本发明专利技术涉及用于对熔融玻璃的自由表面上方的气氛进行控制的设备。用于保持具有自由表面(114、203)的熔融玻璃(113、202)的腔室(101、201)包括风箱(4、204)、密封环(10、210)和盖(30、50、230)。风箱联接于腔室，而密封环联接于风箱。密封环可包括一个或多个与腔室的操作相关联的各种装置，这些装置包括：气氛供给管(14、214)，电引线(12)、压力差传感器(16、216)、热电偶、氧传感器和/或辅助端口(18)。密封环还包括具有内直径(22)的上部开口(21)。盖可拆除地联接于密封环，且在密封环的上部开口的内直径上方延伸，其中，密封环设置在盖和腔室之间。该盖可包括各种分开的可拆除部段(30、32、34、35、37、50、52、54)。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于对熔融玻璃的自由表面处和上方的气氛进行控制的设备，具体地说，对于存在于由钼系材料制成的腔室中的熔融玻璃的自由表面处和上方的气氛进行控制。
技术介绍
通过各种本领域已知技术来生产玻璃板，这些技术包括浮动工艺和下拉工艺，例如还被称为熔融工艺的溢流式下拉工艺。在所有这些工艺中，流动的熔融玻璃形成为连续的玻璃带，该玻璃带分为各个玻璃板。对于具有高熔融温度的玻璃来说，例如那些用于生产IXD或其它的显示器基板的玻璃来说，熔融设备、精炼设备、搅拌设备、调节设备、输送设备和成形设备中的至少一些设备由包括钼系金属的材料制成，而钼和钼合金，例如钼-铑合金是最常用的材料。作为在此使用的钼系金属包括钼、铑、钯、铱、铼、钌和锇。由于使用钼系金属而存在的含钼缺陷，已成为生产LCD玻璃基板中长期存在的问题。共同受让的US公开专利申请2009/0217708(此后为‘708申请)讨论钼系金属缺陷的一个来源，即在制造工艺中、在玻璃的自由表面的位置处，例如钼的钼系金属的凝结物的形成。‘708申请还讨论一种减少凝结物基、钼系缺陷的数量的方式，该方式包括在熔融玻璃的自由表面处和上方，形成基本隔离/控制的、限制容积的、充有气体的空间(此后简称为“限制容积的控制气氛”)。然而，存有熔融玻璃的自由表面的腔室还可容纳在囊中，该囊具有其自身的控制环境，从而减少由于渗过含钼壁的氢而引起的玻璃板中夹附气体的产生。此外， 用于减少钼缺陷的环境的特征并不与用于减少氢渗入的环境的特征相同。因此，限制容积的控制气氛与囊的气氛隔开，且与囊的气氛包括不同的组成物。‘708申请还讨论用于形成限制容积的控制气氛的装置，即用于使限制容积的空气气氛与囊的气氛隔开的装置。
技术实现思路
本申请建立在‘708申请中的装置的基础上。也就是说，本申请的设备还使限制容积的控制气氛与囊的气氛隔开，然后包括便于对腔室和/或设备本身进行维护/维修的结构和功能，熔融玻璃的自由表面存在于腔室中，而该设备用于形成限制容积的控制气氛。此外，本申请的设备在便于上述维护和/或维修的同时，还使总设备环境对于限制容积的控制气氛的干扰最小，总设备环境即囊外、但存在于如下设施中的环境该设施容纳保持具有自由表面的熔融玻璃的囊和/或腔室。设备的各种方面或那些方面的组合可引起上述和其它优点。一些方面包括，例如设备的设计、尺寸和设备相对于与腔室相关联的装置的比例； 设备本身的分段性质；保持设备的各种服务连接的结构和/或保持具有自由表面的熔融玻璃的腔室；以及风箱，该风箱用于使腔室能在保持其功能的同时，即使在腔室经受热(或其它)引起的尺寸变化的情形下，仍包含限制容积的控制气氛，以下将详细阐述附加特征和优点，而且这些附加特征和优点部分地对于本领域的技术人员来说可以从说明书中显而易见，或者可通过以下说明书以及附图中所述的本专利技术的实践而认识到。应当理解，以上的总体说明和以下的详细说明都只是本专利技术的示例，意在提供对要求保护的本专利技术的本质和特征的总体或构架的理解。包括附图以提供本专利技术的原理的进一步理解，附图包含在该说明书中并构成该说明书的一部分。这些附图示出一个或多个实施例，且与说明书一起借助示例来解释本专利技术的原理和操作。应理解的是，可以以任何组合和所有的组合来使用在说明书和附图中披露的本专利技术的各种方面。借助非限制性示例，如下所述可将本专利技术的各种方面彼此组合根据第一方面，提供一种用于保持熔融玻璃的设备，该设备包括腔室，该腔室用于保持熔融玻璃；风箱，该风箱联接于腔室； 密封环，该密封环联接于风箱，其中，密封环包括一个或多个如下元件气氛供给管、电引线、压力差传感器、热电偶、氧传感器和辅助端口，密封环还包括具有内直径的上部开口，其中，气氛供给管/排出管、电引线、压力差传感器、热电偶、氧传感器和辅助端口中的至少一个设置在上部开口和腔室之间；以及盖，该盖可拆除地联接于密封环，且在密封环的上部开口的内直径上方延伸，其中，密封环设置在盖和腔室之间。根据第二方面，提供如方面1所述的设备，其中，密封环通过风箱联接于腔室，风箱通过密封环联接于盖，且还包括延伸到腔室中的搅拌杆。根据第三方面，提供如方面1所述的设备，其中，盖通过风箱联接于密封环，风箱通过密封环联接于腔室，且还包括管和压环，管和压环联接于密封环和腔室之间。根据第四方面，提供如方面3所述的设备，其中，腔室是立管，且该设备还包括探测器杆，该探测器杆自立管延伸、通过密封环、通过风箱且通过盖，其中探测器杆包括上部，该上部设置在盖的与其上设有密封环的一侧相对的一侧上；以及支承臂，该支承臂联接于探测器杆的上部，其中，支承臂包括桁架。根据第五方面，提供如方面4所述的设备，该设备还包括齿条，该齿条固定地联接于支承臂且包括纵向轴线；驱动电动机，该驱动电动机联接于齿条，从而使齿条沿其纵向轴线运动；以及第一约束件和第二约束件，该第一约束件和第二约束件联接于齿条，从而对齿条通过驱动电动机的运动进行导向，其中，第一约束件和第二约束件沿纵向轴线的方向彼此移置。根据第六方面，提供一种用于保持熔融玻璃的设备，该设备包括腔室，该腔室用于保持熔融玻璃，且腔室具有内直径；下盖，该下盖可拆除地联接于腔室，且设置在腔室的内直径上方/在该内直径上方延伸，其中，下盖具有上部开口，该上部开口具有直径；以及上盖，所述上盖可拆除地联接于下盖，且设置在腔室的内直径和上部开口的直径上方/在腔室的内直径和上部开口的直径上方延伸。根据第七方面，提供一种搅拌设备，该搅拌设备包括搅拌腔室，该搅拌腔室包含熔融玻璃，该熔融玻璃在正常操作状态中具有自由表搅拌杆，该搅拌杆延伸到搅拌腔室中，且设置在正常操作位置，搅拌杆可沿第一轴向方向、从正常操作位置到移置位置运动过第一距离；搅拌叶片，该搅拌叶片联接于搅拌杆，且当搅拌杆处于正常操作位置时，该搅拌叶片在玻璃自由表面下方的第二距离处、设置在搅拌腔室中，其中，搅拌杆从正常操作位置朝移置位置的轴向运动使搅拌叶片朝玻璃自由表面运动；以及障碍物，该障碍物联接于搅拌杆，其中，障碍物将搅拌杆沿第一方向的轴向运动限制到第一距离， 其中，第一距离大于或等于第二距离。根据第八方面，提供如方面7所述的设备，该设备还包括联接于搅拌腔室的盖，其中，障碍物通过与盖相互作用而限制搅拌杆的轴向运动。根据第九方面，提供如方面1或8中的任何一个方面所述的设备，其中，盖可包括上盖和分开的下盖。根据第十方面，提供如方面6或9中的任何一个方面所述的设备，其中，上盖和下盖中的一个盖包括两个蛤状罩壳段。根据第十一方面，提供如方面6或9中的任何一个方面所述的设备，其中，上盖和下盖中的一个盖包括下盖，且该下盖还包括中心部分，两个蛤状罩壳段可拆除地联接于该中心部分。根据第十二方面，提供如方面11所述的设备，其中，该中心部分包括两个彼此联接的、分开的可拆除的盖段。根据第十三方面，提供如方面12所述的设备，其中，该设备还包括保持环，中心部分和两个蛤状罩壳段联接于该保持环。根据第十四方面，提供如方面6或9中任一方面所述的设备，下盖包括最大内直径，上盖包括最大内直径，且上盖的最大内直径小于下盖的最大内直径。根据第十五方面，提供如方面14所述的设备，其中，障碍物包括直径，且上盖的最大内直径大于该障碍物的直径。根据第十六方面，提供如方面6或9中任一方面本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种用于保持熔融玻璃的设备，包括：腔室，所述腔室用于保持所述熔融玻璃；风箱，所述风箱联接于所述腔室；密封环，所述密封环联接于所述风箱，其中，所述密封环包括一个或多个如下元件：气氛供给管、电引线、压力差传感器、热电偶、氧传感器和辅助端口，所述密封环还包括具有内直径的上部开口，其中，气氛供给管／排出管、电引线、压力差传感器、热电偶、氧传感器和辅助端口中的一个或多个设置在所述上部开口和所述腔室之间；以及盖，所述盖可拆除地联接于所述密封环，且在所述密封环的上部开口的内直径上方延伸，其中，所述密封环设置在所述盖和所述腔室之间。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：G·D·安吉里斯，K·S·瑞戈尔，
申请(专利权)人：康宁股份有限公司，
类型：发明
国别省市：US
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