合物、苯并噻二嗪酮二氧化物类化合物、二苯醚除草剂以及芳氧基苯氧基除草剂类化合物的除草活性。虽然3-羟基-4-(4-甲基苯基)-5-氧代-吡唑啉衍生物的结构完全不同于US-A-4834908中公开的化合物，但这种油添加剂与所述3-羟基-4-(4-甲基苯基)-5-氧代-吡唑啉衍生物混用同样能够增强除草活性，同时又会对栽培植物产生明显损害。因此这种除草剂/油添加剂混合物不适合于选择性防治有用作物中的杂草。令人惊奇的是，现已发现通过将特定的3-羟基-4-(4-甲基苯基)-5-氧代-吡唑啉除草剂与包括植物或动物油或矿物油、它们的烷基酯、或这些油和油衍生物的混合物的添加剂，以及与安全剂喹氧乙酸或吡咯二酸混合施用，这类特定除草剂能够非常成功地选择性防除杂草，而且不会损伤栽培植物。因此，本专利技术涉及一种选择性除草组合物，其中除包括常规惰性加工助剂如载体、溶剂和湿润剂外，还包括作为活性成分的如下成分的混合物a)除草有效量的式I化合物以及式I化合物的盐和非对映异构体 其中R1和R3彼此独立地为卤素，硝基，氰基，C1-C4烷基，C2-C4链烯基，C2-C4炔基，C1-C4卤代烷基，C2-C6卤代链烯基，C3-C6环烷基，卤代C3-C6环烷基，C2-C6烷氧基烷基，C2-C6烷硫基烷基，羟基，巯基，C1-C6烷氧基，C3-C6链烯氧基，C3-C6炔氧基，羰基，羧基，C1-C4烷基羰基，C1-C4羟基烷基，C1-C4烷氧基羰基，C1-C4烷硫基，C1-C4烷基亚磺酰基，C1-C4烷基磺酰基，氨基，C1-C4烷基氨基或二(C1-C4烷基)氨基；R4和R5一起为基团-C-R6(R7)-O-C-R8(R9)-C-R10(R11)-C-R12(R13)-(Z1)，-C-R14(R15)-C-R16(R17)-O-C-R18(R19)-C-R20(R21)-(Z2)，或-C-R22(R23)-C-R24(R25)-C-R26(R27)-O-C-R28(R29)-；(Z3)其中R6，R7，R8，R9，R10，R11，R12，R13，R14，R15，R16，R17，R18，R19，R20，R21，R22，R23，R24，R25，R26，R27，R28和R29彼此独立地为氢，卤素，C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基，其中连同基团Z1，Z2或Z3的碳原子一起含有2-6个碳原子并且可以被氧间隔的亚烷基环可以与基团Z1，Z2或Z3的碳原子稠合或螺接，或者该亚烷基环可以与基团Z1，Z2或Z3中至少一个环原子桥接；G为氢，-C(X1)-R30，-C(X2)-X3-R31，-C(X4)-N(R32)-R33，-SO2-R34，碱金属、碱土金属、锍或铵阳离子，或-P(X5)(R35)-R36或-CH2-X6-R37；X1，X2，X3，X4，X5和X6彼此独立地为氧或硫；R30，R31，R32和R33彼此独立地为氢，C1-C10烷基，C1-C10卤代烷基，C1-C10氰基烷基，C1-C10硝基烷基，C1-C10氨基烷基，C1-C5烷基氨基-C1-C5烷基，C2-C8二烷基氨基-C1-C5烷基，C3-C7环烷基-C1-C5烷基，C2-C10烷氧基-烷基，C4-C10链烯氧基-烷基，C4-C10炔氧基-烷基，C2-C10烷硫基-烷基，C1-C5烷基亚磺酰基(sulfoxyl)-C1-C5烷基，C1-C5烷基磺酰基-C1-C5烷基，C2-C8亚烷基氨基-氧基-C1-C5烷基，C1-C5烷基羰基-C1-C5烷基，C1-C5烷氧基羰基-C1-C5烷基，C1-C5氨基-羰基-C1-C5烷基，C2-C8二烷基氨基-羰基-C1-C5烷基，C1-C5烷基羰基氨基-C1-C5烷基，C2-C5烷基羰基-(C1-C5烷基)-氨基烷基，C3-C6三烷基甲硅烷基-C1-C5烷基，苯基-C1-C5烷基，杂芳基-C1-C5烷基，苯氧基-C1-C5烷基，杂芳氧基-C1-C5烷基，C2-C5链烯基，C2-C5卤代链烯基，C3-C8环烷基，苯基，或C1-C3烷基-，C1-C3卤代烷基-，C1-C3烷氧基-，C1-C3卤代烷氧基-，卤素-，氰基-或硝基-取代的苯基或杂芳基或杂芳基氨基，C1-C3烷基-，C1-C3卤代烷基-，C1-C3烷氧基-，C1-C3卤代烷氧基-，卤素-，氰基-或硝基-取代的杂芳基氨基，二杂芳基氨基，C1-C3烷基-，C1-C3卤代烷基-，C1-C3烷氧基-，C1-C3卤代烷氧基-，卤素-，氰基-或硝基-取代的二杂芳基氨基，苯基氨基，C1-C3烷基-，C1-C3卤代烷基-，C1-C3烷氧基-，C1-C3卤代烷氧基-，卤素-，氰基-或硝基-取代的苯基氨基，二苯基氨基，C1-C3烷基-，C1-C3卤代烷基-，C1-C3烷氧基-，C1-C3卤代烷氧基-，卤素-，氰基-或硝基-取代的二苯基氨基，C3-C7环烷基氨基，C1-C3烷基-，C1-C3卤代烷基-，C1-C3烷氧基-，C1-C3卤代烷氧基-，卤素-，氰基-或硝基-取代的C3-C7环烷基氨基，二-C3-C7环烷基氨基，C1-C3烷基-，C1-C3卤代烷基-，C1-C3烷氧基-，C1-C3卤代烷氧基-，卤素-，氰基-或硝基-取代的二-C3-C7环烷基氨基，C3-C7环烷氧基或C1-C3烷基-，C1-C3卤代烷基-，C1-C3烷氧基-，C1-C3卤代烷氧基-，卤素-，氰基-或硝基-取代的C3-C7环烷氧基；R34，R35和R36为氢，C1-C10烷基，C1-C10卤代烷基，C1-C10氰基烷基，C1-C10硝基烷基，C1-C10氨基烷基，C1-C5烷基氨基-C1-C5烷基，C2-C8二烷基氨基-C1-C5本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种选择性除草组合物，其中除包括常规惰性加工助剂外，还包括作为活性成分的如下成分的混合物： ａ）除草有效量的式Ⅰ化合物以及式Ⅰ化合物的盐和非对映异构体： ＊＊＊ （Ⅰ） 其中 Ｒ↓［１］和Ｒ↓［３］彼此独立地为卤素，硝基，氰基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［４］链烯基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［４］炔基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］卤代烷基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］卤代链烯基，Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］环烷基，卤代Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］环烷基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］烷氧基烷基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］烷硫基烷基，羟基，巯基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［６］烷氧基，Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］链烯氧基，Ｃ↓［３］－Ｃ↓［６］炔氧基，羰基，羧基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基羰基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］羟基烷基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷氧基羰基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷硫基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基亚磺酰基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基磺酰基，氨基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基氨基或二（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基）氨基； Ｒ↓［４］和Ｒ↓［５］一起为基团： －Ｃ－Ｒ↓［６］（Ｒ↓［７］）－Ｏ－Ｃ－Ｒ↓［８］（Ｒ↓［９］）－Ｃ－Ｒ↓［１０］（Ｒ↓［１１］）－Ｃ－Ｒ↓［１２］（Ｒ↓［１３］）－ （Ｚ↓［１］）， －Ｃ－Ｒ↓［１４］（Ｒ↓［１５］）－Ｃ－Ｒ↓［１６］（Ｒ↓［１７］）－Ｏ－Ｃ－Ｒ↓［１８］（Ｒ↓［１９］）－Ｃ－Ｒ↓［２０］（Ｒ↓［２１］）－ （Ｚ↓［２］），或 －Ｃ－Ｒ↓［２２］（Ｒ↓［２３］）－Ｃ－Ｒ↓［２４］（Ｒ↓［２５］）－Ｃ－Ｒ↓［２６］（Ｒ↓［２７］）－Ｏ－Ｃ－Ｒ↓［２８］（Ｒ↓［２９］）－； （Ｚ↓［３］） 其中Ｒ↓［６］，Ｒ↓［７］，Ｒ↓［８］，Ｒ↓［９］，Ｒ↓［１０］，Ｒ↓［１１］，Ｒ↓［１２］，Ｒ↓［１３］，Ｒ↓［１４］，Ｒ↓［１５］，Ｒ↓［１６］，Ｒ↓［１７］，Ｒ↓［１８］，Ｒ↓［１９］，Ｒ↓［２０］，Ｒ↓［２１］，Ｒ↓［２２］，Ｒ↓［２３］，Ｒ↓［２４］，Ｒ↓［２５］，Ｒ↓［２６］，Ｒ↓［２７］，Ｒ↓［２８］和Ｒ↓［２９］彼此独立地为氢，卤素，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］卤代烷基，其中连同基团Ｚ↓［１］，Ｚ↓［２］或Ｚ↓［３］的碳原子一起含有２－６个碳原子并且可以被氧间隔的亚烷基环可以与基团Ｚ↓［１］，Ｚ↓［２］或Ｚ↓［３］的碳原子稠合或螺接，或者该亚烷基环可以与基团Ｚ↓［...

【技术特征摘要】
CH 1999-9-7 1640/991.一种选择性除草组合物，其中除包括常规惰性加工助剂外，还包括作为活性成分的如下成分的混合物a)除草有效量的式I化合物以及式I化合物的盐和非对映异构体 其中R1和R3彼此独立地为卤素，硝基，氰基，C1-C4烷基，C2-C4链烯基，C2-C4炔基，C1-C4卤代烷基，C2-C6卤代链烯基，C3-C6环烷基，卤代C3-C6环烷基，C2-C6烷氧基烷基，C2-C6烷硫基烷基，羟基，巯基，C1-C6烷氧基，C3-C6链烯氧基，C3-C6炔氧基，羰基，羧基，C1-C4烷基羰基，C1-C4羟基烷基，C1-C4烷氧基羰基，C1-C4烷硫基，C1-C4烷基亚磺酰基，C1-C4烷基磺酰基，氨基，C1-C4烷基氨基或二(C1-C4烷基)氨基；R4和R5一起为基团-C-R6(R7)-O-C-R8(R9)-C-R10(R11)-C-R12(R13)-(Z1)，-C-R14(R15)-C-R16(R17)-O-C-R18(R19)-C-R20(R21)-(Z2)，或-C-R22(R23)-C-R24(R25)-C-R26(R27)-O-C-R28(R29)-；(Z3)其中R6，R7，R8，R9，R10，R11，R12，R13，R14，R15，R16，R17，R18，R19，R20，R21，R22，R23，R24，R25，R26，R27，R28和R29彼此独立地为氢，卤素，C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基，其中连同基团Z1，Z2或Z3的碳原子一起含有2-6个碳原子并且可以被氧间隔的亚烷基环可以与基团Z1，Z2或Z3的碳原子稠合或螺接，或者该亚烷基环可以与基团Z1，Z2或Z3中至少一个环原子桥接；G为氢，-C(X1)-R30，-C(X2)-X3-R31，-C(X4)-N(R32)-R33，-SO2-R34，碱金属、碱土金属、锍或铵阳离子，或-P(X5)(R35)-R36或-CH2-X6-R37；X1，X2，X3，X4，X5和X6彼此独立地为氧或硫；R30，R31，R32和R33彼此独立地为氢，C1-C10烷基，C1-C10卤代烷基，C1-C10氰基烷基，C1-C10硝基烷基，C1-C10氨基烷基，C1-C5烷基氨基-C1-C5烷基，C2-C8二烷基氨基-C1-C5烷基，C3-C7环烷基-C1-C5烷基，C2-C10烷氧基-烷基，C4-C10链烯氧基-烷基，C4-C10炔氧基-烷基，C2-C10烷硫基-烷基，C1-C5烷基亚磺酰基-C1-C5烷基，C1-C5烷基磺酰基-C1-C5烷基，C2-C8亚烷基氨基-氧基-C1-C5烷基，C1-C5烷基羰基-C1-C5烷基，C1-C5烷氧基羰基-C1-C5烷基，C1-C5氨基-羰基-C1-C5烷基，C2-C8二烷基氨基-羰基-C1-C5烷基，C1-C5烷基羰基氨基-C1-C5烷基，C2-C5烷基羰基-(C1-C5烷基)-氨基烷基，C3-C6三烷基甲硅烷基-C1-C5烷基，苯基-C1-C5烷基，杂芳基-C1-C5烷基，苯氧基-C1-C5烷基，杂芳氧基-C1-C5烷基，C2-C5链烯基，C2-C5卤代链烯基，C3-C8环烷基，苯基，或C1-C3烷基-，C1-C3卤代烷基-，C1-C3烷氧基-，C1-C3卤代烷氧基-，卤素-，氰基-或硝基-取代的苯基或杂芳基或杂芳基氨基，C1-C3烷基-，C1-C3卤代烷基-，C1-C3烷氧基-，C1-C3卤代烷氧基-，卤素-，氰基-或硝基-取代的杂芳基氨基，二杂芳基氨基，C1-C3烷基-，C1-C3卤代烷基-，C1-C3烷氧基-，C1-C3卤代烷氧基-，卤素-，氰基-或硝基-取代的二杂芳基氨基，苯基氨基，C1-C3烷基-，C1-C3卤代烷基-，C1-C3烷氧基-，C1-C3卤代烷氧基-，卤素-，氰基-或硝基-取代的苯基氨基，二苯基氨基，C1-C3烷基-，C1-C3卤代烷基-，C1-C3烷氧基-，C1-C3卤代烷氧基-，卤素-，氰基-或硝基-取代的二苯基氨基，C3-C7环烷基氨基，C1-C3烷基-，C1-C3卤代烷基-，C1-C3烷氧基-，C1-C3卤代烷氧基-，卤素-，氰基-或硝基-取代的C3-C7环烷基氨基，二-C3-C7环烷基氨基，C1-C3烷基-，C1-C3卤代烷基-，C1-C3烷氧基-，C1-C3卤代烷氧基-，卤素-，氰基-或硝基-取代的二-C3-C7环烷基氨基，C3-C7环烷氧基或C1-C3烷基-，C1-C3卤代烷基-，C1-C3烷氧基-，C1-C3卤代烷氧基-，卤素-，氰基-或硝基-取代的C3-C7环烷氧基；R34，R35和R36为氢，C1-C10烷基，C1-C10卤代烷基，C1-C10氰基烷基，C1-C10硝基烷基，C1-C10氨基烷基，C1-C5烷基氨基-C1-C5烷基，C2-C8二烷基氨基-C1-C5烷基，C3-C7环烷基-C1-C5烷基，C2-C10烷氧基-烷基，C4-C10链烯氧基-烷基，C4-C10炔氧基-烷基，C2-C10烷硫基-烷基，C1-C5烷基亚磺酰基-C1-C5烷基，C1-C5烷基磺酰基-C1-C5烷基，C2-C8亚烷基氨基-氧基-C1-C5烷基，C1-C5烷基羰基-C1-C5烷基，C1-C5烷氧基羰基-C1-C5烷基，C1-...

【专利技术属性】
技术研发人员：J格拉克，AA弗雷德曼，D科尼斯，
申请(专利权)人：辛根塔参与股份公司，
类型：发明
国别省市：CH[瑞士]