微粒数测量方法技术

本发明专利技术提供一种能够准确地测量因特定的原因产生的微粒的数量的微粒数测量方法。通过玻璃窗(24)向主排气管(16)内照射激光(25)，利用光检测器(21)接收从与该激光(25)交叉的微粒(P1、P2)产生的散射光(L1、L2)，根据所接收的该散射光来测量微粒数时，将不移动的微粒(P2)视为附着于玻璃窗(24)的污垢，从在主排气管(16)内测量得到的微粒数中排除不移动的微粒(P2)的数量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，特别是涉及一种接收由被照射激光的微粒产生的散射光来测量微粒数的。
技术介绍
以往，在对晶圆(wafer)进行处理的基板处理装置等中，为了掌握处理室内部、排气管内部的状况而对在处理室内部、排气管内部移动的微粒的数量进行测量。在微粒数的测量中通常使用ISPM(In Situ Particle Monitor 原位粒子监测仪)。ISPM至少具有激光振荡器和光检测器，将所接收的散射光转换为电信号并根据电信号的强度等来测量微粒数，其中，上述激光振荡器向处理室内部、排气管内部照射激光，上述光检测器接收微粒通过激光时从该微粒产生的散射光(下面称为“微粒散射光”)。另外，在利用等离子体对晶圆进行处理的基板处理装置中，由于在处理室内部产生等离子体，因此光检测器除了接收微粒散射光以外还接收等离子体发光。因而，有可能将等离子体发光误认为微粒散射光，从而难以正确地测量微粒数。另外，近年来，开发出了微粒监测方法(例如参照专利文献1)和处理室内部污染状况的实时监测方法(例如参照专利文献幻，其中，在上述微粒监测方法中计算对处理室内部进行观测而得到的获取图像与标准背景图像之间的亮度差来防止观测微粒的灵敏度降低，该标准背景图像与基板处理装置的运转状态相对应，在上述处理室内部污染状况的实时监测方法中以规定的波长成分来分离散射光，提取期望的频率成分来将微粒散射光与等离子体发光区分开。另外，还存在如下情况在使激光、散射光透过的激光振荡器的窗、电子倍增管的窗上附着较大的异物(微粒)而产生较大的散射光，或者来自外部的较强散射光、例如宇宙射线进入到处理室内部。在这种情况下，使用以下方法通过从所接收的散射光去除规定强度以上的散射光，在微粒数的测量中消除来自外部的较强散射光的影响。另一方面，近年来，从晶圆制造出的半导体器件的加工精细化越来越发展，对这样的半导体器件的性能带来影响的微粒的大小也降低到几十nm程度，因此需要正确地掌握几十nm程度大小的微粒的数量。另外，为了更正确地掌握处理室内部、排气管内部的状况，还要求从飞散的多个微粒仅选择由特定的原因产生的微粒并正确地掌握其数量。然而，还存在如下情况由特定的原因以外的原因也会产生几十nm程度的微粒。 另外，也有时在激光振荡器的窗、光电倍增管的窗上附着几十nm程度的微粒。即，即使对几十nm程度的微粒的数量进行测量，其数量中也包括由特定的原因产生的微粒的数量以及由特定的原因以外的原因产生的微粒的数量。因而，需要从所测量的几十nm程度的微粒的数量中排除由特定的原因以外的原因产生的微粒的数量。专利文献1 日本特开2000-155086号公报专利文献2 日本特开平11-330053号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题然而，上述以往的方法都根据散射光的强度、即微粒的大小来区分散射光，因此在虽然大小相同但产生原因互不相同的多个微粒混合存在的状况下，难以正确地测量由特定的原因产生的微粒的数量。本专利技术的目的在于能够正确地测量由特定的原因产生的微粒的数量的微粒数测量方法。用于解决问题的方案为了达到上述目的，第一专利技术所述的对因特定的原因而产生并且在规定空间内移动的微粒的数量进行测量，该的特征在于，从在上述规定空间内测量得到的微粒的数量中排除如下的微粒的数量，该微粒是移动状态为在上述规定空间内以比规定移动速度低的移动速度进行移动或者在上述规定空间内沿着与规定移动方向相反的方向进行移动的微粒。第二专利技术所述的的特征在于，在第一专利技术所述的中，通过窗向上述规定空间内照射激光，接收从与该激光交叉的微粒产生的散射光，根据所接收的该散射光来测量微粒的数量，将不移动的微粒视为附着于上述窗的污垢，从在上述规定空间内测量得到的微粒的数量中排除在上述规定空间内不移动的微粒的数量。第三专利技术所述的的特征在于，在第一专利技术所述的中，上述特定原因是指与向基板处理装置的处理室进行大流量的气体吹扫相伴的对上述处理室内部进行的微粒去除处理。第四专利技术所述的的特征在于，在第三专利技术所述的中，上述规定空间是指上述处理室的内部，将上述处理室的内部抽真空，上述移动状态中的上述规定移动速度为1米/秒。第五专利技术所述的的特征在于，在第三专利技术所述的中，上述规定空间是指从上述处理室内排出气体的排气管内部，将上述处理室的内部抽真空，上述移动状态中的上述规定移动速度为2米/秒。第六专利技术所述的的特征在于，在第一专利技术所述的中，上述规定空间是指从上述处理室内排出气体的排气管内部，将上述处理室内部抽真空， 上述移动状态中的上述规定移动方向为上述气体流过上述排气管内部的方向。专利技术的效果根据第一专利技术所述的，从在规定空间中测量得到的微粒的数量中排除如下的微粒的数量，该微粒是移动状态为在规定空间内以低于规定移动速度的移动速度进行移动或者沿着与规定移动方向相反的移动方向进行移动的微粒。如果微粒的大小相同但产生原因不同，则移动速度不同，因此通过排除在规定空间内以低于规定移动速度的移动速度进行移动或者沿着与规定移动方向相反的移动方向进行移动的微粒的数量，来能够正确地测量因特定的原因产生的微粒的数量。根据第二专利技术所述的，从在规定空间内测量得到的微粒的数量中排除在规定空间中不移动的微粒的数量。附着于窗上的作为污垢的微粒不移动。因而，通过排除在规定空间中不移动的微粒的数量，来能够正确地排除附着于窗上的作为污垢的微粒的数量。根据第三专利技术所述的，特定的原因是指与向基板处理装置的处理室进行大流量的气体吹扫相伴的对处理室内部进行的微粒去除处理。由于该微粒去除处理而产生的微粒加载于由大流量的气体吹扫而产生的流速较快的气体流而移动，因此移动速度较快。因而，通过排除在规定的空间内以低于规定移动速度的移动速度进行移动的微粒的数量，来能够正确地测量由微粒去除处理产生的微粒的数量。根据第四专利技术所述的，规定空间是指处理室内部，将处理室内部抽真空，上述移动状态中的规定移动速度为1米/秒。由微粒去除处理产生的微粒加载于由大流量的气体吹扫而产生的流速较快的气体流在处理室内部以1米/秒以上的速度进行移动。因而，通过排除以低于1米/秒的移动速度移动的微粒的数量，来能够正确地测量在处理室内部由微粒去除处理产生的微粒的数量。根据第五专利技术所述的，规定空间是指从处理室内部排出气体的排气管内部，将处理室内部抽真空，上述移动状态中的规定移动速度为2米/秒。由微粒去除处理产生的微粒加载于由大流量的气体吹扫而产生的流速较快的气体流在排气管内部以2 米/秒以上的速度进行移动。因而，通过排除以低于2米/秒的移动速度移动的微粒数，来能够正确地测量在排气管内部由微粒去除处理产生的微粒的数量。根据第六专利技术所述的，规定空间是指从处理室内部排出气体的排气管内部，将处理室内部抽真空，移动状态中的规定的移动方向为气体流过排气管内部的方向。被在位于排气管下游的泵中高速旋转的旋转翼反弹回来的微粒在排气管内部沿着与气体流动方向相反的移动方向进行移动，因此通过排除沿着与气体流动方向相反的移动方向进行移动的从泵反冲的微粒的数量，来能够正确地测量由微粒去除处理产生的微粒的数量。附图说明图1是概要性地表示应用本专利技术的第一实施方式所涉及的的基板处理装置的结构的截面图。图2是用于说明图1的基板处理装置中的ISPM的图，图2的(A)是该ISPM的水平截面图，图2的(B)是本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种微粒数测量方法，对因特定原因而产生并且在规定空间内移动的微粒的数量进行测量，该微粒数测量方法的特征在于，从在上述规定空间内测量得到的微粒的数量中排除如下的微粒的数量，该微粒是移动状态为在上述规定空间内以比规定移动速度低的移动速度进行移动或者在上述规定空间内沿着与规定移动方向相反的方向进行移动的微粒。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：长池宏史，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP