除草组合物制造技术

一种用于防除有用作物中的禾本科植物和杂草的选择性除草组合物，包括ａ）除草有效量的式Ｉ化合物，ｂ）拮抗除草剂有效量的式ＩＩａ化合物，或式ＩＩｂ的化合物，或式ＩＩｃ的化合物，或式ＩＩｄ的化合物，或式ＩＩｅ的化合物，其中取代基Ｒ＃－［２２］，Ｒ＃－［２３］，Ｒ＃－［２４］，Ｒ＃－［２５］，Ｒ＃－［２６］，Ｒ＃－［２７］，ｎ，ｍ，Ｒ＃－［２８］，Ｒ＃－［２９］，Ｒ＃－［３０］，Ｒ＃－［３１］，Ｒ＃－［３２］，ｏ，ｐ，Ｇ＃－［２］，Ｒ＃－［３３］，Ｒ＃－［３４］，Ｒ＃－［３５］，Ｒ＃－［３６］，Ｒ＃－［３７］和Ｒ＃－［３８］如权利要求１中所定义。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

Herbicidal composition

A method for selective herbicidal composition of gramineous plants and weeds in crops useful, including a) a herbicidally effective amount of a compound of formula I, b) IIa compounds antagonize herbicide effective amount of a compound or a compound or type IIb, type IIc, type IId compounds or compounds, or IIe. The substituents R - 22, R - 23, R - 24, R - 25, R - 26, R - 27, N, m, R - 28, R - 29, R No. - 30, R - 31, R - 32, O, P, G - 2, R - 33, R - 34, R - 35, R - 36, R - \ 37 and R (38) as defined in claim No. 1.

【技术实现步骤摘要】
除草组合物本专利技术涉及新的用于防除有用作物，特别是禾谷类作物，玉米和高粱中的禾本科植物和杂草的选择性除草组合物，该组合物包括除草剂和安全剂(拮抗剂，解毒剂)并可保护有用植物，而非杂草，免受除草剂的植物毒性作用，以及涉及该组合物用于防除有用作物中的杂草的用途。当使用除草剂时，由于各种因素，例如除草剂用量和使用方法，栽培植物种类，土壤特性和气候条件，例如日照时间，温度和降雨量，可能使栽培植物也受到严重伤害。为克服上述问题以及类似问题，已提出使用各种物质作为安全剂，该物质可拮抗除草剂对栽培植物的毒害作用，也就是说可保护栽培植物，同时对需防除的杂草的除草作用没有显著的影响。已发现推荐的安全剂经常是不仅对栽培植物而且对除草剂表现出非常专一的活性，以及某些情况下还受使用方式的影响，即特定的安全剂经常仅适用于特定的栽培植物和特定种类的除草物质或某一具体的除草剂。例如，WO96/21652和WO99/47525公开了一些化合物，它们可保护栽培植物免受除草剂，如3-羟基-4-芳基-5-氧代吡唑啉衍生物的植物毒性作用。现已发现式IIa化合物-->式IIc化合物，式IId化合物和式IIe化合物适用于保护栽培植物免受特定种类的、取代的3-羟基-4-芳基-5-氧代吡唑啉除草剂的植物毒性作用。因此，本专利技术的目的是提供一种选择性除草组合物，该组合物除常规惰性制剂助剂如载体、溶剂和湿润剂外，包括作为活性成分的下述的混合物：a)除草有效量的式I除草剂其中R1和R3各自独立地代表乙基，卤代乙基，乙炔基，C1-或C2-烷氧基，C1-或C2-卤代烷氧基，C1-或C2-烷基羰基或C1-或C2-羟烷基；R4和R5一起是基团Z2-CR14(R15)-CR16(R17)-O-CR18(R19)-CR20(R21)-(Z2)；R14，R15，R16，R17，R18，R19，R20和R21各自独立地代表氢，卤素，C1-C4-烷基或C1-C4-卤代烷基，其中亚烷基环可以与基团Z2的碳原子稠合或螺连接，该亚烷基环，与其所键合的基团Z2的碳原子一起，含有2-6个碳原子并且可被氧间断，或该亚烷基环与基团Z2的至少一个环原子桥接；G是氢，-C(X1)-R30，-C(X2)-X3-R31，-C(X4)-NR32(R33)，-S(O)2-R34，-P(X5)R35R36-->，-CH2-X6-R37或碱金属、碱土金属、锍或铵阳离子；X1，X2，X3，X4，X5和X5各自独立地代表氧或硫；R30，R31，R32，R33，R34，R35，R36和R37各自独立地代表氢，C1-C10-烷基，C1-C10-卤代烷基，C1-C10-氰基烷基，C1-C10-硝基烷基，C1-C10-氨基烷基，C2-C5-链烯基，C2-C5-卤代链烯基，C3-C8-环烷基，C1-C5-烷基氨基-C1-C5-烷基，二(C1-C5烷基)氨基-C1-C5-烷基，C3-C7-环烷基-C1-C5-烷基，C1-C5-烷氧基-C1-C5-烷基，C3-C5-链烯氧基-C1-C5-烷基，C3-C5-炔氧基-C1-C5-烷基，C1-C5-烷硫基-C1-C5-烷基，C1-C5-烷基亚磺酰基(sulfoxy)-C1-C5-烷基，C1-C5-烷基磺酰基-C1-C5-烷基，C2-C8-亚烷基氨基氧基-C1-C5-烷基，C1-C5-烷基羰基-C1-C5-烷基，C1-C5-烷氧基羰基-C1-C5-烷基，C1-C5-烷基氨基羰基-C1-C5-烷基，二(C1-C5烷基)氨基羰基-C1-C5-烷基，C1-C5-烷基羰基氨基-C1-C5-烷基，C1-C5-烷基羰基-(C1-C5烷基)-氨基-C1-C5-烷基，三(C1-或C2-烷基)甲硅烷基-C1-C5-烷基，苯基，杂芳基，苯基-C1-C5烷基，杂芳基-C1-C5烷基，苯氧基-C1-C5烷基或杂芳氧基-C1-C5烷基，其中上述芳环可被卤素，硝基，氰基，氨基，二(C1-C4烷基)氨基，羟基，甲氧基，乙氧基，甲硫基，乙硫基，甲酰基，乙酰基，丙酰基，羧基，C1-C5烷氧基羰基或C1-或C2-卤代烷基取代；R34，R25和R36还可以是C1-C10-烷氧基，C1-C10-卤代烷氧基，C1-C5-烷基氨基，二(C1-C5-烷基)氨基，苄氧基或苯氧基，其中最后两个取代基的芳环可被卤素，硝基，氰基，氨基，二甲基氨基，羟基，甲氧基，乙氧基，甲硫基，乙硫基，甲酰基，乙酰基，丙酰基，羧基，C1-C5-烷氧基羰基或C1-或C2-卤代烷基取代；以及R37还可以是C1-C10-烷基羰基，或式I化合物的盐或非对映异构体，和b)拮抗除草剂有效量的式IIa安全剂，-->其中R22是氢，或碱金属，碱土金属，锍或铵阳离子，或乙基，或式IIb的安全剂其中R23是氢，或碱金属，碱土金属，锍或铵阳离子，或乙基，或式IIc的安全剂其中R24和R25各自独立地代表氢，C1-C6烷基，C2-C6-链烯基，C2-C6-炔基或C3-C6环烷基；R26代表氢，卤素，C1-C4烷基，C1-C6卤代烷基或C1-C6卤代烷氧基；或几个基团R26各自独立地代表氢，卤素，C1-C4烷基，C1-C6卤代烷基或C1-C6卤代烷氧基；R27代表氢，卤素，C1-C4烷基，C1-C4卤代烷基，C1-C4烷氧基，C1-C4卤代烷氧基，C1-C4烷硫基，C1-C4烷氧基羰基或硝基；或几个基团R27各自独立地代表氢，卤素，C1-C4烷基，C1-C4卤代烷基，C1-C4烷氧基，C1-C4卤代烷氧基，C1-C4烷硫基，C1-C4烷氧基羰基或硝基；n是0，1，2或3；以及m是1或2，或式IId的安全剂-->其中R28代表氢，C1-C6烷基，C1-C6烷氧基，C1-C6烷硫基，C3-C8环烷基，苯基，苯基-C1-C6烷基或杂芳基，其中上述烃基可被卤素，氰基，硝基，氨基，羟基，羧基，甲酰基，胺甲酰或胺磺酰取代；R29代表氢，C1-C6烷基或C1-C4卤代烷基；R30代表氢，卤素，C1-C4烷基，C1-C4卤代烷基，C1-C4烷氧基，C1-C4烷硫基，C1-C4烷基磺酰基，氰基，硝基，甲酰基或羧基；或几个R30基团各自独立地代表氢，卤素，C1-C4烷基，C1-C4卤代烷基，C1-C4烷氧基，C1-C4烷硫基，C1-C4烷基磺酰基，氰基，硝基，甲酰基或羧基；R31代表氢，C1-C6烷基或C1-C4卤代烷基；R32代表氢，卤素，C1-C4烷基，C1-C4卤代烷基，C1-C4烷氧基，C1-C4烷硫基，C1-C4烷基磺酰基，氰基，硝基，甲酰基或羧基；或几个R32基团各自独立地代表氢，卤素，C1-C4烷基，C1-C4卤代烷基，C1-C4烷氧基，C1-C4烷硫基，C1-C4烷基磺酰基，氰基，硝基，甲酰基或羧基；以及o和p各自独立地是0，1或2，或式IIe的安全剂其中-->G2是氢，甲酰基，C1-C6烷基羰基，C2-C6链烯基羰基，C2-C6炔基羰基，C1-C6烷氧基羰基，(C1-C6烷硫基)羰基，C3-C8环烷基羰基，苯基-C1-C6烷基羰基，苯基羰基，C1-C6烷基磺酰基，C2-C6链烯基磺酰基或苯基磺酰基，其中上述烃基可被卤素，氰基，硝基，氨基，甲氧基，乙氧基或苯基取代；R33是氢，C1-C6烷基，C2-C6链烯基，C2-C6炔基，C3-C8环烷基，甲酰基，C1-C本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种选择性除草组合物，该组合物除常规惰性制剂助剂外，包括作为活性成分的下述混合物： ａ）除草有效量的式Ⅰ化合物 ＊＊＊ （Ⅰ） 其中 Ｒ↓［１］和Ｒ↓［３］各自独立地代表乙基，卤代乙基，乙炔基，Ｃ↓［１］－或Ｃ↓［２］－烷氧基，Ｃ↓［１］－或Ｃ↓［２］－卤代烷氧基，Ｃ↓［１］－或Ｃ↓［２］－烷基羰基或Ｃ↓［１］－或Ｃ↓［２］－羟烷基； Ｒ↓［４］和Ｒ↓［５］一起是基团Ｚ↓［２］－ＣＲ↓［１４］（Ｒ↓［１５］）－ＣＲ↓［１６］（Ｒ↓［１７］）－Ｏ－ＣＲ↓［１８］（Ｒ↓［１９］）－ＣＲ↓［２０］（Ｒ↓［２１］）－（Ｚ↓［２］）；Ｒ↓［１４］，Ｒ↓［１５］，Ｒ↓［１６］，Ｒ↓［１７］，Ｒ↓［１８］，Ｒ↓［１９］，Ｒ↓［２０］和Ｒ↓［２１］各自独立地代表氢，卤素，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］－烷基或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］－卤代烷基，其中亚烷基环可以与基团Ｚ↓［２］的碳原子稠合或螺连接，该亚烷基环，与其所键合的基团Ｚ↓［２］的碳原子一起含有２－６个碳原子并且可被氧间断，或该亚烷基环与基团Ｚ↓［２］的至少一个环原子桥接； Ｇ是氢，－Ｃ（Ｘ↓［１］）－Ｒ↓［３０］，－Ｃ（Ｘ↓［２］）－Ｘ↓［３］－Ｒ↓［３１］，－Ｃ（Ｘ↓［４］）－ＮＲ↓［３２］（Ｒ↓［３３］），－Ｓ（Ｏ）↓［２］－Ｒ↓［３４］，－Ｐ（Ｘ↓［５］）Ｒ↓［３５］Ｒ↓［３６］，－ＣＨ↓［２］－Ｘ↓［６］－Ｒ↓［３７］或碱金属、碱土金属、锍或铵阳离子； Ｘ↓［１］，Ｘ↓［２］，Ｘ↓［３］，Ｘ↓［４］，Ｘ↓［５］和Ｘ↓［６］各自独立地代表氧或硫； Ｒ↓［３０］，Ｒ↓［３１］，Ｒ↓［３２］，Ｒ↓［３３］，Ｒ↓［３４］，Ｒ↓［３５］，Ｒ↓［３６］和Ｒ↓［３７］各自独立地代表氢，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］－烷基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］－卤代烷基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］－氰基烷基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］－硝基烷基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］－氨基烷基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［５］－链烯基，Ｃ↓［２］－Ｃ↓［５］－卤代链烯基，Ｃ↓［３］－Ｃ↓［８］－环烷基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［５］－烷基氨基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［５］－烷基，二（Ｃ↓［１］－Ｃ↓［５］烷基）氨基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［５］－烷基，Ｃ↓［３］－Ｃ↓［７］－环烷基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［５］－烷基，Ｃ↓［１］－Ｃ↓［５］－烷氧基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［５］－烷基，Ｃ↓［３］－Ｃ↓［５］－链烯氧基－Ｃ↓［１］－Ｃ↓［５］－烷基，...

【技术特征摘要】
CH 1999-9-7 1643/991.一种选择性除草组合物，该组合物除常规惰性制剂助剂外，包括作为活性成分的下述混合物；a)除草有效量的式I化合物其中R1和R3各自独立地代表乙基，卤代乙基，乙炔基，C1-或C2-烷氧基，C1-或C2-卤代烷氧基，C1-或C2-烷基羰基或C1-或C2-羟烷基；R4和R5一起是基团Z2-CR14(R15)-CR16(R17)-O-CR18(R19)-CR20(R21)-(Z2)；R14，R15，R16，R17，R18，R19，R20和R21各自独立地代表氢，卤素，C1-C4-烷基或C1-C4-卤代烷基，其中亚烷基环可以与基团Z2的碳原子稠合或螺连接，该亚烷基环，与其所键合的基团Z2的碳原子一起含有2-6个碳原子并且可被氧间断，或该亚烷基环与基团Z2的至少一个环原子桥接；G是氢，-C(X1)-R30，-C(X2)-X3-R31，-C(X4)-NR32(R33)，-S(O)2-R34，-P(X5)R35R36，-CH2-X6-R37或碱金属、碱土金属、锍或铵阳离子；X1，X2，X3，X4，X5和X6各自独立地代表氧或硫；R30，R31，R32，R33，R34，R35，R36和R37各自独立地代表氢，C1-C10-烷基，C1-C10-卤代烷基，C1-C10-氰基烷基，C1-C10-硝基烷基，C1-C10-氨基烷基，C2-C5-链烯基，C2-C5-卤代链烯基，C3-C8-环烷基，C1-C5-烷基氨基-C1-C5-烷基，二(C1-C5烷基)氨基-C1-C5-烷基，C3-C7-环烷基-C1-C5-烷基，C1-C5-烷氧基-C1-C5-烷基，C3-C5-链烯氧基-C1-C5-烷基，C3-C5-炔氧基-C1-C5-烷基，C1-C5-烷硫基-C1-C5-烷基，C1-C5-烷基亚磺酰基-C1-C5-烷基，C1-C5-烷基磺酰基-C1-C5-烷基，C2-C8-亚烷基氨基氧基-C1-C5-烷基，C1-C5-烷基羰基-C1-C5-烷基，C1-C5-烷氧基羰基-C1-C5-烷基，C1-C5-烷基氨基羰基-C1-C5-烷基，二(C1-C5烷基)氨基羰基-C1-C5-烷基，C1-C5-烷基羰基氨基-C1-C5-烷基，C1-C5-烷基羰基-(C1-C5烷基)-氨基-C1-C5-烷基，三(C1-或C2-烷基)甲硅烷基-C1-C5-烷基，苯基，杂芳基，苯基-C1-C5烷基，杂芳基-C1-C5烷基，苯氧基-C1-C5烷基或杂芳氧基-C1-C5烷基，其中上述芳环可被卤素，硝基，氰基，氨基，二(C1-C4烷基)氨基，羟基，甲氧基，乙氧基，甲硫基，乙硫基，甲酰基，乙酰基，丙酰基，羧基，C1-C5烷氧基羰基或C1-或C2-卤代烷基取代；R34，R35和R36还可以是C1-C10-烷氧基，C1-C10-卤代烷氧基，C1-C5-烷基氨基，二(C1-C5-烷基)氨基，苄氧基或苯氧基，其中最后两个取代基的芳环可被卤素，硝基，氰基，氨基，二甲基氨基，羟基，甲氧基，乙氧基，甲硫基，乙硫基，甲酰基，乙酰基，丙酰基，羧基，C1-C5-烷氧基羰基或C1-或C2-卤代烷基取代；和R37还可以是C1-C10-烷基羰基，或式I化合物的盐或非对映异构体，和b)拮抗除草剂有效量的式IIa安全剂，其中R22是氢，或碱金属，碱土金属，锍或铵阳离子，或乙基，或式IIb的安全剂其中R23是氢，或碱金属，碱土金属，锍或铵阳离子，或乙基，或式IIc的安全剂其中R24和R25各自独立地代表氢，C1-C6烷基，C2-C6-链烯基，C2-C6-炔基或C3-C6环烷基；R26代表氢，卤素，C1-C4烷基，C1-C6卤代烷基或C1-C6卤代烷氧基；或几个基团R26各自独立地代表氢，卤素，C1-C4烷基，C1-C6卤代烷基或C1-C6卤代烷氧基；R27代表氢，卤素，C1-C4烷基，C1-C4卤代烷基，C1-C4烷氧基，C1-C4卤代烷氧基，C1-C4烷硫基，C1-C4烷氧基羰基或硝基；或几个基团R27各自独立地代表氢，卤素，C1-C4烷基，C1-C4卤代烷基，C1-C4烷氧基，C1-C4卤代烷氧基，C1-C4烷硫基，C1-C4烷氧基羰基或硝基；n是0，1，2或3；以及m是1或2，或式IId的安全剂其中R28代表氢，C1-C6烷基，C1-C6烷氧基，C1-C6烷硫基，C3-C8环烷基，苯基，苯基-C1-C6烷基或杂芳基，其中上述烃基可被卤素，氰基，硝基，氨基，羟基，羧基，甲酰基，胺甲酰或胺磺酰取代；R29代表氢，C1-C6烷基或C1-C4卤代烷基；R30代表氢，卤素，C1-C4烷基，C1-C4卤代烷基，C1-C4烷氧基，C1-C4烷硫基，C1-C4烷基磺酰基，氰基，硝基，甲酰基或羧基；或几个R30基团各自独立地代表氢，卤素，C1-C4烷基，C1-C4卤代烷基，C1-C4烷氧基，C1-C4烷硫基，C1-C4烷基磺酰基，氰基，硝基，甲酰基或羧基；R31代表氢，C1-C6烷基或C1-C4卤代烷基；R32代表氢，卤素，C1-C4烷基，C1-C4卤代烷基，C1-C4烷氧基，C1-C4烷硫基，C1-C4烷基磺酰基，氰基，硝基，甲酰基或羧基；或几个R32基团各自独立地代表氢，卤素，C1-C4烷基，C1-C4卤代烷基，C1-C4烷氧基，C1-C4烷硫基，C1-C4烷基磺酰基，氰基，硝基，甲酰基或羧基；以及o和p各自独立地是0，1或2，或式IIe的安全剂其中G2是氢，甲酰基，C1-C6烷基羰基，C2-C6链烯基羰基，C2-C6炔基羰基，C1-C6烷氧基羰基，(C1-C6烷硫基)羰基，C3-C8环烷基羰基，苯基-C1-C6烷基羰基，苯基羰基，C1-C6烷基磺酰基，C2-C6链烯基磺酰基或苯基磺酰基，其中上述烃基可被卤素，氰基，硝基，氨基，甲氧基，乙氧基或苯基取代；R33是氢，C1-C6烷基，C2-C6链烯基，C2-C6炔基，C3-C8环烷基，甲酰基，C1-C6烷基羰基，C2-C6链烯基羰基，C2-C6炔基羰基，C1-C6烷氧基羰基，(C1-C6烷硫基)羰基，C3-C8环烷基羰基，C1-C6烷基磺酰基，C2-C6链烯基磺酰基或苯基磺酰基，其中上述烃基可被卤素，氰基，硝基，氨基，甲氧基，乙氧基或苯基取代；R34是氢，C1-C6烷基，C2-C6链烯基，C2-C6炔基，C3-C8环烷基，甲酰基，C1-C6烷基羰基，C2-C6链烯基羰基，C2-...

【专利技术属性】
技术研发人员：J戈罗克，
申请(专利权)人：辛根塔参与股份公司，
类型：发明
国别省市：CH[瑞士]