气体分布喷洒模块与镀膜设备制造技术

本发明专利技术公开了一种气体分布喷洒模块与镀膜设备，其中的气体分布喷洒模块包括第一、第二、第三与第四扩散板。其中，第二扩散板位于第一扩散板底下、第三扩散板位于第二扩散板底下以及第四扩散板位于第三扩散板底下并与第三扩散板相隔一间距。所述第三扩散板分为面积比为1∶1至1∶5的一内部区域与一外部区域，且第三扩散板具有多个气孔分布于内部区域与外部区域，其中内部区域内与外部区域内的气孔的面积比为1∶1至1∶5。本发明专利技术的气体分布喷洒模块以及镀膜设备，能使气体充分的混合，并解决气体喷洒到基板的不均匀性。而且，本发明专利技术的气体分布喷洒模块不但易于组装，其加工制造成本也低，连带具有维修保养简单容易的效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种镀膜技术，且尤其涉及一种气体分布喷洒模块(gasdistribution shower module)与镀膜设备。
技术介绍
随着镀膜工艺的进步，在化学气相沉积(CVD)的镀膜过程中，如何能够均勻喷洒气体到CVD腔体中已成为镀膜设备的设计重点之一。目前以CVD镀膜设备中的喷洒头 (shower head)是最常用来改善气体均勻度的构件。而一般喷洒头的设计方式，如图1所示。在CVD腔体100中有一金属圆板状的喷洒头102，其中钻有许多对称气孔104，其目的是为了使气体自入气口 106经过喷洒头102之后，能够均勻喷洒到其底下基板座108上所放置的基板110。但是喷洒头102中所钻的气孔104越深，材料与加工制造成本就会增加。所以为了避免成本增加，则以增加缓冲区200的方式，将一开始进到入气口 106的气体先经缓冲区 200稳定后，在经由喷洒头102均勻出气，如图2所示。由于图1与图2的CVD镀膜设备都是在低流量的情况下镀膜，一旦镀膜工艺使用在高流量时，分别只以一层缓冲区200与一个喷洒头102是不够的。这是因为进气面积是固定的，而流量快则气体速度就会变快，造成喷洒头本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种气体分布喷洒模块，其特征在于，包括：一第一扩散板；一第二扩散板，位于该第一扩散板底下；一第三扩散板，位于该第二扩散板底下；以及一第四扩散板，位于该第三扩散板底下并与该第三扩散板相隔一间距，其中：该第三扩散板分为一内部区域与一外部区域，该内部区域与该外部区域的面积比为１∶１至１∶５，且该第三扩散板具有多个气孔分布于该内部区域与该外部区域，该内部区域内与该外部区域内的该些气孔的面积比为１∶１至１∶５。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘俊岑，潘彦妤，黄智勇，简荣祯，罗顺远，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：发明
国别省市：71