器件承载装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种器件承载装置，包含：一承载台、一真空系统、一供气系统及一放电系统。所述承载台具有一承载面、一底面及至少一通孔，且所述通孔导通所述承载面及所述底面；所述真空系统提供一真空吸力至所述通孔；所述供气系统用以输出至少一种气体至所述通孔；所述放电系统对所述气体放电，使所述气体电离成一离子流体。因此，所述通孔可用以提供所述真空吸力以承载及吸引一器件；或用以在对所述器件解除真空时提供所述离子流体，以便更有效率、更均匀且更迅速的消除所述器件的表面的静电。

【技术实现步骤摘要】
器件承载装置
本专利技术是有关于一种器件承载装置，特别是有关于一种能去除器件表面的静电的器件承载装置。
技术介绍
在液晶显示器(LiquidCrystal Display, LCD)、等离子显示器(Plasma Display Panel, PDP)以及半导制程中，常会产生许多静电现象，导致产品损害或产生缺陷。静电对产品所造成的危害主要有静电破坏(Electro Static Damage ；ESD)及静电吸附(Electro Static Attraction ；ESA)。静电破坏即是静电放电导致晶格破坏和晶体管击穿，而静电吸附则是静电导致的细微灰尘吸附，两种静电问题常会同时发生，并对产品造成加成的损害， 使产品的良率大幅降低，从而成为导致制造成本上升。请参照图IA所示，其揭示现有第一基板加工装置100的承载台10的示意图。所述承载台10用以承载一基板40 (如图IC所示)，并使所述基板40的位置保持固定，以便进行后续加工。所述承载台10主要包含一承载面11、一底面12、复数通孔13及复数顶出销 14，其中所述通孔13自所述承载面11贯穿所述底面12。请参照图IB所示，其揭示图IA本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种器件承载装置，其特征在于：所述器件承载装置包含：一承载台，具有一承载面及至少一通孔，且所述通孔开设于所述承载面；一真空系统，提供一真空吸力至所述通孔；一供气系统，输出至少一种气体至所述通孔；以及一放电系统，对所述气体放电，使所述气体电离成一离子流体；其中所述通孔用以提供所述真空吸力以承载及吸引一器件；或用以在对所述器件解除真空时提供所述离子流体，以便消除所述器件的表面的静电。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：严茂程，施翔尹，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：94