作为ZAP-70和/或SYK抑制剂的2,4-二(杂)芳基氨基嘧啶衍生物制造技术

技术编号:6894562 阅读:199 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了作为ZAP-70和/或SYK抑制剂的2,4-二(杂)芳基氨基嘧啶衍生物,具体地讲,公开了式(I)的嘧啶衍生物,其中R0、R1、R3至R9和Z具有权利要求1所示的含义,该化合物具有ZAP-70和/Syk抑制活性。

【技术实现步骤摘要】
,4-二(杂)芳基氨基嘧啶衍生物的制作方法
本专利技术涉及嘧啶衍生物、其制备方法、其用作药物的应用以及包含其的药物组合物。
技术实现思路
更具体地讲,本专利技术第一方面提供了游离或盐形式的式I的化合物权利要求1.式I的化合物或其盐,2.如权利要求1所述的化合物,其中Z是=CR2并且R3是SO2NRiqR11153.如权利要求2所述的化合物,其中R7、R8和R9之一是NRiqR11且剩下的两个取代基之一是H、卤素、C00H、CF3或Cy烷基,或R7和R8或R8和R9分别和与其相连的碳原子一起形成包含1、2或3个杂原子的5或6元杂芳基或杂环残基。4.如权利要求2所述的化合物,其中R1和R2和与其相连的C原子一起形成包含1至5 个0原子的5至15元杂环残基。5.一种制备式I化合物的方法,其包括a)将式II的化合物6.用作药物的如权利要求1所述的化合物或其可药用的盐。7.一种包含如权利要求1所述的式I化合物或其可药用盐以及一种或多种可药用的稀释剂或载体的药物组合物。8.如权利要求1所述的式I化合物在制备用于其中ZAP-70抑制起作用的病症或疾病的药物组合物中的应用。9.一种包含如权利要求1所述的式I化合物或其可药用盐和第二种药物的组合。10.一种在个体中预防或治疗其中ZAP-70抑制起作用的病症或疾病的方法,其包括给所说的个体施用有效量的如权利要求1所述的式I化合物或其可药用盐,并任选地同时或相继施用治疗有效量的第二种药物。全文摘要本专利技术公开了作为ZAP-70和/或SYK抑制剂的2,4-二(杂)芳基氨基嘧啶衍生物,具体地讲,公开了式(I)的嘧啶衍生物,其中R0、R1、R3至R9和Z具有权利要求1所示的含义,该化合物具有ZAP-70和/Syk抑制活性。文档编号A61P37/06GK102260248SQ20111014531公开日2011年11月30日 申请日期2004年9月15日 优先权日2003年9月16日专利技术者A·冯马特, G·托马, G·森克, K·欣特尔丁, L·维里瑟, M·C·贝恩哈德, M·范艾斯, N·G·库克, P·布尔迈耶, R·杜塔勒, R·班特里 申请人:诺瓦提斯公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.式I的化合物或其盐,其中:Z是=CR2或=N-;R0、R1、R2、R3和R4各自独立地是氢;羟基;C1-C8烷基;C2-C8链烯基;C3-C8环烷基;C3-C8环烷基-C1-C8烷基;羟基C1-C8烷基;C1-C8烷氧基C1-C8烷基;羟基C1-C8烷氧基C1-C8烷基;在环上任选地被羟基、C1-C8烷氧基、羧基或C1-C8烷氧基羰基取代的芳基C1-C8烷基;或者R3和R4和与其相连的氮和碳原子一起形成还包含1、2或3个选自N、O和S的杂原子的5至10元杂环;或者R1、R2和R3各自独立地是卤素;卤代-C1-C8烷基;C1-C8烷氧基;C2-8链烯氧基;C2-8炔氧基;卤代-C1-C8-烷氧基;氰基-C1-C8-烷氧基;羟基C1-C8烷氧基;C1-C8烷氧基C1-C8烷氧基;C1-C8烷氧基C1-C8烷氧基;C2-8链烯基;C3-8环烷基;C1-8烷氧基C1-4烷基;羟基C1-8烷氧基C1-8烷基;或5元杂环。3;R7、R8和R9之一是NR10R11,剩下的两个之一是氢、卤素、COOH、CF3或C1-4烷基;并且第三个是氢;R10和R11之一独立地是氢或C1-4烷基并且另一个是氢;C1-8烷基、在末端被OH、C3-6环烷基或杂环取代的C1-8烷基;R1和R2和与其相连的C-原子一起形成5至15元非芳族碳环或杂环残基,其中所说的杂环残基包含1至5个选自N、O和S的杂原子;或者R1是氢;并且R2是C1-4烷氧基;R3是-SO2NH2;R4和R6是氢;R5是氢;卤素;C1-4烷基;或CFC2-C8链烯氧基;或(iv)卤代-C2-C8链烯氧基;或(v)苄氧基;或(vi)-N(CH3)(R13),其中R13是甲基或苄基;或(vii)C1-4烷氧基;或(B)Z是=N-;条件是不包括如下的式I化合物:其中:Z是=CR2-;R0是氢3)=N-的残基;或(c)R1和R2一起形成式-CH=N-NH-的残基且R3是-SO2N(R10)R11;或(d)R2是(i)包含2至5个氟原子的氟代-C1-5烷氧基;或(ii)C1-C8烷氧基C1-C8烷氧基C1-C8烷氧基;或(iii)-且(a)R1和R2和与其相连的C-原子一起形成5至15元非芳族碳环或杂环残基,其中所说的杂环残基包含1至5个选自N、O和S的杂原子;或(b)R1和R2一起形成式-C(CH3)=CH-O-、-CH=CH-NH-或-N=C(CH3)-C(CH0)(R11);-SO2N(R10)R11;或R7和R8或R8和R9分别和与其相连的碳原子一起形成包含1、2或3个选自N、O和S的杂原子的5或6元杂芳基或杂环残基或5或6元碳环或包含1至7个氧原子的7至20元杂环残基;并且(A)Z是=CR2、C1-C8亚烷基或-O-(CH2)1-8-且R12是被取代或未被取代的包含1、2或3个选自N、O和S的杂原子的5、6或7元杂环;羧基;(C1-C8烷氧基)-羰基;-N(C1-8烷基)-CO-NR10R11;-CONR10R11;-N(R1-C1-C8烷基;C1-C8烷硫基;C1-C8烷氧基;C1-C8烷氧基C1-C8烷氧基;C1-C8烷氧基C1-C8烷氧基C1-C8烷氧基;C3-C8环烷基;C3-C8环烷基C1-C8烷基;芳基C1-C8烷基;-Y-R12,其中Y是直连键、ON(R10)R11;或R7和R8或R8和R9分别和与其相连的碳原子一起形成包含1、2或3个选自N、O和S的杂原子的5或6元杂芳基或5或6元碳环;或者(III)R7、R8和R9各自独立地是氢;羟基;卤素;C1-C8烷基;C2-C8链烯基;卤代(CH2)1-8-并且R12是被取代或未被取代的包含1、2或3个选自N、O和S的杂原子的5、6或7元杂环;羧基;(C1-C8烷氧基)-羰基;-N(C1-8烷基)-CO-NR10R11;-CONR10R11;-N(R10)(R11);-SO27、R8和R9中最多有一个是氢;羟基;C1-C8烷基;C2-C8链烯基;卤代-C1-C8烷基;C1-C8烷氧基;C3-C8环烷基;C3-C8环烷基C1-C8烷基;芳基C1-C8烷基;-Y-R12,其中Y是直连键、O、C1-C8亚烷基或-O-环,其中所说的杂环被卤素、2-二甲基氨基-乙基或2,2,2-三氟-乙基取代;或(b)包含1个氮原子的5或6元杂环;或(c)5至20元杂环残基,其中所说的杂环残基包含1至7个氧原子;并且其中在(I)中R7、R8和R9中最多两个,在(II)中R-1-基、4-苯基-哌嗪-1-基或4-乙酰基-哌嗪-1-基;或(iv)C1-C8烷硫基;或(v)C1-C8烷氧基C1-C8烷氧基C1-C8烷氧基;或者(II)R7和R8或R8和R9分别和与其相连的碳原子一起形成:(a)包含2个氮原子的5元杂ii)四氢吡喃-2-基甲氧基、四氢呋喃-2-基甲氧基、...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:R·班特里M·C·贝恩哈德P·布尔迈耶N·G·库克R·杜塔勒K·欣特尔丁G·托马M·范艾斯A·冯马特L·维里瑟G·森克
申请(专利权)人:诺瓦提斯公司
类型:发明
国别省市:CH

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