衬底台、光刻设备、衬底边缘平坦化方法及器件制造方法技术

本发明专利技术公开了一种衬底台、一种光刻设备、一种衬底边缘平坦化方法及一种器件制造方法。所述衬底台支撑衬底。所述衬底台包括衬底支撑件，所述衬底支撑件用于支撑所述衬底并且沿第一方向向衬底的边缘施加弯曲力。设置衬底边缘操作装置，其配置用于沿第二方向向衬底的边缘施加可变的弯曲力。所述第二方向至少具有在方向上与第一方向相反的分量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种衬底台、一种光刻设备、一种使衬底的边缘平坦的方法以及一种器件制造方法。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。 通常，图案的转移是通过把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行的。通常，单独的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括所谓的步进机，在所述步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也可能通过将图案压印(imprinting)到衬底上的方式从图案形成装置将图案转移到衬底上。已经提出将光刻投影设备中的衬底浸入到具有相对高折射率的液体(例如水) 中，以便填充投本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种用于支撑衬底的衬底台，包括：衬底支撑件，所述衬底支撑件用于支撑所述衬底，并且沿第一方向将弯曲力施加到所述衬底的边缘；以及衬底边缘操作装置，适用于沿第二方向将可变的弯曲力施加到所述衬底的所述边缘，其中所述第二方向至少具有在方向上与所述第一方向相反的一分量。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：R·W·L·拉法瑞，N·J·J·罗塞特，M·霍本，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL