含有药物的蜡基质粒子的制造方法、用于该方法的挤出机、及含有西洛他唑的缓释制剂技术

本发明专利技术的目的在于提供一种以简便的方法制造含有药物的蜡基质粒子特别是平均粒径１ｍｍ以下的含有药物的蜡基质粒子，且在从熔融至喷雾的工序中不发生由熔融药物的重结晶导致的液体阻塞。经过以下工序（ｉ）及（ｉｉ），制造含有药物及蜡的含有药物的蜡基质粒子：工序（ｉ）：向挤出机中供给所述药物及蜡，所述挤出机中滚筒（１）及冲模的温度设定为所述蜡的熔点以上的温度；工序（ｉｉ）：一边在所述挤出机内熔融混炼所述药物及蜡，一边从喷嘴（５）向温度低于所述蜡的熔点的环境气体中喷雾排出所述药物及蜡的熔融混炼物，由此成型为粒子状，所述喷嘴（５）直接安装在冲模部（３）上，所述冲模部（３）设置在所述挤出机滚筒（１）的前端。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
含有至少１种药物及至少１种蜡的含药物蜡基质粒子的制造方法，包含以下工序，　工序（ｉ）：向挤出机中供给所述至少１种药物及至少１种蜡，所述挤出机的滚筒及冲模的温度设定为所述蜡的熔点以上的温度，及　工序（ｉｉ）：一边在所述挤出机内熔融混炼所述药物及蜡，一边从喷嘴向温度低于所述蜡的熔点的环境气体中喷雾排出熔融混炼的所述药物及蜡的混合物，由此成型为粒子状，所述喷嘴直接安装在冲模部，所述冲模部设置于所述挤出机滚筒的前端。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：友平裕三，山口恭生，
申请(专利权)人：大塚制药株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]