一种基于MEMS工艺的可调FP光学滤波器的制作方法技术

本发明专利技术涉及一种基于MEMS技术的可调FP光学滤波器的制作方法，其特征在于：采用两次光刻制作出所有图形的刻蚀窗口；采用一次等离子体硅刻蚀完成中间FP空气腔体及可动硅反射镜面结构的制作；采用一次硅-硅键合、等离子体干法刻蚀、HF酸腐蚀二氧化硅层释放工艺制造硅膜可动反射镜；采用硬模板选择蒸镀的方法制作FP腔内两反射镜的高反膜及增透膜；采用一次硅-玻璃键合形成最终的FP腔滤波器。极大地简化了工艺流程，保证了FP腔镜面光洁度和平行度，提高了所制造的FP滤波器的光学技术指标和芯片成品率。与现有的同类产品制作工艺相比具有更好的工艺兼容性及可操作性，驱动电压更低，具有较好的光学调谐重复性和稳定性。可广泛应用于光通信WDM系统。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
１．一种基于ＭＥＭＳ技术的可调谐ＦＰ腔光学滤波器的制造方法，其特征在于包括５个工艺操作步骤：腔体隔离体及可动微镜支撑结构的制作；玻璃衬底上及可动微镜上光学高反膜及增透膜的制备；ＦＰ腔体的装配；电极的制作；ＦＰ滤波器的划片与光纤耦合封装；采用两次光刻制作出所有图形的刻蚀窗口；采用一次等离子体硅刻蚀完成中间ＦＰ空气腔体及可动硅反射镜面结构的制作；采用一次硅－硅键合、等离子体干法刻蚀、ＨＦ酸腐蚀二氧化硅层释放工艺制造硅膜可动反射镜；采用硬模板选择蒸镀的方法制作ＦＰ腔内两反射镜的高反膜及增透膜；采用一次硅－玻璃键合形成最终的ＦＰ腔滤波器。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴亚明，翟雷应，徐静，李四华，钟少龙，
申请(专利权)人：中国科学院上海微系统与信息技术研究所，
类型：发明
国别省市：31