【技术实现步骤摘要】
本公开总体上涉及流体小滴喷射。
技术介绍
在流体小滴喷射装置的一些实施方案中，基板如硅基板包括流体泵送室，下降部 (descender)和在其中形成的喷嘴。例如在印刷作业中，可以将流体小滴从喷嘴喷射到介质 上。喷嘴流体连接至下降部，所述下降部流体连接至流体泵送室。流体泵送室可以通过换 能器如热或压电致动器致动，以从喷嘴喷射流体小滴。介质可以相对于流体喷射装置移动， 并且流体小滴从喷嘴的喷射可以与介质的移动同步，以将流体小滴放置在介质上的所需位 置。流体喷射装置典型地包括多个喷嘴，并且通常适宜的是，喷射均勻尺寸和速度的并且在 相同方向上的流体小滴，以在介质上提供流体小滴的均勻沉积。
技术实现思路
在一个方面中，流体喷射装置包括基板，其具有多个用于流体流动的流体通路和 多个喷嘴，所述多个喷嘴与所述流体通路流体连接；多个致动器，所述多个致动器位于所述 基板上面，使所述多个流体通路中的流体从所述多个喷嘴喷射；和保护层，所述保护层形成 于所述多个致动器的至少一部分上，并且所述保护层对湿气的内渗透率低于2. 5x 10- / m ·天。实施方案可以包括一个或多个下列特征。可以...
【技术保护点】
１．一种流体喷射装置，其包括：基板，所述基板具有多个用于流体流动的流体通路和多个喷嘴，所述喷嘴与所述流体通路流体连接；多个致动器，所述多个致动器位于所述基板上面，使所述多个流体通路中的流体从所述多个喷嘴喷射；和保护层，所述保护层形成于所述多个致动器的至少一部分上，并且所述保护层对湿气的内渗透率低于２．５ｘ １０－３ｇ／ｍ·天。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：克里斯托夫·门策尔，安德烈亚斯·比布尔，保罗·A·霍伊辛顿，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
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