除草组合物制造技术

技术编号:66957 阅读:177 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
除草组合物,含a)除草有效量的式(Ⅰ)化合物,其中的取代基如权利要求1中定义;和b)除草剂增效有效量的甲磺胺磺隆、甲基磺草酮或氟噻草胺。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

Herbicidal composition

Herbicidal compositions containing a) a herbicidally effective amount of the compound (I), wherein the substituents are as defined in claim 1; and b) an effective amount of a sulfonamide synergistic herbicide Chlorsulfuron and mesotrione or flufenacet.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术涉及新的除草组合物,用于防治有益植物特别是玉米和谷类中的禾本科杂草和杂草,该组合物含已知于例如WO99/47525的四氢吡唑啉二酮和联合除草剂(co-herbicide)。本专利技术涉及一种除草组合物,该组合物除含常规制剂助剂如载体、溶剂和润湿剂外,还含有下列成分的混合物作为活性成分a)除草有效量的式I化合物 其中R1和R3彼此独立地是卤素,硝基,氰基,C1-C4烷基,C2-C4-烯基,C2-C4炔基,C1-C4卤代烷基,C2-C6卤代烯基,C3-C6环烷基,卤代C3-C6环烷基,C2-C6烷氧基烷基,C2-C6烷硫基烷基,羟基,巯基,C1-C6烷氧基,C3-C6烯氧基,C3-C6炔氧基,羰基,羧基,C1-C4烷基羰基,C1-C4羟基烷基,C1-C4烷氧基羰基,C1-C4烷硫基,C1-C4烷基亚磺酰基,C1-C4烷基磺酰基,氨基,C1-C4烷基氨基或二(C1-C4烷基)氨基;R4和R5一起为基团-C-R6(R7)-O-C-R8(R9)-C-R10(R11)-C-R12(R13)- (Z1),-C-R14(R15)-C-R16(R17)-O-C-R18(R19)-C-R20(R21)-(Z2),或-C-R22(R23)-C-R24(R25)-C-R26(R27)-O-C-R28(R29)-(Z3),其中R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28和R29彼此独立地是氢,卤素,C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基,还可以是亚烷基环,该亚烷基环连同Z1、Z2或Z3基团的碳原子一起含2-6个碳原子,并且可能被氧间断,该亚烷基环与Z1、Z2或Z3基团的碳原子稠合或螺连接,或该亚烷基环桥连接Z1、Z2或Z3基团的至少一个环原子;G是氢,-C(X1)-R30,-C(X2)-X3-R31,-C(X4)-N(R32)-R33,-SO2-R34,碱金属阳离子,碱土金属阳离子,锍或铵阳离子,或-P(X5)(R35)-R36或-CH2-X6-R37;X1、X2、X3、X4、X5和X6彼此独立地是氧或硫;R30、R31、R32和R33彼此独立地是氢,C1-C10烷基,C1-C10卤代烷基,C1-C10氰基烷基,C1-C10硝基烷基,C1-C10氨基烷基,C1-C5烷基氨基-C1-C5烷基,C2-C8二烷基氨基-C1-C5烷基,C3-C7环烷基-C1-C5烷基,C2-C10烷氧基-烷基,C4-C10烯氧基-烷基,C4-C10炔氧基烷基,C2-C10烷硫基-烷基,C1-C5烷基亚磺酰基-C1-C5烷基,C1-C5烷基磺酰基-C1-C5烷基,C2-C8亚烷基氨基-氧-C1-C5烷基,C1-C5烷基羰基-C1-C5烷基,C1-C5烷氧基羰基-C1-C5烷基,C1-C5氨基-羰基-C1-C5烷基,C2-C8二烷基氨基-羰基-C1-C5烷基,C1-C5烷基羰基氨基-C1-C5烷基,C2-C5烷基羰基-(C1-C5烷基)-氨基烷基,C3-C6三烷基甲硅烷基-C1-C5烷基,苯基-C1-C5烷基,杂芳基-C1-C5烷基,苯氧基-C1-C5烷基,杂芳氧基-C1-C5烷基,C2-C5烯基,C2-C5卤代烯基,C3-C8环烷基,苯基,或C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基-、C1-C3烷氧基-、C1-C3卤代烷氧基-、卤代-、氰基-或硝基-取代的苯基或杂芳基或杂芳基氨基,C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基、C1-C3烷氧基-、C1-C3卤代烷氧基-、卤代-、氰基-或硝基-取代的杂芳基氨基,二杂芳基氨基,C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基-、C1-C3烷氧基-、C1-C3卤代烷氧基-、卤素-、氰基-或硝基-取代的二杂芳基氨基,苯基氨基,C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、卤素-、氰基-或硝基-取代的苯基氨基,二苯基氨基,C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、卤素-、氰基-或硝基-取代的二苯基氨基,C3-C7环烷基氨基,C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基、C1-C3烷氧基-、C1-C3卤代烷氧基-、卤素-、氰基-或硝基-取代的C3-C7环烷基氨基,二-C3-C7环烷基氨基,C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基-、C1-C3烷氧基-、C1-C3卤代烷氧基-、卤素-、氰基-或硝基-取代的二-C3-C7环烷基氨基,C3-C7环烷氧基或C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基-、C1-C3烷氧基-、C1-C3卤代烷氧基-、卤素-、氰基-或硝基-取代的C3-C7环烷氧基;R34、R35和R36彼此独立地是氢,C1-C10烷基,C1-C10卤代烷基,C1-C10氰基烷基,C1-C10硝基烷基,C1-C10氨基烷基,C1-C5烷基氨基-C1-C5烷基,C2-C8二烷基氨基-C1-C5烷基,C3-C7环烷基-C1-C5烷基,C2-C10烷氧基-烷基,C4-C10烯氧基-烷基,C4-C10炔氧基-烷基,C2-C10烷硫基-烷基,C1-C5烷基亚磺酰基-C1-C5烷基,C1-C5烷基磺酰基-C1-C5烷基,C2-C8亚烷基氨基-氧-C1-C5烷基,C1-C5烷基羰基-C1-C5烷基,C1-C5烷氧基羰基-C1-C5烷基,C1-C5氨基-羰基-C1-C5烷基,C2-C8二烷基氨基-羰基-C1-C5烷基,C1-C5烷基羰基氨基-C1-C5烷基,C2-C5烷基羰基-(C1-C5烷基)-氨基烷基,C3-C6三烷基甲硅烷基-C1-C5烷基,苯基-C1-C5烷基,杂芳基-C1-C5烷基,苯氧基-C1-C5烷基,杂芳氧基-C1-C5烷基,C2-C5烯基,C2-C5卤代烯基,C3-C8环烷基,苯基,或C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基-、C1-C3烷氧基-、C1-C3卤代烷氧基-、卤素-、氰基-或硝基-取代的苯基或杂芳基或杂芳基氨基,C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基-、C1-C3烷氧基-、C1-C3卤代烷氧基-、卤素-、氰基-或硝基-取代的杂芳基氨基,二杂芳基氨基,C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、卤素-、氰基-或硝基-取代的二杂芳基氨基,苯基氨基,C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基、C1-C3烷氧基-、C1-C3卤代烷氧基-、卤素-、氰基-或硝基-取代的苯基氨基,二苯基氨基,C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基、C1-C3烷氧基-、C1-C3卤代烷氧基-、卤素-、氰基-或硝基-取代的二苯基氨基,C3-C7环烷基氨基,C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基-、C1-C3烷氧基-、C1-C3卤代烷氧基-、卤素-、氰基-或硝基-取代的C3-C7环烷基氨基,二C3-C7环烷基氨基,C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基-、C1-C3烷氧基-、C1-C3卤代烷氧基-、卤素-、氰基-或硝基-取代的二C3-C7环烷基氨基,C3-C7环烷氧基,C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基-、C1-C3烷氧基-、C1-C3卤代烷氧基-、卤素-、氰基-或硝基-取代的C3-C7环烷氧基,C1-C10烷氧基,C1-C10卤代烷氧基,C1-C本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种除草组合物,其中除含常规惰性制剂助剂外,还含有下列成分的混合物作为活性成分a)除草有效量的式Ⅰ化合物***(Ⅰ)其中R↓[1]和R↓[3]彼此独立地是卤素,硝基,氰基,C↓[1]-C↓[4]烷基,C↓ [2]-C↓[4]-烯基,C↓[2]-C↓[4]炔基,C↓[1]-C↓[4]卤代烷基,C↓[2]-C↓[6]卤代烯基,C↓[3]-C↓[6]环烷基,卤代C↓[3]-C↓[6]环烷基,C↓[2]-C↓[6]烷氧基烷基,C↓[2]-C↓[6]烷硫基烷基,羟基,巯基,C↓[1]-C↓[6]烷氧基,C↓[3]-C↓[6]烯氧基,C↓[3]-C↓[6]炔氧基,羰基,羧基,C↓[1]-C↓[4]烷基羰基,C↓[1]-C↓[4]羟基烷基,C↓[1]-C↓[4]烷氧基羰基,C↓[1]-C↓[4]烷硫基,C↓[1]-C↓[4]烷基亚磺酰基,C↓[1]-C↓[4]烷基磺酰基,氨基,C↓[1]-C↓[4]烷基氨基或二(C↓[1]-C↓[4]烷基)氨基;R↓[4]和R↓[5]一起为基团-C-R↓[6](R↓[7])-O -C-R↓[8](R↓[9])-C-R↓[10](R↓[11])-C-R↓[12](R↓[13])-(Z↓[1]),-C-R↓[14](R↓[15])-C-R↓[16](R↓[17])-O-C-R↓[18](R↓[19])-C- R↓[20](R↓[21])-(Z↓[2]),或-C-R↓[22](R↓[23])-C-R↓[24](R↓[25])-C-R↓[26](R↓[27])-O-C-R↓[28](R↓[29])-(Z↓[3]),其中R↓[ 6]、R↓[7]、R↓[8]、R↓[9]、R↓[10]、R↓[11]、R↓[12]、R↓[13]、R↓[14]、R↓[15]、R↓[16]、R↓[17]、R↓[18]、R↓[19]、R↓[20]、R↓[21]、R↓[22]、R↓[23]、R↓[24]、R↓[25]、R↓[26]、R↓[27]、R↓[28]和R↓[29]彼此独立地是氢,卤素,C↓[1]-C↓[4]烷基或C↓[1]-C↓[4]卤代烷基,还可以是亚烷基环,该亚烷基环连同Z↓[1]、Z↓[2]或Z↓[3]基团的碳原子一起含2-6个碳原子,并且可能被氧间断,该亚烷基环与Z↓[1]、Z↓[2]或Z↓[3]基团的碳原子稠合或螺连接,或该亚烷基环桥...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】CH 2001-9-27 1781/011.一种除草组合物,其中除含常规惰性制剂助剂外,还含有下列成分的混合物作为活性成分a)除草有效量的式I化合物 其中R1和R3彼此独立地是卤素,硝基,氰基,C1-C4烷基,C2-C4-烯基,C2-C4炔基,C1-C4卤代烷基,C2-C6卤代烯基,C3-C6环烷基,卤代C3-C6环烷基,C2-C6烷氧基烷基,C2-C6烷硫基烷基,羟基,巯基,C1-C6烷氧基,C3-C6烯氧基,C3-C6炔氧基,羰基,羧基,C1-C4烷基羰基,C1-C4羟基烷基,C1-C4烷氧基羰基,C1-C4烷硫基,C1-C4烷基亚磺酰基,C1-C4烷基磺酰基,氨基,C1-C4烷基氨基或二(C1-C4烷基)氨基;R4和R5一起为基团-C-R6(R7)-O-C-R8(R9)-C-R10(R11)-C-R12(R13)- (Z1),-C-R14(R15)-C-R16(R17)-O-C-R18(R19)-C-R20(R21)- (Z2),或-C-R22(R23)-C-R24(R25)-C-R26(R27)-O-C-R28(R29)- (Z3),其中R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28和R29彼此独立地是氢,卤素,C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基,还可以是亚烷基环,该亚烷基环连同Z1、Z2或Z3基团的碳原子一起含2-6个碳原子,并且可能被氧间断,该亚烷基环与Z1、Z2或Z3基团的碳原子稠合或螺连接,或该亚烷基环桥连接Z1、Z2或Z3基团的至少一个环原子;G是氢,-C(X1)-R30,-C(X2)-X3-R31,-C(X4)-N(R32)-R33,-SO2-R34,碱金属阳离子,碱土金属阳离子,锍或铵阳离子,或-P(X5)(R35)-R36或-CH2-X6-R37;X1、X2、X3、X4、X5和X6彼此独立地是氧或硫;R30、R31、R32和R33彼此独立地是氢,C1-C10烷基,C1-C10卤代烷基,C1-C10氰基烷基,C1-C10硝基烷基,C1-C10氨基烷基,C1-C5烷基氨基-C1-C5烷基,C2-C8二烷基氨基-C1-C5烷基,C3-C7环烷基-C1-C5烷基,C2-C10烷氧基-烷基,C4-C10烯氧基-烷基,C4-C10炔氧基烷基,C2-C10烷硫基-烷基,C1-C5烷基亚磺酰基-C1-C5烷基,C1-C5烷基磺酰基-C1-C5烷基,C2-C8亚烷基氨基-氧-C1-C5烷基,C1-C5烷基羰基-C1-C5烷基,C1-C5烷氧基羰基-C1-C5烷基,C1-C5氨基-羰基-C1-C5烷基,C2-C8二烷基氨基-羰基-C1-C5烷基,C1-C5烷基羰基氨基-C1-C5烷基,C2-C5烷基羰基-(C1-C5烷基)-氨基烷基,C3-C6三烷基甲硅烷基-C1-C5烷基,苯基-C1-C5烷基,杂芳基-C1-C5烷基,苯氧基-C1-C5烷基,杂芳氧基-C1-C5烷基,C2-C5烯基,C2-C5卤代烯基,C3-C8环烷基,苯基,或C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基-、C1-C3烷氧基-、C1-C3卤代烷氧基-、卤代-、氰基-或硝基-取代的苯基或杂芳基或杂芳基氨基,C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基、C1-C3烷氧基-、C1-C3卤代烷氧基-、卤代-、氰基-或硝基-取代的杂芳基氨基,二杂芳基氨基,C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基-、C1-C3烷氧基-、C1-C3卤代烷氧基-、卤素-、氰基-或硝基-取代的二杂芳基氨基,苯基氨基,C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、卤素-、氰基-或硝基-取代的苯基氨基,二苯基氨基,C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基-、C1-C3烷氧基-、C1-C3卤代烷氧基-、卤素-、氰基-或硝基-取代的二苯基氨基,C3-C7环烷基氨基,C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基-、C1-C3烷氧基-、C1-C3卤代烷氧基-、卤素-、氰基-或硝基-取代的C3-C7环烷基氨基,二-C3-C7环烷基氨基,C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基-、C1-C3烷氧基-、C1-C3卤代烷氧基-、卤素-、氰基-或硝基-取代的二-C3-C7环烷基氨基,C3-C7环烷氧基或C1-C3烷基-、C1-C3卤代烷基-、C1-C3烷氧基-、C1-C3卤代烷氧基-、卤素-、氰基-或硝基-取代的C3-C7环烷氧基;R34、R35和R36彼此独立地是氢,C1-C10烷基,C1-C10卤代烷基,C1-C10氰基烷基,C1-C10硝基烷基,C1-C10氨基烷基,C1-C5烷基氨基-C1-C5烷基,C2-C8二烷基氨基-C1-C5烷基,C3-C7环烷基-C1-C5烷基,C2-C10烷氧基-烷基,C4-C10烯氧基-烷基,C4-C10炔氧基-烷基,C2-C10烷硫基-烷基,C1-C5烷基亚磺酰基-C1-C5烷基,C1-C5烷基磺酰基-C1-C5烷基,C2-C8亚烷基氨基-氧-C1-C5烷基,C1-C5烷基羰基-C1-C5烷基,C1-C5烷氧基羰基-C1-C5烷基,C1-C5氨基-羰基-...

【专利技术属性】
技术研发人员:U霍夫尔
申请(专利权)人:辛根塔参与股份公司
类型:发明
国别省市:CH[瑞士]

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