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一种光学膜片结构及其制造软光刻印章母模制造技术

技术编号:6796841 阅读:164 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种光学膜片结构及其制造软光刻印章母模,光学膜片结构,包括一基片和一聚光层,聚光层设于基片一表面内与基片一体成型,或者独立设于基片表面上,所述聚光层包含有复数个聚光微结构单元,所述聚光微结构单元呈六棱锥无规则排布于基片表面上,六棱锥底面与基片表面贴合;软光刻印章母模,由电镀工艺制备,在高峰值电流密度下的脉冲电镀金属厚膜,所述金属厚膜具有强面外{111}织构,织构度大于85%,所述金属厚膜包括有孪晶晶粒,孪晶的共格孪晶界面与金属厚膜表面的夹角为0-45度,所述金属厚膜表面为所述复数个六棱锥状的聚光微结构单元。本发明专利技术通过六棱锥状的聚光微结构单元无规则随机分布,形成平滑起伏的结构,可有效消除Moire现象。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
1.一种光学膜片结构,包括一基片和一聚光层,其特征在于,聚光层设于基片一表面内与基片一体成型,或者独立设于基片表面上;所述聚光层包含有复数个聚光微结构单元,所述聚光微结构单元呈六棱锥无规则排布于基片表面上,六棱锥底面与基片表面贴合。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:刘立林王钢杨建福
申请(专利权)人:中山大学
类型:发明
国别省市:81

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