本发明专利技术用于低温盐浴渗氮的氮化盐，按重量百分比由如下成分组成：CO(NH2)245%~55%，K2CO35%~15%，Na2CO33%~15%，Li2CO33%~15%，NaCl5%~15%，KCl5%~15%。本发明专利技术降低了普通盐浴渗氮的温度，扩大了目前所知氮化盐的使用温度。此外，本发明专利技术还具有处理的工件变形很小、设备简单和实现了无污染作业等优点。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种应用于低温盐浴渗氮工艺处理的氮化盐。
技术介绍
盐浴渗氮工艺处理技术也称作软氮化处理技术，利用氰酸根的分解而产生的活性氮原子渗入工件，在工件表面形成铁的化合物层和扩散层，从而提高铁基材料的耐磨性、耐腐蚀性以及抗疲劳强度。因此盐浴渗氮已被广泛应用于生产实践中。但是目前应用的盐浴渗氮处理技术存在以下缺点渗氮基盐适用温度较高，一般在52(T600°C之间，不适合低温处理。
技术实现思路
专利技术的目的是为了克服目前盐浴渗氮工艺过程中渗氮基盐适用温度较高，提供一种可对中低碳钢进行低温盐浴渗氮工艺处理的氮化盐。本专利技术的目的是这样来实现的一种用于低温盐浴渗氮的氮化盐，按重量百分比由如下成分组成CO(NH2)2 45% 55%，K2CO3 5%"l5%, Na2CO3 3% 15%，Li2CO3 3% 15%，NaCl 5% 15%，KCl 5% 15%。本专利技术采用的技术方案是优化了盐浴渗氮基盐的配方，添加了能提高盐活性的基础成分Li2CO3,降低了盐浴渗氮的氮化温度。在使用过程中本专利技术的反应原理原料熔化时的反应2 CO(NH2)2 + CO广一2CNCT + 2NH3个+ H2O个+ CO2个氰酸根分解提供活性氮原子4CN0_ — CO32" + 2CN_+ CO + 2 氮化过程中的氮化反应 Fe + — Fe3N 氰根被氧化性成分氧化 CN- + — CNO-其中CO(NH2)2提供氰酸根离子；Li2CO3可提高氮化盐的活性和流动性，促进渗氮；而 K2C03、Na2CO3以及氯化盐的配合使用则可以有效降低氮化盐的熔点，拓宽氮化盐的适用温度范围。在工作状态下，氰酸根离子分解产生的活性氮原子渗入铁基材料表面，在材料表面形成坚硬致密的铁氮化合物。从而提高材料的耐磨性、耐蚀性以及抗疲劳强度。按比例配料，然后将各组分混合，放入坩埚中在450°C熔化。熔化后即制得本专利技术一种用于低温盐浴渗氮的氮化盐。本专利技术氮化盐中引入了活化成分，使盐在较低温度状态下能保持一定的氮势，从而将氮化盐的适用温度范围降低到450°C左右。以K55钢为例，用本专利技术的氮化盐来处理， 可得到IOym以上的化合物层，处理过的工件耐磨耐腐蚀性能良好。附图说明图1为金相结果照片图。具体实施方式 实施例1本实施例1氮化盐按重量百分比由如下成分组成CO(NH2)2 55%,K2CO3 12%,Na2CO3 6%， Li2CO3 6%，NaCl 10. 5%, KCl 10.5%。本实施例1适用于450°C氮化工艺条件下使用，氮化盐浴环境稳定。K55钢氮化金相结果如图1所示。权利要求1.一种用于低温盐浴渗氮的氮化盐，按重量百分比由如下成分组成=CO(NH2)2 45% 55%，K2CO3 5% 15%，Na2CO3 3% 15%，Li2CO3 3% 15%，NaCl 5% 15%，KCl 5% 15%。2.根据权利要求1所述的一种用于低温盐浴渗氮的氮化盐，其特征在于按重量百分比由如下成分组成CO(NH2)2 55%，K2CO3 12%, Na2CO3 6%, Li2CO3 6%, NaCl 10. 5%, KCl 10.5%。全文摘要本专利技术用于低温盐浴渗氮的氮化盐，按重量百分比由如下成分组成CO(NH2)245%~55%，K2CO35%~15%，Na2CO33%~15%，Li2CO33%~15%，NaCl5%~15%，KCl5%~15%。本专利技术降低了普通盐浴渗氮的温度，扩大了目前所知氮化盐的使用温度。此外，本专利技术还具有处理的工件变形很小、设备简单和实现了无污染作业等优点。文档编号C23C8/50GK102220552SQ20111015008公开日2011年10月19日 申请日期2011年6月7日 优先权日2011年6月7日专利技术者张太平, 熊计, 王均 申请人:四川大学本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种用于低温盐浴渗氮的氮化盐，按重量百分比由如下成分组成：ＣＯ（ＮＨ２）２ ４５％～５５％，Ｋ２ＣＯ３ ５％～１５％，Ｎａ２ＣＯ３ ３％～１５％，Ｌｉ２ＣＯ３ ３％～１５％，ＮａＣｌ ５％～１５％，ＫＣｌ ５％～１５％。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王均，熊计，张太平，
申请(专利权)人：四川大学，
类型：发明
国别省市：90
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