除草剂组合物制造技术

技术编号:67674 阅读:144 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术是关于一种除草剂组合物,其含有A)一或多种通式(I)的磺酰脲类和/或其盐类,其中R#+[1]是C#-[2]-C#-[4]-烷氧基或CO-R#+[a],其中R#+[a]是OH、C#-[1]-C#-[6]-烷氧基或NR#+[b]R#+[c],其中R#+[b]及R#+[c]彼此独立地是相同或不同且为H或C#-[1]-C#-[6]-烷基,R#+[2]是卤素或(A)#-[n]-NR#+[d]R#+[e],其中n是0或1,A是CR#+[f]R#+[g]基团,其中R#+[f]及R#+[g]彼此独立地是相同或不同且为H或C#-[1]-C#-[6]-烷基,R#+[d]是H或C#-[1]-C#-[6]-烷基且R#+[e]是H、C#-[1]-C#-[6]-烷基或酰基,其中R#+[d]及R#+[e]也可形成杂环,如果R#+[1]是C#-[2]-C#-[4]-烷氧基,则R#+[2]也可以是H,R#+[3]是H或C#-[1]-C#-[6]-烷基,m是0或1,X及Y彼此独立地是相同或不同且为C#-[1]-C#-[6]-烷基、C#-[1]-C#-[6]-烷氧基或C#-[1]-C#-[6]-烷硫基,其中各上述三基是未经取代或经一或多个选自卤素、C#-[1]-C#-[4]-烷氧基及C#-[1]-C#-[4]-烷硫基的基团取代,或是C#-[3]-C#-[6]-环烷基、C#-[2]-C#-[6]-链烯基、C#-[2]-C#-[6]-炔基、C#-[3]-C#-[6]-链烯氧基或C#-[3]-C#-[6]-炔氧基,优选是C#-[1]-C#-[4]-烷基或C#-[1]-C#-[4]-烷氧基,Z是CH或N,及B)一或多种表面活性剂,含至少10个烯化氧单元作为结构要素。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

Herbicide composition

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【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及农作物保护剂的
,具体地说,本专利技术是关于含某种磺酰脲类和/或其盐类及特定表面活性剂的除草剂组合物,该组合物非常合适在农作物中用于控制有害的植物。使用磺酰脲类作为农作物保护剂的活性成份已在(例如EP-A-007687、EP-A-030 138)中公布,同样己知的是磺酰脲类例如烟密黄隆(nicosulfuron)(Accent)与表面活性剂的组合(例如WeedTechnology 1999,Vol.13,737-740页)。本专利技术的目的是提供一种具有特别高除草活性的除草剂组合物。惊异地发现,由含某种磺酰脲类并结合特定表面活性剂的除草剂组合物可达到此目的。据此,本专利技术是关于一种除草剂组合物,其含A)一或多种通式(I)的磺酰脲类和/或其盐类 其中R1是C2-C4-烷氧基或CO-Ra,其中Ra是OH、C1-C6-烷氧基或NRbRc,其中Rb及Rc彼此独立地是相同或不同且为H或C1-C6-烷基,R2是卤素或(A)n-NRdRe,其中n是0或1,A是CRfRg基团,其中Rf及Rg彼此独立地是相同或不同且为H或C1-C6-烷基,Rd是H或C1-C6-烷基且Re是H、C1-C6-烷基或酰基,其中Rd及Re也可形成杂环,如果R1是C2-C4-烷氧基,则R2也可为H,R3是H或C1-C6-烷基,m是0或1,X及Y彼此独立地是相同或不同且为C1-C6-烷基、C1-C6-烷氧基或C1-C6-烷硫基,其中各上述三基是未经取代或经一或多个选自卤素、C1-C4-烷氧基及C1-C4-烷硫基的基团取代,或是C3-C6-环烷基、C2-C6-链烯基、C2-C6-炔基、C3-C6-链烯氧基或C3-C6-炔氧基,优选是C1-C4-烷基或C1-C4-烷氧基,Z是CH或N,及B)一或多种表面活性剂,含至少10,优选是10-200个烯化氧单元作为结构要素。表面活性剂B)优选含10-150个烯化氧单元,一或多个C1-C40含碳基团及视需要一或多个极性官能基团。术语烯化氧单元的优选理解为C2-C10-烯化氧单元,例如环氧乙烷、环氧丙烷、环氧丁烷或环氧己烷,在表面活性剂内的这些单元彼此可以相同或不同。合适的极性官能基包括阴离子基例如羧酸根、碳酸根、硫酸根、磺酸根、磷酸根或膦酸根,阳离子基例如含正氮离子的基团,例如吡啶鎓基或-NRy3基,其中Ry基是相同或不同且为H或未经取代或经取代的C1-C10-烃基例如C1-C10-烷基,电中性极性基团如羰基、亚胺、氰基或磺酰基,或甜菜碱类(betainic)基团例如 或 其中m=1、2、3、4或5且Rx是相同或不同且是未经取代或经取代的C1-C10-烃基例如C1-C10-烷基。根据本专利技术的组合物优选含一或多种通式(II)的表面活性剂作为成份B)R4-(EO)x(PO)y(EO)z-R5(II)其中EO代表环氧乙烷单元,PO代表环氧丙烷单元,x代表从1至50的整数,y代表从0至50的整数,z代表从0至50的整数,其中(x+y+z)总和≥10且≤150,且R4是OH,未经取代或经取代的C1-C40-烃氧基、O-酰基例如O-CORI、O-CO-ORI、O-CO-NRIRII、O-P(O)(RI)[(EO)u(ORII)]或O-P(O)[(EO)u(ORI)][(EO)v(ORII)]或NRIRII或[NRIRIIRIII]+X-,其中RI、RII及RIII是相同或不同且代表H或未经取代或经取代的C1-C30-烃基,其可视需要经由(EO)w基团键结,其中w是从1至50的整数,X-是阴离子(例如有机酸的阴离子例如羧酸阴离子,例如醋酸根或乳酸根,或无机酸的阴离子例如1/2硫酸根、[O-SO3-CH3]-、磺酸根、1/3磷酸根、膦酸根或卤阴离子例如Cl-或Br-),且u、v彼此独立地代表从0至50的整数,且R5是H或未经取代或经取代的C1-C40-烃基、酰基例如CORI、CO-ORI、CO-NRIRII、P(O)(RI)[(EO)u(ORII)]或P(O)[(EO)u(ORI)][(EO)v(ORII)]或NRIRII或[NRIRIIRIII]+X-,其中RI、RII及RIII是相同或不同且代表H或未经取代或经取代的C1-C30-烃基,其可视需要经由(EO)w基团键结,其中w是从1至50的整数,X-是阴离子(例如有机酸的阴离子例如羧酸阴离子,例如醋酸根或乳酸根,或无机酸的阴离子例如1/2硫酸根、[O-SO3-CH3]-、磺酸根、1/3磷酸根、膦酸根或卤阴离子例如Cl-或Br-),且u、v彼此独立地代表从0至50的整数。在式(II)中的缩写EO代表环氧乙烷单元,当在R4及R5的定义使用时也是如此。优选式(II)的表面活性剂,其中的(x+y+z)总和≥10且≤150,优选是11-100,尤其优选是12-80,且R4是OH、未经取代或经取代的C1-C30-烃氧基,优选是C4-C20-烃氧基,例如C8-、C10-、C12-、C13-(例如异十三烷基)、C14-、C16-、C18-、C20-烷氧基、-链烯氧基或-炔氧基,或未经取代或经取代的C6-C14-芳氧基,例如经C1-C20-烷基单取代或多取代的C6-C14-芳氧基,例如对-辛基苯氧基、对-壬基苯氧基、2,4-二丁基苯氧基、2,4,6-三异丁基苯氧基、2,4,6-三正丁基苯氧基或2,4,6-三仲丁基苯氧基,或R4代表O-CO-RI、O-COORI、NRIRII或[NRIRIIRIII]+X-,其中RI、RII及RIII是相同或不同且代表H、未经取代或经取代的C1-C30-烃基,优选是C4-C20-烃基,例如C8-、C10-、C12-、C13-(例如异十三烷基)、C14-、C16-、C18-、C20-烷基、-链烯基或-炔基,或未经取代或经取代的C6-C14-芳基,例如经C1-C20-烷基单取代或多取代的C6-C14-芳基,例如对-辛基苯基、对-壬基苯基、2,4-二丁基苯基、2,4,6-三异丁基苯基、2,4,6-三正丁基苯基或2,4,6-三仲丁基苯基,或RI、RII及RIII是相同或不同且代表(EO)w-RIV,其中RIV是H或未经取代或经取代的C1-C20-烃基,例如C8-、C10-、C12-、C13-(例如异十三烷基)、C14-、C16-、C18-、C20-烷基、-链烯基或-炔基,或未取代或经取代的,例如经C1-C20-烷基单取代或多取代的C6-C14-芳基,例如对-辛基苯基、对-壬基苯基、2,4-二丁基苯基、2,4,6-三异丁基苯基、2,4,6-三正丁基苯基或2,4,6-三仲丁基苯基,且w是从1至50的整数,且X-是阴离子,且R5是H、未经取代或经取代的C1-C30-烃基,优选是C1-C20-烃基,例如C1-、C2-、C3-、C4-、C5-、C6-、C8-、C10-、C12-、C13-(例如异十三烷基)、C14-、C16-、C18-、C20-烷基、-链烯基或-炔基,或未经取代或经取代的C6-C14-芳基,例如经C1-C20-烷基单取代或多取代的C6-C14-芳基,例如对-辛基苯基、对-壬基苯基、2,4-二丁基苯基、2,4,6-三异丁基苯基、2,4,6-三正丁基苯基或2,4,6-三仲丁基苯基,或R5代表CO-RI、COORI、NRIRII或[NRIRII本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种除草剂组合物,其含有A)一或多种通式(Ⅰ)的磺酰脲类和/或其盐类***(Ⅰ)其中R↑[1]是C↓[2]-C↓[4]-烷氧基或CO-R↑[a],其中R↑[a]是OH、C↓[1]-C↓[6]-烷氧基或NR↑[b]R↑[c],其中R↑[b]及R↑[c]彼此独立地是相同或不同且为H或C↓[1]-C↓[6]-烷基,R↑[2]是卤素或(A)↓[n]-NR↑[d]R↑[e],其中n是0或1,A是CR↑[f]R↑[g]基团,其中R↑[f]及R↑[g]彼此独立地是相同或不同且为H或C↓[1]-C↓[6]-烷基,R↑[d]是H或C↓[1]-C↓[6]-烷基且R↑[e]是H、C↓[1]-C↓[6]-烷基或酰基,其中R↑[d]及R↑[e]也可形成杂环,如果R↑[1]是C↓[2]-C↓[4]-烷氧基,则R↑[2]也可以是H,R↑[3]是H或C↓[1]-C↓[6]-烷基,m是0或1,X及Y彼此独立地是相同或不同且为C↓[1]-C↓[6]-烷基、C↓[1]-C↓[6]-烷氧基或C↓[1]-C↓[6]-烷硫基,其中各上述三基是未经取代或经一或多个选自卤素、C↓[1]-C↓[4]-烷氧基及C↓[1]-C↓[4]-烷硫基的基团取代,或是C↓[3]-C↓[6]-环烷基、C↓[2]-C↓[6]-链烯基、C↓[2]-C↓[6]-炔基、C↓[3]-C↓[6]-链烯氧基或C↓[3]-C↓[6]-炔氧基,优选是C↓[1]-C↓[4]-烷基或C↓[1]-C↓[4]-烷氧基,Z是CH或N,及B)一或多种表面活性剂,含至少10个烯化氧单元作为结构要素。...

【技术特征摘要】
DE 2000-6-19 10029169.41.一种除草剂组合物,其含有A)一或多种通式(I)的磺酰脲类和/或其盐类 其中R1是C2-C4-烷氧基或CO-Ra,其中Ra是OH、C1-C6-烷氧基或NRbRc,其中Rb及Rc彼此独立地是相同或不同且为H或C1-C6-烷基,R2是卤素或(A)n-NRdRe,其中n是0或1,A是CRfRg基团,其中Rf及Rg彼此独立地是相同或不同且为H或C1-C6-烷基,Rd是H或C1-C6-烷基且Re是H、C1-C6-烷基或酰基,其中Rd及Re也可形成杂环,如果R1是C2-C4-烷氧基,则R2也可以是H,R3是H或C1-C6-烷基,m是0或1,X及Y彼此独立地是相同或不同且为C1-C6-烷基、C1-C6-烷氧基或C1-C6-烷硫基,其中各上述三基是未经取代或经一或多个选自卤素、C1-C4-烷氧基及C1-C4-烷硫基的基团取代,或是C3-C6-环烷基、C2-C6-链烯基、C2-C6-炔基、C3-C6-链烯氧基或C3-C6-炔氧基,优选是C1-C4-烷基或C1-C4-烷氧基,Z是CH或N,及B)一或多种表面活性剂,含至少10个烯化氧单元作为结构要素。2.根据权利要求第1项的除草剂组合物,其含一或多种通式(II)的表面活性剂作为成份B)R4-(EO)x(PO)y(EO)z-R5(II)其中EO代表环氧乙烷单元,PO代表环氧丙烷单元,x代表从1至50的整数,y代表从0...

【专利技术属性】
技术研发人员:J沃尔茨J科克HP克劳斯J马丁纳茨德乌纳D哈斯U比克斯G施纳贝尔
申请(专利权)人:拜尔作物科学有限公司
类型:发明
国别省市:DE[德国]

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